Отражающий интерференционный светофильтр
Иллюстрации
Показать всеРеферат
СОЮЗ СОВЕТСКИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУБЛИК (я)5 С 02 В 5/28
ГОСУДАРСТВЕННЫ Й КОМИТЕТ
ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ
ПРИ ГКНТ СССР
»,:ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 3937948/10 (22) 26.07.85 (46) 30.06,92. Бюл. № 24 (71) Сибирский физико-технический институт им, В, Д. Кузнецова при Томском государственном университете им. В. B.
Куйбышева (72) А. А, Елисеев, Т, Н, Попова и О. В. Раводина (53) 621.357.74(088.8) (56) Патент США ¹ 3887261, кл. 350-1, опубл. 1975.
Авторское свидетельство СССР
¹ 1682950, 1986. (54) ОТРАЖАЮЩИЙ ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫЙ СВЕТОФИЛЬТР (57) Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к интерференционным светофильтрам, и может быть.
Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к интерференционным светофильтрам, и может быть использовано при идентификации эмиссионных спектров химических элементов и их соединений, Цель изобретения — расширение функциональных возможностей светофильтра за счет обеспечения одновременного отражения излучения на длинах волн Л1, Лг, — Л при идентификации эмиссионных спектров химических элементов или их соединений.
Отражающий интерференционный све- тофильтр состоит из прозрачной в рабочем диапазоне спектра подложки, выполненной в форме клина или отражательной призмы.
На рабочей грани этой подложки, располо- женной последней по направлению распространения излучения, помещен слой
„„SU „„1744669 А1 использовано при идентификации эмиссионных спектров химических элементов и их соединений. Изобретение позволяет расширить функциональные возможности светофильтра за счет обеспечения одновременного отражения излучения на длинах волн Л1, Лг,—,ЛП для идентификации эмиссионных спектров химических элементов и их соединений, Светофильтр содержит подложку в виде клина или призмы, на рабочей грани которых, расположенной последней по направлению распространения излучения, размещены и систем эквидистантных чередующихся прозрачных и полупрозрачных слоев из солей серебра, сформированных в фотоэмульсии. В каждой системе слоев расстояние между прозрачными слоями составляет половину соответствующей длины волны il>, Л, —,Л„. фотоэмульсии, в котором сформированы системы эквидистантных чередующихся прозрачных и полупрозрачных из солей серебра слоев. При этом расстояние между полупрозрачными слоями в каждой системе составляет половину длины Л1, Лг, Система эквидистантных слоев формируется за счет создания в слое фотоэмульсии стоячих волн при облучении его излучением от эталонного источника с линейчатым спектром и последующей химической обработки.
При падении излучения на слой фотоэмульсии, в котором сформировано п систем эквидистантных слоев с расстоянием между ними, равным Л>/2, под углом р< светофильтр обеспечивает отражение всего набора длин волн Л . Если Лп есть набор характерных частот эмиссионного дискрет1744669
50
Составитель П,Яковлев
Редактор М.Кобылянская Техред M.Ìîðãåíòàë Корректор В.Гирняк
Заказ 2197 Тираж Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб„4/5
Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101 ного спектра какого-либо элемента, то такой светофильтр отражает свет только этого элемента. Свет других длин волн, не принадлежащих этому элементу, при угле р отражаться не будет, 5
Пример. Светофильтр изготавливается из фотопластинки ЛОИ-2, в фотоэмульсионном слое которой с помощью ртутной лампы сформированы системы слоев полупрозрачных отражающих солей серебра. 10
Эти слои образуют три набора, соответствующие длинам волн оранжевой (А = 578 нм), зеленой (Лг = 546 нм) и фиолетовой (Я =
=436 нм) линий ртути. В каждом наборе расстояние между слоями равно К" iln/ã, где п=1, 2, 3, а К 1 — некоторый постоянный коэффициент, возникающий при термической и фотохимической обработке фотоэмульсии, Слои, - принадлежащие различным системам, заполняют see попе- 20 речное сечение фотоэмульсии, так как в процессе изготовления фильтра облучение фотоэмульсии осуществляется неразложенным светом ртутной лампы. Отражающие слои, относящиеся к различным системам в фильтре, могут быть и разнесены пространственно вдоль поверхности фотоэмульсии, но первый отражающий слой каждого ряда находится обязательно на расстоянии К
+ n/д от верхней поверхности эмульсии.Со стороны эмульсии фотопластинка оптически контактирует с отражательной призмой или клином, Оптический контакт осуществляется с помощью капли льняного масла, При падении на фильтр коллимирован- 35 ного пучка света от ртутной лампы при угле падения р<> свет трех указанных длин волн отражается от фильтра. При изменении угла падения отражение резко падает. Если на фильтр под углом р направить свет от 40 натриевой лампы или другого источника с небольшим набором линий в спектре, то отражения от фильтра не происходит. При падении на фильтр белого света происходит .отражение света трех длин волн (А их меняется от угла падения), но не наблюдается резкого ослабления отраженного света при изменении угла падения.
Так как предлагаемый фильтр при фиксированном угле р отражает только тот дискретный спектр, для которого он был получен, то, облучив данный фильтр светом неизвестного источника, по наличию или отсутствию отражения можно судить о тождественности исходного и неизвестного источников. Изготовив набор селективных отражающих фильтров с помощью источников излучения различных элементов, можно отождествлять спектры неизвестных источников, т, е. проводить качественный спектральный анализ.
Формула изобретения
Отражающий интерференционный светофильтр, содержащий подложку из оптически прозрачного материала, выполненную в форме клина или отражательной призмы, на рабочей грани которых, расположенной последней по направлению распространения излучения, размещена система параллельных этой грани эквидистантных чередующихся прозрачных и полупрозрачных, состоящих из солей серебра, слоев, сформированных в слое фотоэмульсии, о т л и ч а юшийся тем, что, с целью расширения функциональных возможностей светофильтра при идентификации эмиссионных дискретных спектров химических элементов или их соединений за счет обеспечения одновременного отражения излучения на длинах волн Л,i, — Я, в слое фотоэмульсии дополнительно сформированы и систем эквидистантных слоев, причем в каждой из них расстояние между полупрозрачными слоями составляет половину соответствующей длины волны k>,Л, — Л,.