Cистема ионной пушки, устройство парофазного осаждения и способ изготовления линзы

Cистема ионной пушки, устройство парофазного осаждения и способ изготовления линзы

Иллюстрации

Показать все

Реферат

Область техники

[0001] Настоящее изобретение относится к системе ионной пушки, устройству парофазного осаждения, содержащему систему ионной пушки, и способу изготовления линзы формированием многослойной просветляющей пленки на линзе с использованием «ионно-стимулированного» способа (от англ. «ion-assisted method»).

Уровень техники

[0002] Известно нанесение многослойной просветляющей пленки на пластмассовую линзу с использованием ионно-стимулированного способа. В качестве одного из примеров этого, в Примерах 7-10 патентного документа 1 описано, что ионно-стимулированный способ используют для формирования всех слоев пленок (слоев с высоким показателем преломления и слоев с низким показателем преломления), которые составляют многослойную просветляющую пленку. При этом условия пленкообразования (т.е. заданные значения для ускоряющего напряжения, ускоряющего тока и расхода используемого газа) в соответствии с ионно-стимулированным способом являются различными для слоя с высоким показателем преломления и слоя с низким показателем преломления, оба из которых составляют многослойную просветляющую пленку.

[Патентный документ 1] Опубликованная заявка на патент Японии № 2004-206024.

Раскрытие изобретения

Проблемы, решаемые изобретением

[0003] В патентном документе 1 не описывается, как изменять условия пленкообразования в случае изменения условий пленкообразования (т.е. заданных значений для ускоряющего напряжения, ускоряющего тока и расхода используемого газа) в соответствии с ионно-стимулированным способом для слоя с низким показателем преломления на условия пленкообразования в соответствии с ионно-стимулированным способом для слоя с высоким показателем преломления или в случае изменения условий пленкообразования в соответствии с ионно-стимулированным способом для слоя с высоким показателем преломления на условия пленкообразования в соответствии с ионно-стимулированным способом для слоя с низким показателем преломления.

[0004] Если для ионной пушки, которую используют в ионно-стимулированном способе, заданные значения для ускоряющего напряжения, ускоряющего тока, расхода используемого газа или т.п. изменяют без какого-либо управления, эти значения для ускоряющего напряжения, ускоряющего тока и расхода используемого газа могут изменяться неожиданным образом, что может приводить к аварийному останову ионной пушки.

[0005] Соответственно, в случае изменения одних условий пленкообразования на другие условия пленкообразования между условиями пленкообразования (заданными значениями для ускоряющего напряжения, ускоряющего тока и расхода используемого газа) в соответствии со ионно-стимулированным способом для слоя с низким показателем преломления и условиями пленкообразования в соответствии с ионно-стимулированным способом для слоя с высоким показателем преломления, применяют способ, в котором текущие заданные значения временно сбрасывают на 0, и впоследствии заданные значения изменяют на другие намеченные заданные значения (см. фиг.5). Соответственно, формирование многослойной просветляющей пленки в соответствии с ионно-стимулированным способом, для которого условия пленкообразования различны для слоя с низким показателем преломления и слоя с высоким показателем преломления, обычно занимает большое количество времени.

[0006] Задача настоящего изобретения, которое было создано с учетом вышеуказанных ситуаций, состоит в том, чтобы предложить систему ионной пушки, которая может сократить время пленкообразования без ухудшения характеристик пленки, сформированной на образуемом пленкой теле, и устройство парофазного осаждения, содержащее такую систему ионной пушки. Другая задача настоящего изобретения состоит в том, чтобы предложить способ изготовления линзы, который может сократить время пленкообразования многослойной просветляющей пленки без ухудшения характеристик многослойной просветляющей пленки, формируемой на подложке линзы.

Средства для решения проблем

[0007] Системой ионной пушки согласно изобретению по пункту 1 является система ионной пушки, содержащая: ионную пушку для испускания пучка ионов; блок электропитания для подачи электроэнергии на ионную пушку; множество регуляторов массового расхода для введения каждого из множества типов газа в упомянутую ионную пушку; средство управления ионной пушкой, соединенное с упомянутым блоком электропитания, для управления электроэнергией, подаваемой на упомянутую ионную пушку из блока электропитания; и средство управления массовым расходом, соединенное с упомянутыми регуляторами массового расхода, для управления расходом газа, вводимого в упомянутую ионную пушку из регуляторов массового расхода, причем упомянутое средство управления массовым расходом снабжено функцией изменения заданного значения для расхода каждого из множества типов газа на другое заданное значение посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где упомянутая ионная пушка работает устойчиво.

