Фотоматрица
Иллюстрации
Показать всеРеферат
ОПИСАНИ Е l9GG62
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Советских
Социалистических
Республик
Зависимое от авт. свидетельства №
Заявлено 17.Х11.1965 (№ 1043784/26-24) Кл. 42тп, 14 с присоединением заявки №
П риоритет
Опубликовано 16.XI I.1966. Бюллетень ¹ 1
Дата опубликования описания 28.1.19б7
МПК 6 06f
УДК 681.142,07:535.24 (088.8) Комитет по делам изобретеиий и открытий
QpM Совете Мииистрсе
СССР
° \
Авторы изобретения
В. М. Квасов, С. В. Свечников и В. П. Скуридин ., 1
Институт кибернетики АН УССР и Институт полупроводников АН УССР
Заявители
ФОТОМАТРИ ЦА
Предмет изобретения
Известные фотоматрицы состоят из общей подложки, нанесенных на нее горизонтальных проводящих шин, отдельных подложек с (анесенными на них электродами, фотопроводящего слоя и вертикальных проводящих шин, расположенных на фотопроводящем слое.
Предложенное устройство отличается от известных тем, что электроды расположены двумя рядами по обе стороны вертикальной проводящей шины с перекрытиями по горизонтали. В каждом ряду по вертикали имеется зазор, равный величине разрешающей способности фотоматрицы по вертикали. Причем размер электрода по вертикали в три раза больше упомянутой разрешающей способности. Это обеспечивает четкое считывание.
На чертеже изображена предлагаемая матрица, вид сверху и разрез по А — А.
Она состоит из вертикальной проводящей непрозрачной шины 1, являющейся общим электродом фотосопротивлений данного вертикального ряда; общего фотопроводящего слоя 2 вертикального ряда матрицы; одной из горизонтальных шин 3; одного из непрозрачных электродов 4 фотосопротивления вертикального ряда, соединенного (пайкой или напылением) с одной из нечетных горизонтальных шин; одного непрозрачного электрода фотосопротивления вертикального ряда, соединенного с одной из четных горизонтальных шин; индивидуальной непрозрачной подложки 6 данного вертикального ряда фотоматрицы и общей непрозрачной подложки 7 фотоматрицы.
Соотношение размеров индивидуальных
g b 1 электродов 4 и 5 — 1 равно — . о 3
Принцип работы предложенного устройства не отличается от аналогичных устройств, позволяющих реализовать эффект поперечной фотопроводимости, когда напряженность поля между шинами 1 и 8 перпендикулярна направлению света.
Фотоматрица, содержащая общую подлож. ку, горизонтальные проводящие шины, нанесенные на нее, отдельные подложки, фотопроводящий слой и электроды, нанесенные на отдельные подложки, вертикальные проводящие шины, расположенные на фотопроводящем слое, отличающаяся тем, что, с целью четкого считывания, электроды расположены двумя рядами по обе стороны вертикальной проводящей шины с перекрытиями по горизонтали, а также с зазором в каждом ряду
З0 по вертикали, равным величине разрешающей способности фотоматрицы по вертикали, причем размер электрода по вертикали в три раза больше упомянутой разрешающей способности.
Составитель В. М. Щеглов
Редактор В. Дербинов Техред T. П. Курилко Корректоры: В. В. Крылова и Е. Ф. Полионова
Заказ 4343j1 Тираж 535 Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР
Москва, Центр, пр. Серова, д. 4
Типография, пр. Сапунова, д, 2