Способ обработки оптических деталей

Способ обработки оптических деталей

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к области технологии изготовления оптических деталей и• 2. •'• ,; ;'.- .. ,. 'может быть использовано в оптико-механической и электронной промышленности при изготовлении подложек зб1ркал из кварца, силикатныхстекол и ситалла. Целью изобретения является повышение качества обработанной поверхности и выхода год^!.)^ изделий за счет уменьшения коэффициента рассеяния света. Абразивная обработка оптических деталей включает шлифование суспензией электрокорунда и полирование ВОДНОЙ суспензией полирита. В суспензию дополнительно вводят смесь порошков графита и мела в количестве 30-50 мае, %'от твердой фазы суспензии всоотношении графита и мела для шлифования графит/мел « 9:1-1:1, для полирования графит/мел = 1:9- 1:1. 1 табл.^^

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (я)з В 24 В 1/00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4787902/08 (22) 30.01.90 (46) 07.02.92. Бюл. М 5 (71) Киевский филиал Научно-исследовательского технологического института оптического приборостроения (72) А.П.Жужнева, А.А.Дворский, В.П.Мас- . лов, А.И.Бусель, В.Д.Ворожбит и В.Г.Рябоконь (53) 621.923.5 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

N. 1219325, кл. В 24 В 13/00. 1985. (54) СПОСОБ ОБРАБОТКИ ОПТИЧЕСКИХ . ДЕТАЛЕЙ (57) Изобретение относится к области технологии изготовления оптических деталей и

Изобретение относится к технологии изготовления оптических деталей и может быть использовано в оптико-механической и электронной промышленности при изготовлении подложек зеркал из кварца, силикатных стекол и ситалла.

Целью изобретения является повышеwe качества обработанной поверхности и выхода годных изделий.

К качеству полированных поверхностей подложек диэлектрических зеркал предъявляются высокие требования, так как наличие на обработанной рабочей поверхности различных дефектов (царапин, остаточного нарушенного слоя, ласин) увеличивает потери света и.снижает качество передаваемого изображения оптической деталью.

„„! Ы,, 1710303 А1 может быть использовано в оптико-механической и электронной промышленности при изготовлении подложек зеркал из кварца, силикатных стекол и ситалла. Целью изобретения является повышение качества обработанной поверхности и выхода год@Ь изделий за счет уменьшения коэффиц ента рассеяния света. Абразивная обработка oriтических деталей включает шлифование суспензией электрокорунда и полирование водной суспензией полирита. В суспензию дополнительно вводят смесь порошков графита и мела в количестве 30 —.50 мас.$ бт твердой фазы суспензии в соотношении графита и мела для шлифования графит/мел

9:1-1:1, для полирования графит/мел - 1:91:1, 1 табл.

Сравнительные испытания известного и у предлагаемого способов абразивной обра дД ботки проводят на плоскопараллельных пластинах из кварцевого стекла КВ диамет- О ром 30 мм, толщиной 7 мм, к полированным поверхностям которых предъявляются тре- . С) бования: общая ошибка формы поверхности (ф3

N - 0,3-0,5 интерференционной полосы, местная ошибка формы поверхности Ьй -0,1 у интерференционной полосы, класс чистоты °, P 0-20, коэффициент рассеяния о- 0,0006-0,0008Я; из силикатного стекла

К8 диаметром 18 мм, толщиной 5 мм, к полированным поверхностям которых предъявляются требования: общая ошибка формы поверхности N 0,5 интерференционной полосы, местная ошибка формы поверхности Ь N 0,25 интерференционной полосы, 1710303

45 чистота поверхности P = 0-20, коэффициент рассеяния o 0.0006-0,0008ь; из ситалла марки СО-115-М размером 60- х 40. толщиной 10 мм, к полированным поверхностям которых предъявляются требования: общая ошибка формы поверхности N - 0,3-0,5 интерференционной полосы, местная ошибка формы поверхности Ь N 0,1 интерференционной полосы, чистота поверхности P -1, коэффициент рассеяния сг 0,004-0,006, Шлифование и полирование деталей проводят на шлифовально-полировальном станке типа ЗШП2/20 по методу глубокого полирования по РТМ 3-46-70 абразивными суспензиями, содержащими для шлифования водную суспензию микропорошка корунда марки М28-М10 и 30-50 мас.$ от массы корунда смесь порошков графита и мела в соотношении 9:1-1:1, для полирования водную суспензию полирита и 30-50 мас. от массы полирита смесь порошков графита и мела в соотношении 1:9-1:1, Точность формы оптической поверхности определяют пробным стеклом по числу интерференционных полос.