[0008] Система ионной пушки согласно изобретению по пункту 2 относится к системе ионной пушки по пункту 1, в которой упомянутое средство управления массовым расходом снабжено функцией изменения заданного значения для расхода каждого из множества типов газа на другое заданное значение посредством его пошагового изменения при синхронизации заданных значений в пределах того диапазона, где упомянутая ионная пушка работает устойчиво.

[0009] Система ионной пушки согласно изобретению по пункту 3 относится к системе ионной пушки по пункту 1 или 2, в которой упомянутое средство управления массовым расходом снабжено функцией изменения заданного значения для расхода каждого из множества типов газа на другое заданное значение посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где упомянутая ионная пушка работает устойчиво, при поддержании постоянного общего расхода.

[0010] Система ионной пушки согласно изобретению по пункту 4 относится к системе ионной пушки по любому из пунктов 1-3, в которой упомянутое средство управления ионной пушкой снабжено функцией изменения заданного значения для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на упомянутую ионную пушку, на другое заданное значение посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где упомянутая ионная пушка работает устойчиво.

[0011] Система ионной пушки согласно изобретению по пункту 5 относится к системе ионной пушки по любому из пунктов 1-4, причем упомянутое средство управления ионной пушкой снабжено функцией временной установки заданного значения для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на упомянутую ионную пушку, на значения, которые удовлетворяют условиям 30 мА ≤ значение ускоряющего тока ≤70 мА и 100 В ≤ значение ускоряющего напряжения ≤160 В, посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где упомянутая ионная пушка работает устойчиво, и впоследствии его пошагового изменения на другое заданное значение.

[0012] Система ионной пушки согласно изобретению по пункту 6 относится к системе ионной пушки по любому из пунктов 1-5, в которой изменение упомянутым средством управления ионной пушкой заданных значений для значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на ионную пушку, и изменение упомянутым средством управления массового расхода заданного значения для расхода газа, вводимого в ионную пушку, реализуются параллельно.

[0013] Система ионной пушки согласно изобретению по пункту 7 относится к системе ионной пушки по любому из пунктов 1-6, в которой по меньшей мере одно из изменения упомянутым средством управления ионной пушкой заданных значений для значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на ионную пушку, и изменения упомянутым средством управления массовым расходом заданного значения для расхода газа, вводимого в ионную пушку, должно изменять упомянутое заданное значение отдельно в расчете на отдельный единичный интервал времени, определенный посредством разделения общего времени изменения для каждого из этих значений, так чтобы изменять упомянутое заданное значение пошагово в пределах упомянутого общего времени изменения, и упомянутый отдельный единичный интервал времени установлен составляющим период времени, равный или меньший чем 1 секунда.

[0014] Устройством парофазного осаждения согласно изобретению по пункту 8 является устройство парофазного осаждения, содержащее камеру парофазного осаждения, которая содержит внутри себя образуемое пленкой тело; источник теплоты, установленный в камере парофазного осаждения, для нагревания подлежащего парофазному осаждению материала для его испарения и осаждения его на упомянутом образуемом пленкой теле; и систему ионной пушки, установленную в камере парофазного осаждения, для содействия упомянутому парофазному осаждению на упомянутое образуемое пленкой тело пучком ионов, который она испускает, причем упомянутая система ионной пушки является системой ионной пушки по любому из пунктов 1-7.

[0015] Способом изготовления линзы согласно изобретению по пункту 9 является способ изготовления линзы, включающий в себя: при формировании на подложке линзы многослойной просветляющей пленки, состоящей из слоя с высоким показателем преломления и слоя с низким показателем преломления, в соответствии с ионно-стимулированным способом с использованием ионной пушки, установление заданного значения для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на упомянутую ионную пушку, и заданного значения для расхода каждого из множества типов газа, вводимого в упомянутую ионную пушку, различными между формированием упомянутого слоя с высоким показателем преломления и формированием упомянутого слоя с низким показателем преломления, причем способ изменяет заданное значение для расхода каждого из множества типов газа на другое заданное значение посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где упомянутая ионная пушка работает устойчиво, в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления.

