Установка для нанопокрытия графитовой суспензией холстов для художников

Установка для нанопокрытия графитовой суспензией холстов для художников

Реферат

Изобретение относится к изготовлению холстов для художников.

Известно, что современная живопись использует стандартные материалы в качестве холстов (1).

Недостатком известных материалов, используемых в качестве холстов, является недостаточная прочность соединения краски с холстом, со временем краска может осыпаться.

В то же время известна работа (2) по нанопокрытию компонентов смесевых конденсированных систем графитовой суспензией на основе изопропанола-2, с удельной поверхностью 2000 квадратных метров на грамм графита, изготовленная во ВНИИЭИ г. Электросталь по ТУ-16-538.317-77. Капсулированию подвергались перхлорат алюминия, октоген, сферический алюминий.

Известна также установка для сушки сыпучего материала в электромагнитном поле (3), позволяющая производить сушку холста, обработанного графитовой наносуспензией.

Задача изобретения - разработать установку для нанопокрытия графитовой суспензией холстов для художников.

Поставленная задача решается созданием установки для нанопокрытия графитовой суспензией холстов для художников, содержащей рамку с холстом; распылитель графитовой суспензии на основе изопропанола-2 с удельной поверхностью 2000 кквадратных метров на грамм графита, отличающейся тем, что рамка с холстом размещена на пластине из ферромагнитного материала, нагреваемой индуктором промышленной частоты, расположенной в вакуумной камере.

Установка для нанопокрытия графитовой суспензией холстов для художников представлена на чертеже, где 1 - вакуумная камера, 2 - индуктор промышленной частоты, 3 - распылитель графитовой суспензии, 4 - рамка с холстом, 5 - пластина из ферромагнитного материала.

Установка для нанопокрытия графитовой суспензией холстов для художников работает следующим образом. Сначала производится нанопокрытие холста графитовой суспензией на основе изопропанола-2 с удельной поверхностью графита 2000 квадратных метров на грамм при помощи распылителя графитовой суспензии 3. Затем производится нагрев холста до 100 градусов Цельсия при помощи индуктора промышленной частоты 2 и пластины из ферромагнитного материала 5, испарение и откачка изопропанола и высушивание холста.

Литература

1. Современная живопись. М.: АСТ-Астрель, 2002, перевод с итальянского.

2. В.А.Алейников, В.М.Мальцев, Ю.М.Милехин, С.К.Орджоникидзе. Нанопокрытия компонентов смесевых конденсированных систем /Перспективные материалы и технологии: Нанокомпозиты. Том.2 / Под. ред. А.А.Берлина и И.Г.Ассовского. - М.: ТОРУС ПРЕСС, 2005, 288 с.: ил. (Космический вызов 21 века).

3. Авт. св. СССР №848931, МКИ F26B 3/34. Установка для сушки сыпучего материала в электромагнитном поле / Е.П.Шелудяков, В.А.Кубышев, И.Е.Черняков. - Опубл. 23.07.81; Бюл. Изобр. №27.

Установка для нанопокрытия графитовой суспензией холстов для художников, содержащая рамку с холстом, распылитель графитовой суспензии на основе изопропанола-2 с удельной поверхностью графита 2000 квадратных метров на грамм, отличающаяся тем, что рамка с холстом размещена на пластине из ферромагнитного материала, нагреваемой индуктором промышленной частоты, расположенной в вакуумной камере.