Чистоту полированной поверхности

-оценивают по коэффициенту рассеяния подложек зеркал после полирования, определяемого на лазерной установке измерения расСеяния (ЛУИР). Измерение коэффициента рассеяния диэлектрических подложек зеркал проводят на длине волны

6328 А в сравнении с коэффициентом рассеяния эталонного зеркала и рассчитывают по формуле а о=а Ь 100 где а — показания стрелочного прибора синхродетектора при измерении подложки зеркала;

Ь вЂ” показания прибора при измерении эталона;

0 - коэффициент рассеяния эталонной пластины, $.

Сравнительные испытания приведены в таблице.

Сравнительный анализ показывает, что наличие в водной суспензии для шлифования на основе электрокорунда и суспензии для полирования на основе полирита смеси микропорошков графита и мела в определенном соотношении позволяет снизить деформации и нарушения приповерхностного слоя при обработке стекла за счет того. что в процессе обработки на инструменте слой, образованный суспензией, включающей мел и графит, играет роль демпфера. способствующего созданию условий по изменению характера хрупкого разрушения стекла при шлифовании электрокорундом, в результате чего снижается величина нарушенного слоя, При полировании уменьшение величины нарушенного слоя позволяет сократить общее время полирования. Введение мела и графита в полиритную суспензию создает более мягкие условия проведения процесса полирования, что способствует исключению царапин и ласин на полированной поверхности. В результате этого получают высокое качество полированной поверхности с низким коэффициентом рассеяния света. Это позволяет повысить процент выхода годных деталей.

Формула изобретения

Способ обработки оптических деталей иэ кварца, силикатных стекол и ситалла, включающий шлифование суспензией, со.держащей электрокорунд, и полирование суспензией на водной основе полирита, о т л ич а ю шийся тем, что, с целью повышения качества обработанной поверхности и выхода годных деталей за счет уменьшения коэффициента рассеяния света поверхностью, обработку ведут суспензиями, в которые вводят смеси порошков графита и мела в количестве 30-50 мас.7 от твердой фазы суспензии в соотношении графита и мела для шлифования 9 — 1:1;.для полирования 1:9 — 1:1.

1710303

Количество полированной поверхности

Способ абразивной 1 Содержание обработки (добавки в

Соотноаение графита и мела ч» Коэфф, циент рассе мил, Вико годн дете лей, твердой фазе, 2

» при вли- прм пофов а- лировмии ке

Изеестмий способ

Влифование микро оравном корунда

Н28-И10,полирова- 40 ние суспензией полирита

После нанесения покрн" тия наблвдаютсл отдель» нме точки, ласмми

0,003 35

Предлагае11ий способ

Влмфоввние микропоровком корумда

Н28-И10, 20

0,003. 40 :

Паблздаетсл отдельнне точки

Отсутствие дефектов

«11»

1 °, Отдельние точки

5:1 1:5 !

5:1 . 115

5 I . 115

51 115

51 1!5

0,001

0,0008

0!001

О, 003.

72

61

Отдельнме точки

Отсутствие дефектов

«1 1»

«11«

Отдельнме дефа ктм

Отсутствие дефектов

1!

«!!»

«11»

«и»

«»

Составитель Г .Никогосова

Техред М»Моргентал Корректо O.Öè

KTOP .le A/I8

Редактор H.Гунько

Заказ 298 Тираж

ВНИИПИ Государственного комитета г1о и е а г1о изобретениям и открытиям арй ГКНТ СССР

113035. Москва, Ж-35. Раушская наб.;4/5

П роизводственно-издательский комбинат "П т атент, г. Ужгород, ул.Гагарина. 101

Полирование суслам- 30 . знай полнрита при 40 разном соотноае- 50 ним добавок отио- 60 сительно твердой

Фази! в весА

Влифоеание никропоровком корунда

И28-ИIО, 40

Полирование суспем- .40 зией полнритв с 40 добавкой при отно- 40 смтельмон .соотмо- 40 . венин графита и 40 мела 40

1011

9:I

5:1

1!1

1:2

5!1

511

5:1

511

1:5.

1:5

1:5

1:10

1:9

1:5

1:1

I:2

0 0015

0,001

0,0008

0i0007

0,0015

О, 0015

0»001

0,0008

0,0008

0,001

72

69

55.

72

60 °