[0016] Способ изготовления линзы согласно изобретению по пункту 10 относится к способу по пункту 9, причем этот способ изменяет заданное значение для расхода каждого из множества типов газа на другое заданное значение посредством его пошагового изменения при синхронизации заданных значений в пределах того диапазона, где упомянутая ионная пушка работает устойчиво, в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления.

[0017] Способ изготовления линзы согласно изобретению по пункту 11 относится к способу по пункту 9 или 10, причем этот способ изменяет заданное значение для расхода каждого из множества типов газа на другое заданное значение посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где упомянутая ионная пушка работает устойчиво, при поддержании постоянного общего расхода, в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления.

[0018] Способ изготовления линзы согласно изобретению по пункту 12 относится к способу по любому из пунктов 9-11, причем этот способ изменяет заданное значение для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на упомянутую ионную пушку, на другое заданное значение посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где ионная пушка работает устойчиво, в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления.

[0019] Способ изготовления линзы согласно изобретению по пункту 13 относится к способу по любому из пунктов 9-12, причем этот способ временно устанавливает заданное значение для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на упомянутую ионную пушку, на значения, которые удовлетворяют условиям 30 мА ≤ значение ускоряющего тока ≤70 мА и 100 В ≤ значение ускоряющего напряжения ≤160 В, посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где упомянутая ионная пушка работает устойчиво, и впоследствии его пошагового изменения на другое заданное значение, в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления.

[0020] Способ изготовления линзы согласно изобретению по пункту 14 относится к способу по любому из пунктов 9-13, в котором изменение упомянутым средством управления ионной пушкой заданных значений для значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на ионную пушку, и изменение упомянутым средством управления массовым расходом заданного значения для расхода газа, вводимого в ионную пушку, реализуют параллельно в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления.

[0021] Способ изготовления линзы согласно изобретению по пункту 15 относится к способу по любому из пунктов 9-14, в котором по меньшей мере одно из изменения упомянутым средством управления ионной пушкой заданных значений для значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на ионную пушку, и изменения упомянутым средством управления массовым расходом заданного значения для расхода газа, вводимого в ионную пушку, должно изменять упомянутое заданное значение отдельно в расчете на отдельный единичный интервал времени, определенный посредством разделения общего времени изменения для каждого из этих значений, так чтобы изменять упомянутое заданное значение пошагово в пределах упомянутого общего времени изменения, в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления, и упомянутый отдельный единичный интервал времени устанавливают составляющим период времени, равный или меньший чем 1 секунда.

Результаты изобретения

[0022] Согласно изобретению по пунктам 1, 2, 3, 7 или 8 средство управления массовым расходом снабжено функцией изменения заданного значения для расхода каждого из множества типов газа на другое заданное значение посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где ионная пушка работает устойчиво. Таким образом, средство управления массовым расходом изменяет заданное значение для расхода газа на другое заданное значение посредством его пошагового изменения без изменения заданного значения на другое заданное значение после временной установки его на 0. Соответственно, время пленкообразования для формирования образуемого пленкой тела с использованием ионной пушки может быть сокращено без ухудшения характеристик пленки. Дополнительно, так как при изменении заданного значения для расхода вводимого газа обеспечена устойчивая работа ионной пушки, то можно наверняка избежать ситуации, когда происходит аварийный останов ионной пушки при изменении заданного значения.

[0023] Согласно изобретению по пунктам 4, 7 или 8 средство управления ионной пушкой изменяет заданное значение для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на ионную пушку, на другое заданное значение посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где ионная пушка работает устойчиво. Таким образом, средство управления ионной пушкой изменяет заданное значение для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения на другое заданное значение посредством его пошагового изменения без изменения заданного значения на другое заданное значение после временной установки его на 0. Соответственно, время пленкообразования для формирования образуемого пленкой тела с использованием ионной пушки может быть сокращено без ухудшения характеристик пленки. Дополнительно, так как при изменении заданного значения для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения обеспечена устойчивая работа ионной пушки, то можно наверняка избежать ситуации, когда происходит аварийный останов ионной пушки при изменении заданного значения.

[0024] Согласно изобретению по пункту 5 средство управления ионной пушкой выполняет так называемое снижение энергопотребления, при котором оно устанавливает заданное значение для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на ионную пушку, на значения, которые удовлетворяют условиям 30 мА ≤ значение ускоряющего тока ≤ 70 мА и 100 В ≤ значение ускоряющего напряжения ≤ 160 В, перед его изменением на другое заданное значение. Соответственно, даже если в другом оборудовании при выполнении снижения энергопотребления возникает ошибка, можно по возможности максимально избежать воздействия пучка ионов, испускаемого из ионной пушки, на пленку, которая уже была сформирована на образуемом пленкой теле.

