Устройство для подачи порошкообразного полупроводникового материала

Устройство для подачи порошкообразного полупроводникового материала

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Использование: изобретение относится к дозировочной технике. Сущность изобретения: в цилиндрическом стакане 1 на штоке 5 перемещается поршень 2, вытесняя из стакана 1 порошкообразный полупроводниковый материал 3. Шток перемещается с помощью шатунного механизма 6. 1 ил. (Л С 00 СА) О о СО

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (я)5 В 65 В 1/42

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ПАТЕНТУ

26-93 (21) 4910766/13 (22) 12.02.91 (46) 23.07.93. Бюл. ¹ 27 (76) Ю.А.Никольский (56) Авторское свидетельство СССР

¹ 937274, кл. В 65 В 1/42, 1980. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОДАЧИ ПОРОШКООБРАЗНОГО ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО

МАТЕРИАЛА У

„,5U „„1830017 АЗ (57) Использование: изобретение относится к дозировочной технике. Сущность изобретения: в цилиндрическом стакане 1 на штоке

5 перемещается поршень 2, вытесняя из стакана 1 порошкообразный полупроводниковый материал 3. Шток перемещается с помощью шатунного механизма 6. 1 ил.

ОО (л)

О

О V

1830017

35

45

Составитель Ю. Никольский

Техред М.Моргентал Корректор И, Шулла

Редактор С. Кулакова

Заказ 2487 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101

Изобретение относится к дозировочной технике.

Устройство (см. чертеж) представляет собой цилиндрический стакан 1 с поршнем

2, на который насыпается порошок 3. Цилиндрический стакан с поршнем устанавливается в вертикальном положении и укрепляется на держателе 4. Поршень со штоком 5 с помощью шатунного механизма

6 перемещается вверх, производя высыпание порошка через край стакана. Затем, при дальнейшем движении поршень зани4 44р маеткрайнее нижнее положение, опять засыпЖМя т1орошок и повторяется новый цикл. ф 15

- Шатунный механизм проводится в движение валом 7, укрепленном на держателе

8. Вращение обеспечивается перемещением шкива 9 через вал 10, имеющий каскад различных диаметров, электродвигателем 20

С4-2 11, который вмонтирован в вакуумную плиту, Шток 12 электродвигателя, на котором находится вал 10, фиксируется подшипником 13, укрепленном на держателе 8.

Регулировку скорости движения поршня, а, следовательно, и скорости подачи порошка можно осуществлять изменяя положение шкива 9 на вале 10.

Порошок полупроводникового материала (например, антимонида индия) с диаметром кристалликов 150...200 мкм высыпается через край стакана в бункер с воронкой 14 и по желобу 15 попадает на испаритель 16, Равномерность высыпания осуществляется, когда уровень порошка в стакане будет составлять 45 с вертикальной или горизонтальной плоскостями. При скорости движения поршня 0,01...0,10 мм/с, когда площадь высыпания порошка - 70 мм секундный расход порошка составляет

1...10 мм .

Формула изобретения

Устройство для подачи порошкообразного полупроводникового материала, содержащее емкость материала и побудитель истечения, установленный в емкости с возможностью перемещения в вертикальной плоскости, отл ича ю щееся тем, чтооно снабжено бункером с воронкой в нижней части, емкость представляет собой цилиндрический стакан и расположена частично в бункере с зазором к его стенкам, а побудитель истечения включает поршень со штоком, смонтированный с возможностью вытеснения материала из цилиндрического стакана и пересыпания его в бункер.