Устройство экспонирования, жидкокристаллическое устройство отображения и способ для производства жидкокристаллического устройства отображения

Устройство экспонирования, жидкокристаллическое устройство отображения и способ для производства жидкокристаллического устройства отображения

Иллюстрации

Показать все

Реферат

ОБЛАСТЬ ТЕХНИКИ

Изобретение относится к устройству экспонирования, жидкокристаллическому устройству отображения и способу для производства жидкокристаллического устройства отображения. Конкретнее настоящее изобретение относится к устройству экспонирования, которое успешно используется в ориентирующей обработке фотоориентирующей пленки, жидкокристаллическому устройству отображения, включающему в себя фотоориентирующую пленку, и к способу для производства жидкокристаллического устройства отображения.

ПРЕДШЕСТВУЮЩИЙ УРОВЕНЬ ТЕХНИКИ

Поскольку жидкокристаллические устройства отображения являются устройствами отображения, которые дают возможность уменьшения веса, утончения и меньшего энергопотребления, жидкокристаллические устройства отображения широко используются для телевизоров, мониторов для персональных компьютеров, мониторов для портативных терминалов и т.п. В таких жидкокристаллических устройствах отображения коэффициент пропускания света, который проходит через жидкокристаллический слой, обычно управляется углом наклона жидкокристаллических молекул в зависимости от напряжения, которое подается между парой подложек (к жидкокристаллическому слою). Следовательно, в таких жидкокристаллических устройствах отображения коэффициент пропускания зависит от угла обзора. В результате в традиционных жидкокристаллических устройствах отображения в зависимости от угла обзора (наблюдения) иногда возникают дефекты отображения, такие как уменьшение коэффициента контрастности или инверсия серой шкалы, когда выполняется отображение градации. Соответственно, такие традиционные жидкокристаллические устройства отображения обычно обладают возможностью улучшения по отношению к характеристикам угла обзора.

Разработана технология разделения на домены, в которой каждый пиксель делится на две или более областей, в которых направления наклона жидкокристаллических молекул отличаются. В соответствии с этой технологией, когда на жидкокристаллический слой подается напряжение, можно улучшить характеристики угла обзора, поскольку жидкокристаллические молекулы наклоняются в разных направлениях внутри пикселей. В этой связи соответствующие области, в которых направления ориентации жидкокристаллических молекул отличаются, также называются "доменами", и разделение на домены также называется "многодоменным".

Примеры режимов жидких кристаллов, в которых выполняется разделение на домены, по отношению к режимам горизонтальной ориентации включают в себя режим многодоменного скрученного нематика (TN), режим многодоменного электрически управляемого двулучепреломления (ECB) и режим многодоменного оптически компенсируемого двулучепреломления (OCB). К тому же примеры режимов вертикальной ориентации, в которых выполняется разделение на домены, включают в себя режим многодоменной вертикальной ориентации (MVA), режим структурированной вертикальной ориентации (PVA) и режим многодоменного VAECB (ECB с вертикальной ориентацией). Разрабатываются различные модификации, чтобы реализовать еще более широкие углы обзора по отношению к жидкокристаллическим устройствам отображения в каждом режиме.

Примеры способов выполнения разделения на домены включают в себя способ шлифовки и способ фотоориентации. В качестве способа шлифовки предложен способ, который выполняет шлифовочную обработку относительно ориентирующей пленки в состоянии, в котором область шлифовки и область без шлифовки отделяются друг от друга резистом, в котором образован рисунок. Однако в способе шлифовки ориентирующая обработка выполняется путем шлифовки вертикально ориентирующей поверхности с помощью ткани, которая наматывается на ролик. Поэтому, когда применяется способ шлифовки, образуются посторонние предметы, например волокно ткани и соскобленные части, и из-за статического электричества могут возникнуть дефекты, например повреждение, сдвиг характеристики или ухудшение переключающих элементов. Поэтому имеется дополнительная возможность для улучшения по отношению к способу шлифовки.

С другой стороны, в способе фотоориентации фотоориентирующая пленка используется в качестве ориентирующей пленки, и путем облучения (экспонирования) фотоориентирующей пленки светом, например ультрафиолетовым светом, в ориентирующей пленке формируется сила регулирования ориентации и/или изменяется направление регулирования ориентации у ориентирующей пленки. Таким образом, в способе фотоориентации ориентирующая обработка ориентирующей пленки может выполняться бесконтактным способом, и можно пресечь образование грязи или посторонних предметов и т.п. во время ориентирующей обработки. К тому же при использовании фотомаски во время экспонирования можно излучать свет при разных условиях в нужных областях на поверхности ориентирующей пленки. Соответственно, можно без труда сформировать домены, которые имеют нужное исполнение.