[0025] Согласно изобретению по пункту 6 изменение средством управления ионной пушкой заданных значений для значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на ионную пушку, и изменение средством управления массовым расходом заданного значения для расхода газа, вводимого в ионную пушку, реализуются параллельно. Соответственно, изменение заданных значений для ионной пушки может быть реализовано в течение короткого периода времени, и, соответственно, может быть сокращено время пленкообразования.

[0026] Согласно изобретению по пунктам 9, 10, 11 или 15 способ изменяет заданное значение для расхода каждого из множества типов газа на другое заданное значение посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где ионная пушка работает устойчиво, в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления многослойной просветляющей пленки. Таким образом, способ изменяет заданное значение для расхода газа на другое заданное значение посредством его пошагового изменения без изменения заданного значения на другое заданное значение после временной установки его на 0. Соответственно, время пленкообразования для формирования многослойной просветляющей пленки на подложке линзы с использованием ионной пушки может быть сокращено без ухудшения характеристик этой пленки. Дополнительно, так как при изменении заданного значения для расхода вводимого газа обеспечена устойчивая работа ионной пушки, то можно наверняка избежать ситуации, когда происходит аварийный останов ионной пушки при изменении заданного значения.

[0027] Согласно изобретению по пункту 12 или 15 способ изменяет заданное значение для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на ионную пушку, на другое заданное значение посредством его пошагового изменения в пределах того диапазона, где ионная пушка работает устойчиво, в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления. Таким образом, способ изменяет заданное значение для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения на другое заданное значение посредством его пошагового изменения без изменения заданного значения на другое заданное значение после временной установки его на 0. Соответственно, время пленкообразования для формирования многослойной просветляющей пленки на подложке линзы с использованием ионной пушки может быть сокращено без ухудшения характеристик этой пленки. Дополнительно, так как при изменении заданного значения для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения обеспечена устойчивая работа ионной пушки, то можно наверняка избежать ситуации, когда происходит аварийный останов ионной пушки при изменении заданного значения.

[0028] Согласно изобретению по пункту 13 способ выполняет так называемое снижение энергопотребления, при котором он устанавливает заданное значение для каждого из значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на ионную пушку, на значения, которые удовлетворяют условиям 30 мА ≤ значение ускоряющего тока ≤70 мА и 100 В ≤ значение ускоряющего напряжения ≤160 В, перед его изменением на другое заданное значение, в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления. Соответственно, даже если в другом оборудовании возникает ошибка при выполнении снижения энергопотребления, можно по возможности максимально избежать воздействия пучка ионов, испускаемого из ионной пушки, на пленку, которая уже была сформирована на образуемом пленкой теле.

[0029] Согласно изобретению по пункту 14 изменение средством управления ионной пушкой заданных значений для значения ускоряющего тока и значения ускоряющего напряжения, подаваемых на ионную пушку, и изменение средством управления массовым расходом заданного значения для расхода газа, вводимого в ионную пушку, реализуют параллельно в течение периода между формированием слоя с высоким показателем преломления и формированием слоя с низким показателем преломления многослойной просветляющей пленки. Соответственно, изменение заданных значений, подаваемых на ионную пушку, может быть реализовано в течение короткого периода времени, и может быть сокращено время пленкообразования.

Лучший вариант осуществления изобретения

[0030] Далее со ссылкой на чертежи будет пояснен лучший вариант осуществления настоящего изобретения.

[0031] Фиг.1 показывает один пример, в котором настоящее изобретение было применено в системе 1 непрерывного парофазного осаждения, которая непрерывно формирует тонкую пленку, такую как просветляющая пленка, водонепроницаемое покрытие или тому подобное, на пластмассовой линзе для очков. Система 1 непрерывного парофазного осаждения непрерывно формирует просветляющую пленку и водонепроницаемое покрытие или тому подобное посредством парофазного осаждения подлежащего парофазному осаждению материала на линзу для очков (далее называемую просто «линзой») в качестве образуемого формованной пленкой тела в камере вакуумного парофазного осаждения.

