Устройство для формирования слоя стеблей лубяных культур

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Использование: формирование слоя стеблей лубяных культур. Сущность изобретения: на выходе из устройства платформа закреплена на раме шарнирно, при этом ось шарнира перпендикулярна касательной к окружностям вершин зубьев крайних дисков , а расстояние Ап от оси последнего диска до оси шарнира по касательной определяется по формуле Ап hn hi -hn Ain; а высота зубьев промежуточных дисков определена из соотношения J2L Ai hn An где hi. hi, hn - высота зубьев первого, промежуточного и последнего дисков соответственно; Ain - расстояние между осями крайних дисков; AI - расстояние от оси промежуточного диска до оси шарнира. 2 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (505 D 01 В 1/32

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ .СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИ

An= A1n;

М вЂ” п

h1 пп

Ai An

An= . А1, Ь1 — }1ri

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1 . (21) 4898321/12 (22) 02.01.91 (46} 23.02.93. Бюл. N 7 (71) Белорусский научно-исследовательский институт льна (72) Е.B.Êèñëîâ, Л.А.Чичко и И.В.Терешко (56) Авторское свидетельство СССР

:: . М 89974 1; кл. D01 В 1/32,1982.

: (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОРМИРОВАХИЯ

СЛОЯ СТЕБЛЕЙ ЛУБЯНЫХ КУЛЬТУР (57) Использование: формирование слоя стеблей лубяных культур. Сущность изобретения: на выходе из устройства платформа закреплена на раме шарнирно, при этом ось шарнира перпендикулярна касательной к окружностям вершин зубьев крайних дисков, а расстояние An от оси последнего

Изобретение относится к области первичной обработки лубяных культур, в частности к устройствам для формирования слоя стеблей лубяных культур.

Цель изобретения — повышейие качества формирования слоя за счет увеличения точности регулирования толщины слоя.

Ха фиг.1 изображено предлагаемое устройство, вид сбоку; на фиг.2 — взаимное расположение дисков и полозков при подь, еме платформы.

Устройство для формирования слоя стеблей лубяных культур содержит установ. ленный на раме 1 питающий стол 2 и зубчатые слоеутоняющие диски 3. Высота зубьев уменьшается от первого диска 3 к последнему. Под дисками 3 установлена платформа 4 с закрепленными на ней направляющими диска до оси шарнира по касательной определяется по формуле а высота зубьев промежуточных дисков определена из соотношения где h1, Ьь hn — высота зубьев первого; промежуточного и последнего дисков соответСтВЕННО; A1n — раССтсяНИЕ МЕжду ОСЯМИ крайних дисков; А — расстояние от оси промежуточного диска до оси шарнира. 2 ил. полозками 5, соединенная с рамой 1 на входе устройства посредством шарнирной зксцентриковой опоры 6, а на выходе— посредством шарнира 7. Ось шарнира 7 расположена на касательной 001 к окружностям вершин зубьев крайних дисков 3, Высота зубьев первого Ь и последнего h/ дисков 3 выбрана исходя из максимальной толщины подаваемого в устройство слоя и коэффициента утонения устройства. Расстояние от оси последнего зубатого диска 3 до оси шарнира 7 по касательной рассчитано по формуле а высота зубьев промежуточных дисков 3 определена из соотношения

1796681

h) Ии

Ai Аи (2) где h,Ь,пи- высота зубьев первого, промежуточного и последнего дисков соответстве.нно;

А и — расстояние между осями крайних дисков;

Ai — расстояние от оси йромежуточного диска:до оси шарнира, На входе устройства платформа 4 по.средством тяги 8 соединена с установленными на раме 1 ограничйтелями толщины слоя 9, fl р и м е р. Устройство содержит четыре зубчатых диска 3, Максимальная толщина слоя. стеблей, подаваемого в устройство, составляет 80 мм, что соответствует высоте зубьев первого диска 3 Ь1 = 80 мм. Для обеспечения пятикратного утанения слоя в устройстве. высота зубьев последнего диска

3 составляет 16 мм. Исходя из габаритного размера по длине устройства расстояние между осями первого и второго дисков 3 .выбрано 250 мм, второго и третьего — 200 м, третьего и четвертого — 190 мм, т.e. расстоайие между осями первого и четвертого дисков 3 составляет 640 мм. Тогда расстояние от оси четвертого диска 3 до аси шарнира 7 по касательной 00) к окружностям вершин зубьев первого и четвертого дисков 3 будет

А4 - 16 640/(80-16) = 160 мм, а высота зубьев второго и третьего дисков 3 составляет hz =

16 (200+190+160)/ 160 = 55 мм, hj = 16х х(190+160)/160 =. 35 мм.

