Способ изготовления контактных растров

Способ изготовления контактных растров

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к способу изготовления контактных растров и позволяет расширить технологические возможности способа за счет управления градационными характеристиками растра. Для этого осуществляют многократное поэлементное экспонирование фотоматериала предварительно сформированными световыми импульсами. Причем размеры поперечного сечения формируемых импульсов изменяют перед каждым последующим экспонированием. 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (51)5 G 03 F 5/16

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ и

Яотн1= отн +, 4 отн1. мин

1=-1

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4740008/12 (22) 11.07.89 (46) 07.11.91. Бюл. М 41 (71) Московский полиграфический институт (72) 3,К.Касьянова и С.А.Сергеев (53) 777.324(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

t4 1548770. кл. 6 03 F 5/16, 03.05.88. (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОНТАКТНЫХ РАСТРОВ

Изобретение относится к растровым фоторепродукционным процессам.

Целью изобретения является расширение технологических возможностей способа за счет управления градационными характеристиками растра.

Способ выполняют следующим образом.

Осуществляют многократное поэлементное экспонирование фотоматериала на прозрачной основе световыми импульсами, которые предварительно формируют с заданным шагом изменения их интенсивности и длительности. При этом изменяют размеры поперечного сечения световых импульсов в плоскости фотоматериала.

Для каждого 1-го дозированного экспонирования программно задают конфигурацию и относительную площадь $0тн растрового элемента, рассчитываемую по формуле.. Ы 1689916 А1 (57) Изобретение относится к способу изготовления контактных растров и позволяет расширить технологические возможности способа за счет управления градационными характеристиками растра. Для этого осуществляют многократное поэлементное экспонирование фотоматериала предварительно сформированными световыми импульсами.

Причем размеры поперечного сечения формируемых импульсов изменяют перед каждым последующим экспонированием. 1 табл.

Заданную конфигурацию элемента контактного растра формируют программой включения модуляторов, управляющих экспонированием. Минимальную освещенность Е1фотоматериала в плоскости записи, обеспечивающую экспозицию Н1 дозированного экспонирования, выбирают таким

1 образом, чтобы Н > Ho, где Ho = — (S—

S светочувствительность экспонирующего фотоматериала). При этом приращение оптической плотности на фотоматериале составляет Л Di? Dnop, где О np -- пороговая оптическая плотность экспонируемого фотоматериала. Требуемое значение Е1 обеспечивают регулировкой интенсивности лазерного источника света на этапе его настройки. Линиатуру контактного растра задают линиатурой и масштабам записи.

Градационная характеристика контактного растра, его интервал оптических плотностей и число дискретно воспроизводимых

ГРаДаЦИй ОПРЕДЕЛЯЮТ ШаГОМ ЛЯтн1 ИЗМЕНЕния Sor < 50тн < S

1689916 быть как постоянным, так и переменным), значением Hi и сенситометрическими характеристиками фотоматериала, используемого для записи.

Изготовление контактного растра осуществляют путем многократной записи на фотоматериал растровых элементов с S»H " " на первом этапе многократной записи с шагом ЛЯ0тн, определяющим число воспроизводимых градаций, до $0тн м " на последнем этапе многократной записи, Таким образом, формируют элементы контактного растра с заданной градационной характеристикой.

Пример. Осуществляют настройку лазерного источника излучения с учетом сенситометрических характеристик фотоматериала, Осуществляют выбор экспозиции Н дозированного экспонирования Н = Е ti, где

Ei — освещенность фотоматериала в его плоскости при i-м дозированном экспонирова.нии; с — время экспонирования каждого элемента растровой точки при 1-м дозированном экспонировании.

Для определения этих параметров используют мощность |И лазерного источника излучения, эффективность и лазерной оптической системы, линиатуру Lz записи, линейную скорость V развертки,,число m расщепленных лучей лазера, число r прогонов, за которое при электронной реализации растрирования формируют из субэлементов одну растровую точку

Г

ti

1з m V

Ei = Емакс т1, где Емакс — освещенность, создаваемая лазерным источником излучения в плоскости оротоматериала, т1 — коэффициент ослабления, обеспечивающий заданное значение Еь который выбирают с учетом сенситометрических характеристик экспонируемого фотоматериала.

Емакс = 681 V (Л) где V (Л) — относительная спектральная световая эффективность излучения.

При изготовлении контактного растра линиатурой lp = 60 лин/см на цветокорректоре марки ЭЦМ растровую точку формируют за r = 2 прогонов, следовательно, Q=120, 5 лин/см, Число расщепленных лучей m = b.

Тогда при линейной скорости записи V =

= 100 м/с tl = 2,8 10 с.

В ЭЦМ используют аргоновый лазер мощностью W =5 мВт с излучением в сине10 зеленой зоне спектра, для которого V (il) =

= 0,17. Эффективность лазерной оптической системы и 0,05.

ДлЯ пРивеДенных Данных Емакс =

= 0,6 10 лк. Таким образом, значение

Нмзкс В ПЛОСКОСТИ ЗаПИСИ раВНО 1,68ЛК.С, Экспонирование осуществляют на фотопленку ФТ вЂ” 31, которую обрабатывают в мелкозернистом выравнивающем проявителе. Минимальное значение экспозиции

20 составляет Н ин = 0,16 лк с. Минимальное значение экспозиции Нм«формируют уменьшением экспозиции Н»«, ослабляя световой поток лазерного источника света в

К= "раз. В примере К =10,5.

Н мин

Таким образом. коэффициент ослабления z излучения лазерного источника света при дозированном экспонировании равен

30 rl = — = 0,1.

К

Характеристики изготовленного контактного растра приведены в таблице.

Формула изобретения

Способ изготовления контактных растров, заключающийся в формировании световых импульсов, отличающихся интенсивностью и длительностью, многократном поэлементном экспонировании фотоматериала сформированными импульсами и его последующей химикофотографической обработке, отл ич а ю щ и и ся тем, что, с целью расширения технологических возможностей способа за счет управления градационными характеристиками растра, световые импульсы формируют с изменением размеров их поперечного сечения в плоскости фотоматериала.

1689916

Продолжение таблицы

Составитель Е.Позняк

Техред М.Моргентал Корректор С.Шевкун

Редактор И.Шулла

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101

Заказ 3813 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5