[0032] Фиг.1 представляет собой схематическую диаграмму, изображающую общие принципы системы 1 непрерывного парофазного осаждения. Система 1 непрерывного парофазного осаждения включает в себя блок 100 предварительного нагрева для нагревания линзы 20, первое устройство 200 парофазного осаждения для формирования просветляющей пленки на линзе 20 и второе устройство 300 парофазного осаждения для формирования водонепроницаемого покрытия или тому подобного на линзе 20, на которой была сформирована просветляющая пленка. Дополнительно, в каждом из блока 100 предварительного нагрева, первого устройства 200 парофазного осаждения и второго устройства 300 парофазного осаждения размещен вакуумный блок (например, обозначенный ссылочной позицией 8 на фиг.2) с тем, чтобы соблюдалась заранее заданная степень вакуума.

[0033] Теперь будут описаны общие принципы процесса формирования пленок линзы 20 в системе 1 непрерывного парофазного осаждения.

Вначале, на дискообразном покрываемом куполе 2 размещают множество линз 20, так что линза 20 составляет одну штуку. Затем, покрываемый купол 2 размещают на опорной плите 101 блока 100 предварительного нагрева. Вызывают подъем покрываемого купола 2 совместно с опорной плитой 101, так что он перемещается из нижней части блока 100 предварительного нагрева во внутреннее пространство блока 100 предварительного нагрева. По завершении подъема покрываемого купола 2 и опорной плиты 101 нижнюю часть блока 100 предварительного нагрева герметизируют посредством открывающей и закрывающей плиты 103, которая поддерживает нижнюю часть опорной плиты 101. При этом покрываемый купол 2, поддерживаемый средством перемещения (не изображено на фиг.1), предусмотренным в системе 1 непрерывного парофазного осаждения, выполнен с возможностью перемещения из блока 100 предварительного нагрева через первое устройство 200 парофазного осаждения во второе устройство 300 парофазного осаждения. Дополнительно, средство перемещения, поддерживаемое покрываемым куполом 2, является вращающимся посредством исполнительного механизма, который не изображен.

[0034] Блок 100 предварительного нагрева предварительно нагревает линзы 20 покрываемого купола 2 с использованием нагревателя (такого как галогенный нагреватель) 102, приводимого в действие блоком 12 управления. По завершении предварительного нагрева блок управления 12 приводит в действие средство перемещения для того, чтобы переместить покрываемый купол 2 в первое устройство 200 парофазного осаждения.

[0035] В первом устройстве 200 парофазного осаждения функционирующие в качестве источника теплоты электронные пушки 30, 31 нагревают множество подлежащих парофазному осаждению материалов 41, 42 для их испарения, тем самым формируя, в основном, просветляющую пленку на линзе 20. Следует отметить, что приведением в действие электронных пушек 30, 31 и выбором подлежащих парофазному осаждению материалов 41, 42 управляет блок 12 управления. Дополнительно, предусмотрен измеритель 10 толщины оптической пленки для мониторинга состояния формирования тонкой пленки в первом устройстве 200 парофазного осаждения. Результат мониторинга передают в блок 12 управления, где его используют для управления электронными пушками 30, 31 или для других целей.

[0036] По завершении формирования просветляющей пленки блок 12 управления приводит в действие средство перемещения для того, чтобы переместить покрываемый купол 2 во второе устройство 300 парофазного осаждения. Во втором устройстве 300 парофазного осаждения размещена с возможностью перемещения опорная плита 301 для поддержки покрываемого купола 2 на открывающей и закрывающей плите 303, которая может подниматься и опускаться. Покрываемый купол 2, который был перемещен из первого устройства 200 парофазного осаждения, посредством средства перемещения перемещают далее во второе устройство 300 вакуумного осаждения.

[0037] На открывающей и закрывающей плите 303 второго устройства 300 парофазного осаждения размещен нагреватель (такой как галогенный нагреватель) 302, управляемый блоком 12 управления, и подлежащий парофазному осаждению материал 340 нагревают нагревателем 302 и формируют на размещенной в покрываемом куполе 2 линзе 20 водонепроницаемое покрытие. По завершении формирования водонепроницаемого покрытия на линзе 20 открывающую и закрывающую плиту 303 опускают, и завершают обработку всех процессов. После этого покрываемый купол 2 снимают с опорной плиты 301, и линзу 20 на покрываемом куполе 2 переносят к следующему процессу.

[0038] Фиг.2 показывает первое устройство 200 парофазного осаждения и блок 12 управления.

