Конденсатор постоянной емкости

Конденсатор постоянной емкости

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Союз Советских

Социалистических

Республик! (Г М1

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №

Кл. 21g, 10/02

ЗаЯВлено ОЗ.VI I.1967 (№ 1171018/26-9) с присоединением заявки J¹â€”

Приоритет

МПК Н Olg

УД1; 621.319.42 (088.8) Комйтет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

Опубликовано 11.XI I.1968. Бюллетень № 1 за 1969 r.

Дата опубликования описания З.IV.1969

Авторы изобретения Л. И. Бекичева, С. А. Будер, С. П. Безбородова, К. В. Сундырева, Н. Н. Ивлиев, Ю. Л. Трутце, Д, П. Поликарпов и Ю. Н. Храбров

Заявитель

КОНДЕНСАТОР ПОСТОЯННОЙ ЕМКОСТИ

Известный конденсатор постоянной емкости с напыленными в вакууме металлическими обкладками и разделяющими их диэлектрическими пленками, например, из органического диэлектрика, имеет относительно низкую стабильность и малую удельную емкость.

В предложенном конденсаторе, постоянной емкости повышение стабильности параметров ,конденсатора и увеличение его удельной емкости достигнуто тем, что в качестве пленок из органического диэлектрика использованы полученные вакуумным пиролизом цикло-ди-параксилилена пленки поли-пара-ксилилена.

Конденсаторы изготавливают на ситалловых подложках. Материалом обкладок служит алюминий. Для получения пленки цикло-дипараксилилен подвергают термообработке в зснс с температурой 180 — 200 С, при которой происходит сублимация димера. Во второй зоне с температурой порядка 700 С происходит пиролиз и образование псевдобирадикалов. На подложке при тсмпсратурс нс выше

50-" С происходит полная поли мсризацпя осаждаемой пленки поли-пара-ксплилсна.

Толщина пленки может быть от 400А до

5 1,5 .!1к. что позволяет получать высокостабильныс конденсаторы с удельной смк )cTblo ст 20000 до 40000 иф/сл- .

Предмет изобрстс11ия

Конденсатор постоянной c ìкости с напыленными в вакууме металлическими обклад,ками и разделяющими их диэлектрическим!! пленкам!1, например, из органического диэлск15 тр;1ка, от.1ичаюи1ийся тем, !TQ с целью повышения стабильности параметров конденсатора в процессе эксплуатации и увеличения сlо ! дельной сх!кости, В ка 1сствс пленок 113 оргтlнпчсского диэлектрика использованы получсн20 ныс вакуумным пиролизом цикло-ди-параксилилена пленки поли-пара-ксилплена.