Устройство для пайки и лужения радиоэлектронной аппаратуры
Иллюстрации
Показать всеРеферат
Использование: пайка в радиоэлектронике при производстве керамических конденсаторов . Устройство для пайки и лужения РЭА содержит ванну с флюсом и ванну с расплавленным припоем, капиллярный питатель, установленный в ванне с припоем , транспортер для перемещения изделий. Устройство содержит также средство для перемещения флюса в зону пайки, выполненное в виде ленты и размещенное под транспортером, систему охлаждения, установленную над ванной с флюсом. В капиллярном питателе выполнены пазы перпендикулярно каналам для подачи припоя , а расстояние между пазами h выбирается из соотношения h (15-6)d, где d - диаметр каналов. 4 ил. fe
СОЮЗ СОВЕТСКИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУБЛИК (51)5 В 23 К 3/00
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ
ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ
ПРИ ГКНТ СССР
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Ы ! (ф
Ql ((л
) ъ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4779039/08 (22) 01.12,89 (46) 07,06.92. Бюл. № 21 (71) Ленинградское научно-производственное объединение "Позитрон" (72) А, Ф. Розов, В, Ф, Смирнов и С. Г, Якушев (53) 621.791.3(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР
¹ 666622228899,, кКл, В 23 К 3/06, 04,01.76.
Авторское свидетельство СССР
¹1294319,,кл. B 23 К 3/06, 17.06.85, (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПАЙКИ И ЛУЖЕНИЯ ИЗДЕЛИЙ РАДИОЭЛЕКТРОННОЙ
АППАРАТУРЫ
Изобретение относится к пайке, используемой в радиоэлектронной промышленности, и может быть применено, например, в и роиз водстве керамических конденсаторов..
Известно устройство для пайки и лужения изделий радиоэлектронной аппаратуры (РЭА), включающее ванну с расплавленным припоем, механизм перемещения изделий в виде перемещающегося дозирующего цилиндра и фиксирующий узел в виде присоски.
Недостатком известного устройства является низкая производительность, обусловленная необходимостью укладки каждого изделия и переноса его на позиции флюсования, подогрева и окунания в припой.. Ж 1738516 А1 (57) Использование: пайка в радиоэлектронике при производстве керамических конденсаторов. Устройство для пайки и лужения РЭА содержит ванну с флюсом и ванну с расплавленным припоем, капиллярный питатель, установленный в ванне с припоем, транспортер для перемещения изделий. Устройство содержит также средство для перемещения флюса в зону пайки, выполненное в виде ленты и размещенное подтранспортером, систему охлаждения, установленную над ванной с флюсам, В капиллярном питателе выполнены пазы перпендикулярно каналам для подачи припоя, а расстояние между пазами h выбирается из соотношения h = (15-6)d, где d— диаметр каналов. 4 ил.
Наиболее близким к изобретению является устройство для пайки и лужения изделий РЭА, содержащее ванну с флюсом, ванну с расплавленным припоем и установленные в них капиллярные питатели с каналами диаметром 1-1,5 мм, по которым флюс и припой под действием капиллярных сил поступают к рабочим поверхностям питателей, на которые последовательно пускают каждое изделие, В этом устройстве подъем припоя по капиллярным каналам над уровнем ванны незначителен по высоте, что затрудняет автоматизацию процесса нанесения паяльной жидкости на изделия и снижает производительность, Цель изобретения является повышение производительности процесса, 1738516
10
h,мм
12
d, мм
0,5
1,0
1,5
2,0
Поставленная цель достигается тем, что устройство для пайки и лужения изделий РЭА, содержащее ванну с флюсом и ванну с расправленным припоем, капиллярный питатель, установленный в ванне с припоем, транспортер для перемещения изделий, снабжено средством для перемещения флюса в зону пайки, выполненным в виде ленты и размещенным под транспортером, системой охлаждения, установленной над ванной с флюсом, в капиллярном питателе выполнены пазы перпендикулярно каналам для подачи припоя, а расстояние h между пазами выбирается из соотношения h = (15-6) d, где d — диаметр каналов.
При длине сквозных каналов между пазами больше h = (15-6)d поступающего припоя оказывается недостаточно для образования сплошного слоя на облуживаемой поверхности, а при длине сквозных каналов меньше h = (15-6)d поступает избыточное количество припоя.
Конструкция капиллярного питателя, в нижнем пазу которого проходит лента для перемещения флюса, при движении которой флюс попадает в нижний паз, а затем благодаря выбору расстояния между пазами только за счет капиллярных сил вместе с расплавленным припоем в верхний паз, способствует при перемещении изделий в верхнем пазу капиллярного питателя проявлению свойства автоматической регулировки подачи дозированного количества припоя, содержащего пары флюса к изделиям, предварительно нагретым до температуры расплавленного пригоя.