В качестве примеров традиционного способа разделения на домены с использованием способа фотоориентации можно упомянуть следующие способы для случая, например, где пиксели разделяются на два домена. Точнее говоря, можно упомянуть способ, в котором готовится фотомаска, в которой щелевидные прозрачные части, имеющие ширину, которая равна приблизительно половине шага пикселей, образуются в светозащитной области, первое экспонирование выполняется по отношению к половине всей области пикселя, и после этого фотомаска сдвигается на величину, соответствующую приблизительно половине шага, а второе экспонирование выполняется при отличных от первого экспонирования условиях по отношению к оставшейся области пикселя. В соответствии с таким способом, каждый пиксель можно легко разделить на два или более доменов. Кроме того, например, Патентная литература 1 раскрывает технологию, которая выполняет ориентирующую обработку по способу фотоориентации, чтобы создать режим VAECB (ECB с вертикальной ориентацией).

Более того, размеры жидкокристаллического устройства отображения в последние годы увеличиваются. Производство и продажи моделей жидкокристаллических телевизоров быстро увеличились по отношению к рынкам для размеров моделей, на которых плазменные телевизоры традиционно составляли основную долю рынка, например рынок для размеров моделей от 40 до 60 дюймов. Однако было чрезвычайно сложно выполнять разделение на домены традиционным способом фотоориентации, например описанным выше способом, по отношению к большому жидкокристаллическому устройству отображения в классе 60 дюймов. Причина в том, что в настоящее время фактически не существует устройства экспонирования, которое может выполнить экспонирование подложки в классе 60 дюймов посредством одиночного экспонирования и которое имеет размер, который можно установить на фабрике, и поэтому невозможно экспонировать всю поверхность подложки в классе 60 дюймов посредством одиночного экспонирования. Следовательно, подвергая большое жидкокристаллическое устройство отображения разделению на домены по способу фотоориентации, необходимо выполнить экспонирование несколько раз, чтобы экспонировать всю поверхность подложки. К тому же, даже когда относительно небольшое жидкокристаллическое устройство отображения в классе 20 дюймов подвергается разделению на домены по способу фотоориентации, можно рассмотреть случай, в котором необходимо выполнить экспонирование подложки путем выполнения экспонирования несколько раз, когда нужно оставить размер устройства экспонирования как можно меньше. Однако в жидкокристаллическом устройстве отображения, которое подвергнуто разделению на домены путем экспонирования подложки несколько раз вышеупомянутым способом, имеются случаи, где линия стыка между соответствующими областями экспонирования может быть четко видна на экране дисплея, приводя к дефектному изделию. Поэтому в случае выполнения разделения на домены жидкокристаллического устройства отображения путем разделения подложки на множество областей и экспонирования подложки посредством нескольких экспонирований, по-прежнему имеется возможность улучшения относительно повышения качества отображения и увеличения годных изделий.

Авторы изобретения разработали следующий способ в качестве технологии для решения вышеупомянутых проблем и уже подали заявку на патент для этой технологии (см. Патентную литературу 2). А именно способ включает в себя этап экспонирования, состоящий из разделения поверхности подложки на две или более областей экспонирования и выполнения экспонирования ориентирующей пленки через фотомаску для каждой области экспонирования, где на этапе экспонирования экспонирование выполняется так, чтобы часть соседних областей экспонирования перекрывалась друг с другом, и фотомаска имела полутоновую часть, которая соответствует перекрывающимся областям экспонирования.

СПИСОК ИСТОЧНИКОВ

Патентная литература

Патентная литература 1: JP 2001-281669A.

Патентная литература 2: Международная публикация патента WO 2007/086474.

Непатентная литература

Непатентная литература 1: "Photo-Rubbing Method: A Single-Exposure Method to Stable Liquid-Crystal Pretilt Angle on Photo-Alignment Film", M. Kimura et al., IDW '04: proceedings of the 11th International Display Workshops, IDW '04 Publication committee, 2004, LCT 2-1, p. 35-38.

СУЩНОСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Техническая проблема

Когда применяется система сканирующего экспонирования в соответствии с технологией, раскрытой в Патентной литературе 2, не возникает никакой конкретной проблемы при условии, что соответствующая подложка обычно перемещается с постоянной скоростью. Однако недавно обнаружено, что в случае остановки подложки из-за мгновенного отключения питания или т.п. возникает дефект, в соответствии с чем границу рисунка, образованного в фотомаске, можно увидеть как неравномерность отображения в перекрывающейся области экспонирования (участке стыка).

Проверки, выполненные авторами изобретения, сейчас будут подробно описываться со ссылкой на чертежи.

Как показано на фиг. 32, фотомаска 121, которая используется в этом случае, включает в себя центральную часть 119 и полутоновые части 120. Полосатые прозрачные части (рисунки с полосами) образуются в центральной части 119 и полутоновых частях 120. Длины прозрачных частей 128 у полутоновых частей 120 постепенно уменьшаются с увеличением расстояния от центральной части 119. Длины прозрачных частей 128 уменьшаются в виде тригонометрической функции. Таким образом, светосила у полутоновых частей 120 меньше светосилы у центральной части 119. В этой связи длины прозрачных частей 128 могут уменьшаться линейным образом с увеличением расстояния от центральной части 119.

Фиг. 33 и 34 являются схематическими представлениями для описания процесса подвергания операции сканирующего экспонирования фотоориентирующей пленки, которая образуется на подложке. Как показано на фиг. 33 и 34, поскольку подложка 118 большая, фотоориентирующая пленка экспонируется с использованием множества фотомасок 121. Подложка 118 закрепляется на площадке 171. Вся фотоориентирующая пленка, предоставленная на подложке 118, экспонируется путем прохождения подложки 118 и площадки 171 под источником света (не показан) и фотомасками 121 в состоянии, в котором источник света и фотомаски 121 закреплены. Подложка 118 облучается УФ-светом из направления, которое находится, например, под углом в 40° относительно направления нормали к поверхности подложки. Ширина УФ-света, который прошел через прозрачные части 127 в центральной части 119, составляет, например, 40 мм. Части (участки 124 стыка) ориентирующей пленки экспонируются через полутоновые части 120 двух фотомасок. В результате, когда подложка 118 перемещается обычным образом, каждый участок 124 стыка, то есть линия стыка, визуально не распознается. С другой стороны, если подложка 118 останавливается из-за проблемы, возникающей во время сканирующего экспонирования, как показано на фиг. 35, то неравномерность отображения (след 180 маски), которая соответствует периферическим концам прозрачных частей 128, визуально распознается в участках 124 стыка.

Авторы изобретения изготовили панель с использованием подложки, в которой возникла вышеописанная проблема, и после освещения панели и подробного изучения панели обнаружили, что внешний вид следа маски зависит от местоположения. В частности, как показано на фиг. 36, след 180 маски кажется плотнее, когда след 180 маски подходит к центральной линии 124c участка стыка с концов 124a участка стыка, и кажется самым плотным на центральной линии 124c. С другой стороны, это явление (след маски) визуально не распознавалось в областях помимо участков 124 стыка, то есть в областях, экспонированных через центральную часть 119.

В системе сканирующего экспонирования количество облучения светом устанавливается на основе длины прозрачной части (открывающей части) фотомаски 121 и скорости перемещения подложки 118. Точнее говоря, в системе сканирующего экспонирования количество облучения на фотоориентирующую пленку вычисляется на основе следующего уравнения:

(Количество облучения)=(освещенность)×(ширина прозрачной части)/(скорость сканирования)

Поскольку количество облучения устанавливается на основе значения, вычисленного по этому уравнению, если подложка 118 останавливается, то скорость сканирования станет равной нулю, и эффективное количество облучения мгновенно возрастет. То есть количество облучения будет прерывающимся между моментом, когда подложка 118 перемещается, и моментом, когда подложка 118 останавливается. Эта прерывность количества облучения непосредственно влияет на угол наклона жидкокристаллических молекул. Дополнительно считается, что степень мгновенного увеличения количества облучения, когда подложка останавливается, отличается между участком 124 стыка и областями помимо участка 124 стыка, и поскольку степень увеличения на участке 124 стыка больше, след маски визуально распознается на участке 124 стыка.

Настоящее изобретение создано в связи с вышеупомянутыми обстоятельствами, и цель настоящего изобретения - предоставить устройство экспонирования, которое может препятствовать визуальному распознаванию неравномерности отображения на участке стыка, даже если сканирование временно останавливается во время сканирующего экспонирования, а также жидкокристаллическое устройство отображения и способ для производства жидкокристаллического устройства отображения.

