Растровый микроскоп
Патент 218441
Классы МПК
Растровый микроскоп
Иллюстрации
Реферат
2I844I
OnИСЛНИЕ
ИЗОБ РЕТ ЕЙ ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Советских
Социалистических
Республик
Зависимое от авт. свидетельства №
Кл. 42Ь, 12/05
Заявлено 29Л!!.1967 (№ 1145531/26-10) с присоединением заявки №
Приоритет
Опубликовано 17.Ч.1968. Бюллетень № 17
Дата опубликования описания 4.IX.1968
МПК G 02d
УДК 531.717.82 (088,8) Комитет по делам иаобретеиий и открытий при Совете Министров
СССР
Авторы изобретения
В. А. Зверев, А. А. Кучин и И. И. Макарова
Ленинградское оптико-механическое объединение
Заявитель
РАСТРОВЫЙ МИКРОСКОП
Данный оптико-механический прибор предназначен для контроля чистоты обработки поверхности в различных отраслях машиностроения.
Известны растровые микроскопы, содержащие систему проекции растра на исследуему:о поверхность и регистрирующую систему с эталонным растром.
Описываемый прибор отличается от известных тем, что для повышения точности измерений проекционная и регистрирующая системы снабжены фокусирующими зеркалами, образующими симметричную систему с отражающими параболическими поверхностями, с попарно совпадающими фокусами которых совмещены исследуемая поверхность и растры, установленные перпендикулярно оптической оси этой системы, На чертеже изображена оптическая схема описываемого микроскопа.
Проекционная система микроскопа содержит растр 1, зеркало 2, параболическое зеркало 8 с рабочим внеосевым участком 4, зеркала 5 и б, прямоугольную призму 7, параболическое зеркало 8 с рабочим внеосевым участком 9. Наблюдательная система включает исследуемую поверхность 10, параболическое зеркало 8 с рабочим внеосевым участком 11, призму 12, зеркала 18 и 14, пара:болическое зеркало 8 с рабочим внеосевым участком 15 и эталонный растр 1б, Освещение растра 1 производится осветительной системой (на чертеже не показана). Прибор снабжен также отсчетным устройством, содержащим объектив 17 и окулярный микрометр 18.
5 Растр 1, расположенный в фокальной плоскости параболического зеркала 8, проектируется в бесконечности. С помощью зеркал 5, б и призмы 7 параллельный пучок направляется на параболическое зеркало 8, в фокусе которого (на исследуемой поверхности) получается изображение штрихов растра. Отраженные от поверхности 10 лучи проектируются зеркалом 8 в бесконечность, С помощью призмы 12 и зеркал 18 и 14 параллельный пучок вновь попадает на зеркало 8 и собирается в его фокусе, где расположен эталонный растр
1б. В его плоскости получаются муаровые полосы.
При наличии микронеровностей на исследуемой поверхности происходит искажение изображения штрихов растра, которое вызывает искривление муаровых полос, измеряемое с помощью отсчетного устройства. Поскольку в описываемой схеме растрового микроскопа
25 измерение происходит не в рассеянном свете, а в отраженном, то контраст муаровых полос значительно возрастает, а, следовательно, растет и точность измерения. Диаметр рабочего внеосевого участка параболического зерка30 ла определяется величиной его фокуса и апертурой, необходимой для разрешения штрихов
218441
Составптсгп Г. 3. Литвин
Гсдактор Н. С. Коган
Корректор Т. Ф. Старостина
Техред Р. М. Иовикова
Заказ 2363!12 Тира:к 530 Подписное
Ц11ИИПИ Когиптета по делам изобретений и открытий при Совете Министров С(°
Москва, Центр, пр. Серова. д. 4
Типография, пр. Сапбпова, 2 растра. Угол наклона апертурного пуч,a vûбирается из условия наилучшего наолюдсния исследуемой поверхности.
Данная схема растрового микроскопа с ободна от аберраций в силу сс симмстри пюсти и увеличения, равного единице.
Предмет изобретения
Растровый микроскоп, содерисащий систему проекции растра на исследусмуlo поверхность и регистрирующую систему с этало1ным растром, от,гичалои аася тем, что, с целью повышения точности измерений, проекционная и регистрирующая системы снабжены фокусирующимп зеркалами, образующими симметричную систему с отражающими параболическими поверхностями, с попарно совпадающими фокусами когорых совмещены исследуемая поверхность и растры, установленные перпендикулярlO но оптической оси этой системы.