Поскольку конструкция устройства позволяет нагревать изделия до температуры расплавленного припоя, то скорость перемещения изделий мсжет быть практически неограниченной, что ведет к повышению производительности процесса нанесения паяльной жидкости на изделия, На фиг, 1 изображено устройство для облуживания. торцов керамических конденсаторов, вид спереди; на фиг. 2 — то же, вид сверху; на фиг, 3 — капиллярный питатель; на фиг. 4 — питатель, сечение.
Устройство содержит (фиг. 1 и 2) основание 1, на котором с помощью скобы 2 установлены ванна с расплавленным припоем 3 и ванна с флюсом 4, разделенные экраном
5 для защиты флюса в ванне 4 от испарения.
B ванне с припоем 3 размещен капиллярный питатель 6 (фиг, 3), который имеет два горизонтальных паза: верхний 7 и нижний 8 закрытый, выполненные в виде двух противолежащих патрубков, соединенных сквозными вертикальными каналами 9 как между собой, так и с полостью ванны 3, Расстояние между верхним и нижним пазами 7 и 8 h выбирают из соотношения h =
15-6d, где 0,5 мм d 2,0 мм диаметр каналов 9.
Высота пОдъема припоя с парами флюса за счет капиллярных сил при материале капиллярного питателя — сталь 3 ГОСТ 38871, припое ПСР.ОС-3-58 с температурой плавления 100 С при температуре припоя
235 С составляет в зависимости от диаметра каналов d:
Верхний горизонтальный паз 7 имеет в поперечном сечении форму облуживаемых участков конденсаторов 10 и служит для подведения припоя к этим конденсаторам
10, которые перемещаются транспортером
11, снабженным перемычками для установки.
В ванне с флюсом 4 установлен ролик
12, касающийся ленты 13, с помощью которой флюс подается в нижний паз 8. Лента 13 изготавливается из стали 65Г толщиной 0,052,0 мм и размещается под транспортером
11.
Транспортер 11 и лента 13 приводятся в движение через шкивы 14-17 электродвигателем 18, Шкивы 16 и 17 снабжены натяжными устройствами 19 и 20.
В верхней части устройства расположен нагреватель 21 для разогрева конденсаторов 10, представляющий собой инфракрасную лампу 22 с эллиптическим зеркалом 23, фокусирующим тепловые лучи на конденсаторах 10, Над лентой 13 расположена система 24 водяного охлаждения, защищающая от испарения флюса с ленты 13, Кроме того, устройство включает лоток 25 для подачи конденсаторов 10 от бункера и сбрасыватель 26 облуженных конденсаторов 10.
Устройство работает следующим образом.
Предварительно облуживают горизонтальные пазы 7 и 8, каналы 9 капиллярного питателя и ленту 13. При включении электродвигателя 18 лента 13, перемещаясь, приводит во вращение ролики 12, которые переносят флюс из ванны 4 на поверхность ленты 13, которая, перемещаясь в нижнем пазу 8, смачивает его флюсом, способствующим подъему припоя по каналам 9 из ванны 3 в нижний паз 8, затем припой совместно с парами флюса, поступающими с
1738516
30
40
55 ленты 13, по каналам 9 поднимается в верхний паз 7.
Одновременно конденсаторы 10 с лотка
25 от бункера поступают на транспортер 11.
После этого конденсаторы 10 проходят под нагревателем 21, нагреваясь до температуры расплавленного припоя в ванне 3 (для припоя ПСР.ОС-3-58 с температурой плавления 180 С, эта температура составляет
220-230 С), после чего конденсаторы 10 своими торцами проходят через верхние пазы
7 капиллярного питателя 6, где на облуживаемые участки торцом конденсаторов наносится флюс и припой. Конденсаторы 10 перемещают по пазам 8 со скоростью 058,0 см/с в течение 1-6 с.
При движении конденсаторов 10 по пазам 7 по мере расходования припоя через каналы 9 поступают новые порции припоя из ванны 3. Конгруэнтная форма пазов 7 профилю облуживаемых участков конденсаторов 10 исключает натеки и наплывы припоя на облуживаемой поверхности. Затем облуженные конденсаторы 10 поступают к сбрасывателю 26.
Формула изобретения
5 Устройство для пайки и лужения изделий радиоэлектронной аппаратуры, содержащее ванну с флюсом и ванну с расплавленным припоем, капиллярный питатель, установленный в ванне с припоем, 10 и транспортер для перемещения изделий, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения производительности процесса, устройство снабжено средством для перемещения флюса в зону пайки, выполненным
15 в виде ленты и размещенным подтранспортером, системой охлаждения. установленной над ванной с флюсом, в капиллярном питателе выполнены пазы перпендикулярно к каналам для подачи припоя, а рассто20 яниеЬ между пазами выбирается из соотношения и = (15-.6)б, где cI — диаметр каналов.
1738516
1738516
1738516
Составитель Г. Теслин
Техред М,Моргентал Корректор Л, Патай
Редактор М. Бланар
Заказ 1961 Тираж Подписное
ВНИИПИ Государственно — î комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб„4/5
Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул,Гагарина, 101