Решение проблемы

Авторы изобретения проводили различные исследования касательно устройств экспонирования, которые могут препятствовать визуальному распознаванию неравномерности отображения на участке стыка, даже если сканирование временно останавливается во время сканирующего экспонирования, и сосредоточили внимание на рисунках фотомаски. В результате авторы изобретения обнаружили, что путем предоставления первой области и второй области, которая граничит с первой областью в направлении (вертикальном направлении), которое ортогонально направлению сканирования в фотомаске, образования множества первых прозрачных частей внутри первой светозащитной части первой области, размещения множества первых прозрачных частей в вертикальном направлении, образования множества вторых прозрачных частей внутри второй светозащитной части второй области, причем вторые прозрачные части сделаны меньше первых прозрачных частей, и размещения множества вторых прозрачных частей в вертикальном направлении, а также расположения множества вторых прозрачных частей так, чтобы они были дискретно рассредоточены в направлении сканирования, даже когда участок стыка экспонируется через вторую область, можно пресечь формирование линии стыка. Кроме того, даже если сканирование временно останавливается во время экспонирования, то неравномерность отображения, которая соответствует концам вторых прозрачных частей, можно сделать неясной, и следы рисунка вторых прозрачных частей можно сделать незаметными. Осознав, что эта идея может превосходно решить вышеупомянутую проблему, авторы изобретения пришли к настоящему изобретению.

Точнее говоря, настоящее изобретение предоставляет устройство экспонирования для экспонирования фотоориентирующей пленки, которая предоставляется на подложке, причем устройство экспонирования включает в себя источник света и фотомаску и экспонирует фотоориентирующую пленку через фотомаску, сканируя при этом по меньшей мере одно из источника света и подложки, в котором, когда направление, в котором сканируется по меньшей мере одно из источника света и подложки, выбирается в качестве направления сканирования, а направление, которое ортогонально направлению сканирования, выбирается в качестве вертикального направления: фотомаска содержит первую область и вторую область, которая граничит с первой областью в вертикальном направлении; первая область содержит множество первых прозрачных частей внутри первой светозащитной части; множество первых прозрачных частей размещается в вертикальном направлении; вторая область содержит множество вторых прозрачных частей внутри второй светозащитной части; множество вторых прозрачных частей меньше множества первых прозрачных частей; и множество вторых прозрачных частей размещается в вертикальном направлении и дискретно рассредоточено в направлении сканирования.

Конфигурация устройства экспонирования из настоящего изобретения особенно не ограничивается при условии, что она по существу включает в себя такие компоненты.

Настоящее изобретение дополнительно предоставляет способ для производства жидкокристаллического устройства отображения, которое включает в себя фотоориентирующую пленку, которая предоставляется на подложке, причем способ для производства включает в себя этап экспонирования, состоящий из экспонирования фотоориентирующей пленки через фотомаску, сканируя при этом по меньшей мере одно из источника света и подложки, в котором, когда направление, в котором сканируется по меньшей мере одно из источника света и подложки, выбирается в качестве направления сканирования, а направление, которое ортогонально направлению сканирования, выбирается в качестве вертикального направления: фотомаска содержит первую область и вторую область, которая граничит с первой областью в вертикальном направлении; первая область содержит множество первых прозрачных частей внутри первой светозащитной части; множество первых прозрачных частей размещается в вертикальном направлении; вторая область содержит множество вторых прозрачных частей внутри второй светозащитной части; множество вторых прозрачных частей меньше множества первых прозрачных частей; и множество вторых прозрачных частей размещается в вертикальном направлении и дискретно рассредоточено в направлении сканирования.

Форма способа для производства жидкокристаллического устройства отображения из настоящего изобретения особенно не ограничивается при условии, что она по существу включает в себя такие компоненты и этапы. Способ для производства жидкокристаллического устройства отображения может включать в себя другие компоненты и этапы.

Предпочтительные варианты осуществления устройства экспонирования и жидкокристаллического устройства отображения из настоящего изобретения более подробно упоминаются ниже. Нижеследующие варианты осуществления могут применяться в сочетании.

В устройстве экспонирования и способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением предпочтительно, чтобы фотоориентирующая пленка формировалась из материала (фотоориентирующего материала), в котором направление ориентации жидкого кристалла изменяется в соответствии с направлением излучения светового луча или направлением перемещения области облучения световым лучом.

