Стекло для ионноплазменного напыления тонких пленок на ферритовые подложки

Стекло для ионноплазменного напыления тонких пленок на ферритовые подложки

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Использование: в производстве магнитных головок для звукои видеозаписывающих устройств и вычислительной техники. Сущность изобретения: стекло для ионноплазменного напыления тонких пленок на ферритовые подложки содержит оксид свинца (мас.%) 53,5 - 57,0 БФ РЬО; оксид кремния 33,2 - 36,0 БФ SI02; оксид цинка 3,7 - 6,0 БФ ZnO; оксид натрия 3,5 - 4,5 БФ Na20; оксид калия 0,7 - 1,3 БФ К20; оксид сурьмы 0,3 - 0,8 БФ 5Ь20з. Пузырьки газа диаметром 0,1 - 0,3 мм в рабочем зазоре шириной 0,3 мкм на участке длины в 100 мм отсутствуют. 2 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

P ЕСПУБЛИК (si)s С 03 С 3/07, 8/24

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР)

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ПАТЕНТУ н ООйдыП! .. л) ГНИЙ - (ЙйфЛ66К;:, Б .=, лiqr„ . 1, =;:- „-"

3.5 — 4,5

0,7 — 1,3

0,3 — 0,8

NazO

КгО

ЯЬгОз

53,5 — 57,0

33,2 — 36,0

3,7 — 6,0

PbO

SiOz

ZnO (21) 4880140/33 (22) 25,09.90 (46) 15,07.93. Бюл. N 26 (71) Научно-исследовательский институт "Домен" (72) Н,Н.Максимов и Л.Н,Соловьева (73) Научно-исследовательский институт "Домен" (56) Авторское свидетельство СССР

¹796196,,кл, С 03 С 3/074, 1981, Авторское свидетельство СССР

¹ 550350, кл. С 03 С 3/07, 1975. (54) СТЕКЛО ДЛЯ ИОННОПЛАЗМЕННОГО

НАПЫЛЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ФЕРРИТОВЫЕ ПОДЛОЖКИ

Изобретение относится к составам стекол, применяемых для соединения элементов магнитных головок для звуко- и видеозаписывающих устройств и вычислительной техники, может быть использовано для нанесения защитных покрытий в электронной технике.

Цель изобретения — повышение качества за счет снижения пузырности и повышения однородности намыляемых стеклопленок.

Поставленная цель достигается тем, что стекла для ионноплазменного напыления тонких пленок на ферритовые подложки, включающее РЬО, SiOz, ZnO, NazO и КгО, дополнительно содержит ЯЬгОз при следующем соотношении компонентов, мас.%:

„„. Ж„„1828455 АЗ (57) Использование: в производстве магнитных головок для звуко- и видеозаписывающих устройств и вычислительной техники.

Сущность изобретения: стекло для ионноплазменного напыления тонких пленок на ферритовые подложки содержит оксид свинца (мас.%) 53,5 — 57,0 БФ РЬО; оксид кремния 33,2 — 36,0 БФ SiOz; оксид цинка

3,7 — 6,0 БФ Zn0; оксид натрия 3,5 — 4,5 БФ

МагО; оксид калия 0,7 — 1,3 БФ КгО; оксид сурьмы 0,3 — 0,8 БФ ЯЬгОз. Пузырьки газа диаметром 0,1 — 0,3 мм в рабочем зазоре шириной 0,3 мкм на участке длины в 100 мм отсутствуют. 2 табл.

В табл.1 приведены конкретные примеры составов предлагаемого стекла, в табл,2 — следующие его свойства: температурный коэффициент линейного расширения (ТЕЛ Р) а в интервале 20 — 300 С и температура начала деформации Т, д,, определенные с помощью дилатометра ДКВ-5А при нагреве образцов со скоростью 3 С в мин; микротвердость по Виккерсу Hv, измеренная на микротвердомере ПМТ-3 при нагрузке на индентор, равной 100 Г; потери массы образцов Рк после выдержки их в 5%-ной щавелевой кислоте при комнатной температуре в течение 1 часа; потери массы образцов Рщ после кипячения их в 10%-ном растворе NaOH в течение 1 часа: потери массы образцов Рв после кипячения их в

00 ,Ы

j00

Ф

Ql

Q1

1828455

Таблица 1 дистиллированной воде в течение 3 часов; количество полостей (пузырьков) диаметром 0,1 — 0,3 мкм в рабочем зазоре шириной

0,3 мкм на участке его длины в 100 мкм.

Стекло синтезируется при температуре

1300 С в платиновом тигле. Обладает хорошими варочными свойствами. Отлитые из него диски — мишени содержат незначительное количество пузырьков, однородны, не растрескиваются при их распылении.

Стекло химически устойчиво, обладает высокой адгезией к ферриту и напыляемой на него пленке SiOz. Температура спаивания ферритовых элементов посредством напыленной пленки этого стекла, не превышает 720 С.

Кроме того, достигается существенное повышение однородности, Как видно из таблицы, полости (пузырьки) в зазоре совершенно отсутствуют, чего нельзя сказать в отношении прототипа. Исследование пленки под микроскопом показалотакже и отсутствие кристаллических включений.

В ходе проведенного исследования выявилась очень сильная зависимость качества напыляемой на ферритовые подложки пленки от состава стекла мишени. Поиск оптимального соотношения известных компонентов стекол для напыления не привел к желаемому результату, пока не был использован для получения стекла рассматриваемого назначения оксид сурьмы. Известно, что в целом ряде случаев присутствие оксида сурьмы в многосвинцовом стекле вызывает его кристаллизацию и соответствующее снижение однородности тонких его пленок, получаемых на поверхности подложек, особенно при последующем спаивании последних с другими деталями в атмосфере инертного газа. В ходе проведенного исследования выявлено однако неожиданно сильное положительное влияние оксида сурьмы на однородность напыляемой на ферритовые подложки стеклопленки при отработанном оптимальном соотношении всех компонентов предложенного стекла, Вместе с тем исследование показало, что однородность напыляемой стеклопленки по химическому составу существенно снижается, если содержание SiQ, РЬОи ZnO в стекле становится как менее 33,2; 53,5 и 3,7, соответственно, так и более соответственно, 36,0; 57,0 и 6 O

Значительно более резко однородность напыленной пленки снижается если содержание йагО, КгО и ЗЬгОз оказывается менее

3,5; 0,7 и 0,3, соответственно, и соответственно более 4,5; 1,3 и 0,8

Применение предлагаемого стекла для ионноплазменного напыления на элементы магнитных головок позволит существенно повысить их качество и выход годных.

Формула изобретения

Стекло для ионноплазменного напыления тонких пленок на ферритовые подложки, включающее PbO, SiO, ZnO, NaO и КгО, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения качества за счет снижения пузырности и повышения однородности напыляемых стеклопленок, оно дополнительно содержит SbzOa при следующем соотношении компонентов, мас. :

35 Pbo 53,5 — 57,0 сiО 33,2 — 36,0

ZnO 3,7 — 6,0

Na2O 3,5 — 4,5

КгО 0,7 — 1,3

40 Sbzoa 0,3 — 0,8.

Таблица 2

Составитель Н, Максимов

Редактор В, Трубченко Техред М.Моргентал Корректор М. Ткач

Заказ 2365 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", r. Ужгород, ул.Гагарина. 101