В камере 201 парофазного осаждения первого устройства 200 парофазного осаждения размещают содержащий линзу 20 покрываемый купол 2, который был перемещен из блока 100 предварительного нагрева, и удерживают его в верхней части в камере 201 парофазного осаждения.

[0039] В нижней части камеры 201 парофазного осаждения предусмотрены подовый участок 400 с контейнером 40, содержащим тигель и под, которые вмещают подлежащие парофазному осаждению материалы (пленкообразующие материалы) 41, 42, электронные пушки 30, 31, функционирующие в качестве источника теплоты, для испускания пучка электронов на подлежащие парофазному осаждению материалы 41, 42 в контейнере для испарения, заслонку 5 для электронной пушки, которая выборочно отсекает пары подлежащих парофазному осаждению материалов 41, 42, ионную пушку 14 для содействия парофазному осаждению посредством испускания пучка ионов для того, чтобы улучшить прочность и пленочное качество (например, сплошность) осаждаемой из паровой фазы тонкой пленки, блок приготовления газов (газовый блок) 15, который заполняет газом камеру 201 парофазного осаждения для того, чтобы улучшить прочность и пленочное качество осажденной из паровой фазы тонкой пленки и т.п.

[0040] Следует отметить, что в заслонке 5 для электронной пушки предусмотрен исполнительный механизм (не изображен), которым управляет блок 12 управления, что будет описано ниже. При этом подлежащими парофазному осаждению материалами 41, 42 являются вещества различных типов. Например, подлежащим парофазному осаждению материалом 41 является слой с низким показателем преломления, а подлежащим парофазному осаждению материалом 42 является слой с высоким показателем преломления.

[0041] Поблизости от покрываемого купола 2 в верхней части камеры 201 парофазного осаждения предусмотрен термометр 6 подложки для измерения температуры линзы 20 в качестве образуемого пленкой тела, которое поддерживается покрываемым куполом 2. Кроме того, предусмотрены измеритель 7 вакуума для измерения степени вакуума в камере 201 парофазного осаждения и блок 8 откачки (вакуумный блок) для создания разрежения в камере 201 парофазного осаждения. Дополнительно, поблизости от покрываемого купола 2 в верхней части камеры 201 парофазного осаждения предусмотрен нагреватель 9 для нагревания линзы 20, которую поддерживает покрываемый купол 2. Нагреватель 9 включает в себя галогенный нагреватель или тому подобный.

[0042] В верхней части камеры 201 парофазного осаждения в заранее заданной позиции установлено контрольное стекло 51, которое является компонентом измерителя 10 толщины оптической пленки, обнаруживающего состояние формирования тонкой пленки. На контрольное стекло 51, которое размещено в заранее заданной позиции в камере 201 парофазного осаждения, могут попадать пары подлежащих парофазному осаждению материалов 41, 42.

[0043] Дополнительно, снаружи над камерой 201 парофазного осаждения предусмотрен измеритель 10 толщины оптической пленки для измерения коэффициента отражения контрольного стекла 51, которое установлено в заранее заданной позиции по отношению к покрываемому куполу 2. Измеритель 10 толщины оптической пленки соединен с блоком 12 управления через средство 11 мониторинга («монитор») толщины пленки. Измеритель 10 толщины оптической пленки выдает в блок 12 управления отношение светового потока отраженного света к световому потоку излученного света в качестве данных о световом потоке (значения светового потока).

[0044] Блок 12 управления, которым, в основном, является блок контроллера последовательности команд, дополнительно включает в себя центральный процессор (ЦП), который дает команду в блок контроллера последовательности команд, запоминающее устройство, накопитель на диске или тому подобное (т.е. так называемый компьютер). Как будет описано позже, весь блок 12 управления в целом управляет каждым из блока 100 предварительного нагрева, первого устройства 200 парофазного осаждения и второго устройства 300 парофазного осаждения. Например, блок 12 управления управляет электроэнергией, подаваемой на электронные пушки 30, 31 и нагреватель 302 для формирования тонкой пленки на линзе 20.