В устройстве экспонирования и способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением предпочтительно, чтобы светосила второй области уменьшалась с увеличением расстояния от первой области. Таким образом, можно эффективнее препятствовать визуальному распознаванию линии стыка.

В устройстве экспонирования и способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением множество вторых прозрачных частей и вторая светозащитная часть могут быть предоставлены (по существу) симметрично друг другу относительно центральной линии второй области, которая параллельна направлению сканирования (центральной линии второй области, которая является линией, которая параллельна направлению сканирования). В результате можно устранить дисбаланс между прозрачными частями и светозащитной частью по всей второй области, и даже когда происходит мгновенное отключение питания, возможно предотвратить визуальное распознавание конца маски в участке стыка. Таким образом, рисунок вторых прозрачных частей и рисунок второй светозащитной части также могут быть (по существу) симметричны друг другу относительно вышеупомянутой центральной линии.

В устройстве экспонирования и способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением множество вторых прозрачных частей и вторая светозащитная часть могут находиться в (по существу) зеркальном расположении друг с другом относительно центральной линии второй области, которая параллельна направлению сканирования (центральной линии второй области, которая является линией, которая параллельна направлению сканирования). В результате можно устранить дисбаланс между прозрачными частями и светозащитной частью по всей второй области, и даже когда происходит мгновенное отключение питания, возможно предотвратить визуальное распознавание конца маски в участке стыка. Таким образом, рисунок вторых прозрачных частей и рисунок второй светозащитной части также могут находиться в (по существу) зеркальном расположении друг с другом относительно вышеупомянутой центральной линии.

В устройстве экспонирования в соответствии с настоящим изобретением предпочтительно, чтобы: фотомаска была первой фотомаской; устройство экспонирования дополнительно включало в себя вторую фотомаску и экспонировало фотоориентирующую пленку через первую и вторую фотомаску, сканируя при этом по меньшей мере одно из источника света и подложки; вторая фотомаска содержала третью область и четвертую область, которая граничит с третьей областью в вертикальном направлении; третья область содержала множество третьих прозрачных частей внутри третьей светозащитной части; множество третьих прозрачных частей размещалось в вертикальном направлении; четвертая область содержала множество четвертых прозрачных частей внутри четвертой светозащитной части; множество четвертых прозрачных частей было меньше множества третьих прозрачных частей; множество четвертых прозрачных частей размещалось в вертикальном направлении и было дискретно рассредоточено в направлении сканирования; и часть фотоориентирующей пленки экспонировалась через множество вторых прозрачных частей, а также экспонировалась через множество четвертых прозрачных частей. Таким образом, участок стыка может экспонироваться через вторую и четвертую прозрачные части, и можно пресечь формирование линии стыка на участке стыка. Более того, даже если сканирование временно останавливается во время экспонирования, то неравномерность отображения, которая соответствует концам четвертых прозрачных частей, можно сделать неясной, и следы рисунка четвертых прозрачных частей можно сделать незаметными. В этой связи отдельные источники света могут использоваться для первой и второй фотомасок.

В способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением предпочтительно, чтобы: фотомаска была первой фотомаской; на этапе экспонирования фотоориентирующая пленка экспонировалась через первую фотомаску и вторую фотомаску, сканируя при этом по меньшей мере одно из источника света и подложки; вторая фотомаска содержала третью область и четвертую область, которая граничит с третьей областью в вертикальном направлении; третья область содержала множество третьих прозрачных частей внутри третьей светозащитной части; множество третьих прозрачных частей размещалось в вертикальном направлении; четвертая область содержала множество четвертых прозрачных частей внутри четвертой светозащитной части; множество четвертых прозрачных частей было меньше множества третьих прозрачных частей; множество четвертых прозрачных частей размещалось в вертикальном направлении и было дискретно рассредоточено в направлении сканирования; и часть фотоориентирующей пленки экспонировалась через множество вторых прозрачных частей, а также экспонировалась через множество четвертых прозрачных частей. Таким образом, участок стыка может экспонироваться через вторую и четвертую прозрачные части, и можно пресечь формирование линии стыка на участке стыка. Более того, даже если сканирование временно останавливается во время экспонирования, то неравномерность отображения, которая соответствует концам четвертых прозрачных частей, можно сделать неясной, и следы рисунка четвертых прозрачных частей можно сделать незаметными. В этой связи отдельные источники света могут использоваться для первой и второй фотомасок.

