Устройство для горячего литья керамическихдеталей

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

-20276I

ОПИСАН И Е.

И 3О БРЕТ ЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик ао, тгя гр o««-: «,.. гс ., " ли " ч «ñ

«о г gg „„тт«п ".7

- аг гг;г

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 02.Х1.1964 (№ 927378/29-14) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 141Х.1967. Бюллетень ¹ 19

Дата опубликования описания 27.XI.1967

Кл. 80а, 54/10

МПК В 28с

С 04b

УДК 666.3.022.8.846 (088,8) Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

Авторы изобретения

С. В. Хомутовский, Н. Ф. Прохоров, А. И. Ильин, М. Н. Мокеев и В. П. Евдокимов

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ГОРЯЧЕГО ЛИТЪЯ КЕРАМИЧЕСКИХ

ДЕТАЛ ЕИ

Известные устройства для горячего литья керамических деталей, включающие установленные на основании обогреваемые и оснащенные мешалками шликерные резервуары и механизм дозирования шликера, малопроизводительны и не обеспечивают автоматического поддержания основных параметров при литье.

В предлагаемом устройстве опорная поверхность основания шликерных резервуаров наклонена к горизонту, а механизм дозирования выполнен с эластичной диафрагмой, приводимой в движение посредством гидропровода.

Это позволяет повысить производительность устройства и предотвратить расслоение шликера.

На чертеже показана схема предлагаемого устройства, Устройство включает установленные на основании шликерные резервуары 1 и 2, обогреваемые и оснащенные мешалками 8, и механизм 4 дозирования шликера в литьевые

2( формы 5. Опорные поверхности 6 шликерных резервуаров наклонены к горизонту, что улучшает условия перемешивания и вакуумирования шликера, а также самотека его из одно5 го резервуара в другой, а оттуда через клапан в зону дозирования. Механизм дозирования выполнен с эластичной диафрагмой 7, приводимой в движение гидроприводом 8.

Предмет изобретения

Устройство для горячего литья керамических деталей, включающее установленные на основании обогреваемые и оснащенные мешалками шликерные резервуары и механизм

15 дозирования шликера в литьевые формы, от гичаюигееея тем, что, с целью повышения производительности и предотвращения расслоения шликера, опорная поверхность основания шликерных резервуаров наклонена к

20 горизонту, а механизм дозирования выполнен с эластичной диафрагмой, приводимой в движение посредством гидропривода, 202761

Составитель М. Барбашева

Редактор М. Жиляева Техред Л. Я. Бриккер Корректоры: Л, В, Наделяева и Т. Д. Чунаева

Заказ 3624/17 Тираж 535 Подписное.

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4

Типография, пр. Сапунова, 2