[0045] Соответственно, блок 12 управления соединен не только с секцией 12a ввода (данных), содержащей клавиатуру, мышь или тому подобное, но также и с управляемыми им устройствами, такими как электронные пушки 30, 31, заслонка 5, вакуумный блок 8, нагреватель 9, ионная пушка 14, блок 15 приготовления газа и т.п., которые описаны выше, и с датчиками, такими как термометр 6 подложки, измеритель 7 вакуума, измеритель 10 толщины оптической пленки (средство 11 мониторинга толщины пленки) и т.п. Блок 12 управления управляет описанными выше устройствами, управление которыми должно быть основано на вводе информации от каждого датчика или тому подобном. Дополнительно, блок 12 управления соединен с нагревателем 102 блока 100 предварительного нагрева, нагревателем 302 второго устройства 300 парофазного осаждения, средством 500 перемещения, которое перемещает покрываемый купол 2 из блока 100 предварительного нагрева через первое устройство 200 парофазного осаждения во второе устройство 300 парофазного осаждения, и блоками подъема и опускания (не изображены) для открывающих и закрывающих плит 103, 303 соответственно блока 100 предварительного нагрева и второго устройства 300 парофазного осаждения.

[0046] Блок 12 управления управляет вакуумным блоком 8 на основе информации от измерителя 7 вакуума для установки степени вакуума в камере 201 парофазного осаждения 201 на заранее заданную степень вакуума. Блок 12 управления управляет также нагревателем 9 на основе информации от термометра 6 подложки для установки температуры линзы 20, которая является образуемым пленкой телом, на заранее заданную температуру. Дополнительно, блок 12 управления иногда управляет электропитанием (током и/или напряжением), подаваемым на электронные пушки 30, 31, так что значение светового потока в каждый момент, которое зависит от толщины оптической пленки для тонкой пленки, в каждый момент образованной на контрольном стекле 51 описанного выше измерителя 10 толщины оптической пленки, равно значению, хранящемуся в средстве хранения данных об опорных значениях светового потока. Дополнительно, блок управления 12 выполняет облучение пучком ионов с использованием ионной пушки 14 и заполнение газом с использованием блока 15 приготовления газа в соответствии с типом формируемой тонкой пленки и типами подлежащих испарению и парофазному осаждению материалов 41, 42.

[0047] Здесь, покрываемый купол 2 работает как поддерживающее средство, которое удерживает линзу 20 так, чтобы на линзу 20 была осаждена из паровой (газовой) фазы просветляющая пленка или тому подобное. Дополнительно, покрываемый купол 2 является дискообразным с изогнутой поверхностью, которая имеет заранее заданную кривизну, так чтобы парофазное осаждение могло быть одновременно осуществлено на множество линз 20. Дополнительно, покрываемый купол 2 выполнен с возможностью вращения посредством исполнительного механизма, который не изображен. Его вращают, в основном, для уменьшения отклонения в распределении испаренных веществ, которые нагревают, испаряют и рассеивают в камере 201 парофазного осаждения.

[0048] Электронные пушки 30, 31 испаряют подлежащие парофазному осаждению материалы (вещества) 41, 42, заключенные в контейнере, нагревая их до температур плавления подлежащих парофазному осаждению материалов 41, 42, чтобы тем самым осадить из паровой фазы/осадить подлежащие парофазному осаждению материалы (вещества) на линзе 20 и контрольном стекле 51, так чтобы образовывалась тонкая пленка. При этом контейнер 40 представляет собой водоохлаждаемые тигель или подовую облицовку, которые используют для удерживания подлежащих парофазному осаждению материалов 41, 42.

[0049] Заслонкой 5 для электронной пушки управляют так, чтобы она открывалась при инициации парофазного осаждения и закрывалась по его завершении. Заслонка 5 способствует регулированию тонкой пленки. Нагреватель 9 является средством нагрева для нагревания линзы 20 до соответствующей температуры с целью улучшения такого свойства, как адгезионная способность тонкой пленки, осаждаемой из паровой фазы на линзу 20.

[0050] Измеритель 10 толщины оптической пленки излучает свет на заранее заданной длине волны на контрольное стекло 51, удерживаемое в по существу центральной части покрываемого купола 2, и измеряет отраженный от него свет. Так как тонкая пленка, образованная на контрольном стекле 51, считается зависящей от тонкой пленки, образованной на каждой из линз 20, может быть получена информация, которая позволяет предсказать (воспроизвести) тонкую пленку, образованную на каждой из линз 20. Толщину пленки, образованной на контрольном стекле 51, измеряют на основе числа пиков светового потока, обнаруженного светоприемным датчиком, посредством чего может быть обнаружено развитие процесса пленкообразования.

[0051] В то же время, система 60 ионной пушки, содержащая ионную пушку 14, установленную в камере 201 парофазного осаждения вышеописанного первого устройства 200 парофазного осаждения, как описано выше, способст