Устройство работает следующим образом.

По столу 2 в зону действия первых зубчатых дисков 3 подают стебли, которые заполняют впадиньгдисков 3 и перемещаются ими п0 полозкам 5 к следующим зубчатым дискам 3; Зубьями этих дисков 3 содержащиеся в каждой впадине первых дисков 3 стебли равномерно распределяются в нескольких впадинах вторых дисков 3, и далее процесс повторяется, В результате того, что высота зубьев последующих дисков 3 меньше, чем предыдущих; то толщина слоя стеблей уменьшается да заданной величины на последних зубчатых дисках.3. Регулирование толщины слоя осуществляется поворотам шарнирной. эксцентриковай опоры 6, эксцентрик которой перемещает платформу

4 в вертикальной плоскости относительно . шарнира 7. Вместе с платформой 4 переме-. щаются и полозки 5, при этом величина их перемещения будет максимальной у первых дисков 3 и уменьшающейся по ходу утонения. Соответственно изменяется и веп

Аи= .А и Ь и высота зубьев промежуточных дисков определена из соотношения .

Ь п

А Аи

55 где h>,hi,hê — высота зубьев первого, промежутачнога и последнего дисков соответственно; личина перекрытия полозками 5 зубчатых венцов дисков 3, так как расстояние ат оси последнего зубчатого диска 3 до оси шарнира 7 по касательной и высота зубьев

5 промежуточных дисков 3 определены из выражений (1) и (2), то доля зубчатых венцов, остающаяся для заполнения:стеблями, будет одинаковой для всех зубчатых дисков 3, что обеспечивает плотность стеблей ва впа10 динах всех дисков 3 при любой величине

-перекрытия полозками 5 дисков 3. Так. в приведенном примере при перекрытии полозками 5 первого зубчатого диска 3 на 40 мм, величина перекрытия второго зубчатого

15 диска 3 составляет 27,5 мм, третьего — 17,5 мм, четвертого — 8 мм, и доля зубчатого венка, остающаяся для заполнения стеблями, остается одинаковой и составляет 50 g, ат максимальной величины для всех дисков

20 3. Одновременно платформа 4 посредством .. тяги 8 перемещается ограничители. толщины слоя 9, которые, изменяя величину перекрытия зубчатого венца первых дисков 3 со стороны оснований зубьев, обеспечивают

25 определенное заполнение впадин стеблями.

Формула изобретения

Устройство для формирования слоя стеблей лубяных культур, содержащее

30 смонтированные на раме питающий стол. зубчатые слоеутоняющие диски с уменьшающейся по хаду.утонения высотой зубьев, платформу, установленную на входе в.устройство на шарнирной эксцентриковой

35 опаре, с закрепленными на платформе направляющими полозками и ограничители толщины слоя, о т л и ч а ю щ е е с я тем, чта, с целью повышения качества формирования слоя за счет увеличения точности регулиро"0 вания толщины слоя, на выходе из устройства платформа закреплена на раме шарнирно, при этом ось шарнира перпейдикулярна касательной к окружности вершин .зубьев крайних дисков, «расстояние Аи от

45 аси последнего диска да оси шарнира па касательной определяется по формуле

1796681

Ai — расстояние от оси промежуточного диска до оси шарнира.

А л — расстояние между осями крайних дисков;

Фйг. X

Фиг. 2

Составитель И. Карайдеева

Редактор О. Стенина . Техред М, Моргентал Корректор М. Самборская

Производственно-издательский комбинат "Патент", r. Ужгород, ул.Гагарина, 101 I

Заказ 632 Тираж .. -: Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5