Устройство для нанесения мономолекулярных пленок на подложку

Устройство для нанесения мономолекулярных пленок на подложку

Реферат

 

1. Устройство для нанесения мономолекулярных пленок на подложку, содержащее ванну для рабочей жидкости, средства слива рабочей жидкости из ванны и держатель подложки, отличающееся тем, что, с целью повышения качества наносимых пленок, две противоположные стенки ванны выполнены наклонными к ее днищу, а две другие боковые стенки взаимно параллельны и перпендикулярны днищу, причем держатель подложки установлен на одной из наклонных стенок ванны с возможностью размещения подложки в плоскости этой стенки по всей ее ширине, а углы наклона стенок связаны между собой соотношением cos+sinctg+1 = 0, где - угол наклона стенки, на которой установлен держатель подложки; - угол наклона стенки, свободной от держателя подложки.

2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что стенка ванны, на которой установлен держатель подложки, установлена перпендикулярно днищу ванны.

3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что держатель подложки выполнен в виде пазов на боковых стенках ванны, а одной из наклонных стенок ванны является подложка, на которую наносится пленка.

4. Устройство по п.1, отличающееся тем, что средства слива рабочей жидкости из ванны представляют собой пробку из капиллярно-пористого материала, установленную в отверстии, выполненном в днище ванны.