В устройстве экспонирования и способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением предпочтительно, чтобы светосила четвертой области уменьшалась с увеличением расстояния от третьей области. Таким образом, можно эффективнее препятствовать визуальному распознаванию линии стыка.

В устройстве экспонирования и способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением множество вторых прозрачных частей может предоставляться в соответствии с четвертой светозащитной частью, и множество четвертых прозрачных частей может предоставляться в соответствии со второй светозащитной частью. В результате, даже когда происходит мгновенное отключение питания, можно предотвратить многократные экспонирования областей и можно избежать ситуации, в которой визуально распознается не только конец маски в участке стыка, но также сама экспонируемая часть стыка. Таким образом, рисунок вторых прозрачных частей может соответствовать рисунку четвертой светозащитной части, и рисунок четвертых прозрачных частей может соответствовать рисунку второй светозащитной части.

В устройстве экспонирования и способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением первая и вторая фотомаски могут быть расположены так, что (по существу) совпадают центральная линия второй области, которая параллельна направлению сканирования (центральная линия второй области, которая является линией, которая параллельна направлению сканирования), и центральная линия четвертой области, которая параллельна направлению сканирования (центральная линия четвертой области, которая является линией, которая параллельна направлению сканирования), и множество вторых прозрачных частей и множество четвертых прозрачных частей могут находиться в (по существу) зеркальном расположении друг с другом относительно двух центральных линий. В результате, даже когда происходит мгновенное отключение питания, можно предотвратить многократные экспонирования областей и можно избежать ситуации, в которой визуально распознается не только конец маски в участке стыка, но также и сама экспонируемая часть стыка. Таким образом, рисунок вторых прозрачных частей и рисунок четвертых прозрачных частей могут находиться в (по существу) зеркальном расположении друг с другом относительно вышеупомянутых двух центральных линий.

В устройстве экспонирования и способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением, когда прямая линия, которая параллельна направлению сканирования, выбирается в качестве линии сканирования, множество вторых прозрачных частей (среди множества вторых прозрачных частей), которые находятся на одной и той же линии сканирования, может располагаться с по существу равными интервалами. Таким образом, можно пресечь возникновение неравномерности отображения, которая вызвана дисбалансом относительно местоположений, в которых располагаются вторые прозрачные части.

В устройстве экспонирования и способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением множество первых прозрачных частей может быть дискретно рассредоточено в направлении сканирования, и в такое время предпочтительно, чтобы защищалась от света область (среди множества первых прозрачных частей) между первыми прозрачными частями, которые граничат в направлении сканирования. Таким образом, можно пресечь возникновение неравномерности отображения, которая вызвана прерывностью в количестве границ первой и второй прозрачных частей.

С аналогичной точки зрения в устройстве экспонирования и способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением множество третьих прозрачных частей может быть дискретно рассредоточено в направлении сканирования, и в такое время предпочтительно, чтобы защищалась от света область (среди множества третьих прозрачных частей) между третьими прозрачными частями, которые граничат в направлении сканирования.

В способе для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением предпочтительно, чтобы на этапе экспонирования фотоориентирующая пленка экспонировалась так, чтобы в каждом пикселе образовались две области, которые экспонируются в антипараллельных направлениях друг к другу, когда подложка наблюдается в плоском виде. Таким образом, можно легко реализовать жидкокристаллическое устройство отображения, обладающее широким углом обзора, например жидкокристаллическое устройство отображения, которое выбирает режим многодоменного TN, режим многодоменного ECB, режим многодоменного VAECB, режим многодоменного VAHAN (гибридно-ориентированный нематик с вертикальной ориентацией) или режим многодоменного VATN (скрученный нематик с вертикальной ориентацией).

Настоящее изобретение также предоставляет жидкокристаллическое устройство отображения, которое производится по способу для производства жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с настоящим изобретением.

Предпочтительные варианты осуществления жидкокристаллического устройства отображения из настоящего изобретения подробно описываются ниже. Различные варианты осуществления, описанные ниже, могут объединяться подходящим образом.

Жидкокристаллическое устройство отображения из настоящего изобретения предпочтительно является жидкокристаллическим устройством отображения с активной матрицей, хотя оно может быть и жидкокристаллическим устройством отображения с пассивной матрицей.

Жидкокристаллическое устройство отображения может включать в себя жидкокристаллический слой типа вертикальной ориентации, и жидкокристаллический слой может содержать жидкокристаллический материал с отрицательной анизотропией диэлектрических свойств. Посредством этого возможно реализовать жидкокристаллическое устройство отображения, которое выбирает режим вертикальной ориентации.

Жидкокристаллическое устройство отображения может включать в себя жидкокристаллический слой типа горизонтальной ориентации, и жидкокристаллический слой может содержать жидкокристаллический материал с положительной анизотропией диэлектрических свойств. Посредством этого возможно реализовать жидкокристаллическое устройство отображения, которое выбирает режим горизонтальной ориентации.

Жидкокристаллический слой может включать в себя скрученный нематический жидкий кристалл. Посредством этого возможно реализовать жидкокристаллическое устройство отображения, которое выбирает режим TN, режим VATN, режим многодоменного TN или режим многодоменного VATN. В этой связи жидкокристаллическое устройство отображения, которое выбирает режим VATN, включает в себя пару подложек, жидкокристаллический слой, содержащий нематический жидкий кристалл, и пару вертикально ориентирующих пленок, предоставленных на соответствующих подложках, где направления ориентирующей обработки, которой подвергнуты ориентирующие пленки, являются по существу ортогональными друг другу, когда обе поверхности подложки наблюдаются в плоском виде, а когда напряжение не подается, нематический жидкий кристалл ориентируется вертикально и в скрученном виде.

Вышеупомянутое жидкокристаллическое устройство отображения предпочтительно содержит два или более доменов и предпочтительно содержит четыре домена или меньше, и предпочтительнее, чтобы жидкокристаллическое устройство отображения содержало четыре домена. Таким образом, предотвращается усложнение процесса производства, и можно реализовать жидкокристаллическое устройство отображения с отличными характеристиками угла обзора. Дополнительно путем предоставления, например, четырех доменов угол обзора можно расширить в каждом из четырех направлений, которые ортогональны друг другу, то есть верхнем, нижнем, правом и левом направлениях. К тому же характеристики угла обзора в каждом из четырех направлений, которые ортогональны друг другу, можно сделать по существу одинаковыми. То есть можно реализовать характеристики угла обзора, которые обладают отличными свойствами симметрии. Следовательно, можно реализовать жидкокристаллическое устройство отображения, которое обладает небольшой зависимостью от угла обзора. В этой связи особенно не ограничивается форма, в которой размещаются домены, когда выполняется разделение доменов на четыре домена, и матричная форма или форма из горизонтальных полос может упоминаться в качестве их примеров.

Полезные результаты изобретения

В соответствии с устройством экспонирования жидкокристаллическим устройством отображения и способом для производства жидкокристаллического устройства отображения из настоящего изобретения можно препятствовать визуальному распознаванию неравномерности отображения на участке стыка, даже если сканирование временно останавливается во время операции сканирующего экспонирования.

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙ

Фиг. 1 - схематическое представление в поперечном сечении, показывающее конфигурацию жидкокристаллического устройства отображения в соответствии с Вариантом 1 осуществления.

Фиг. 2 - плоский схематичный чертеж, показывающий один подпиксель из Варианта 1 осуществления, который показывает направления излучения света относительно первой подложки (вертикально ориентирующая пленка).

Фиг. 3 - плоский схематичный чертеж, показывающий один подпиксель из Варианта 1 осуществления, который показывает направления излучения света относительно второй подложки (вертикально ориентирующая пленка).

Фиг. 4 - плоский схематичный чертеж, показывающий один подпиксель из Варианта 1 осуществления, который показывает направления излучения света относительно первой и второй подложек и направления ориентации жидкокристаллических молекул, когда подается напряжение. Фиг. 4 также показывает направления осей поляризации у поляризаторов из Варианта 1 осуществления.

Фиг. 5 - плоский схематичный чертеж первой подложки (подложки матрицы TFT) из Варианта 1 осуществления.

Фиг. 6 - плоский схематичный чертеж второй подложки (подложки CF) из Варианта 1 осуществления.

Фиг. 7 - плоский схематичный чертеж, который показывает первую подложку и фотомаски на этапе экспонирования в соответствии с Вариантом 1 осуществления.

Фиг. 8 - плоский схематичный чертеж, который показывает первую подложку и фотомаски на этапе экспонирования в соответствии с Вариантом 1 осуществления.