Способ изготовления многослойного тела, а также многослойное тело

Способ изготовления многослойного тела, а также многослойное тело

Иллюстрации

Показать все

Реферат

Изобретение относится к способу изготовления многослойного тела, содержащего несущий слой и образованный на несущем слое и/или в несущем слое однослойный или многослойный декоративный слой, а также к многослойному телу, получаемому с помощью способа.

Оптические защитные элементы часто применяют для затруднения копирования документов или изделий, с целью предотвращения их неправомерного использования. Так, оптические защитные элементы применяются для защиты документов, банкнот, кредитных и платежных карточек, удостоверений, упаковок ценных изделий и подобного. При этом известно применение оптически изменяющихся элементов в качестве оптических защитных элементов, которые невозможно копировать с помощью традиционных способов копирования. Известно также снабжение защитных элементов структурированным металлическим слоем, который выполнен в виде текста, логотипа или другого узора.

Создание структурированного металлического слоя из плоско нанесенного, например, посредством распыления или напыления металлического слоя осаждением пара требует множества процессов, в частности, когда необходимо создать тонкие структуры, которые имеют высокую степень защиты от подделок. Так, например, известна частичная деметаллизация металлического слоя, нанесенного по всей поверхности, посредством позитивного или негативного травления или посредством лазерной абляции, с целью его структурирования. В качестве альтернативного решения, можно наносить металлические слои уже в структурированном виде на опору с помощью применения напылительных масок.

Чем больше предусмотрено производственных стадий для изготовления защитного элемента, тем большее значение приобретает точность приводки отдельных стадий способа, то есть точность позиционирования отдельных инструментов относительно друг друга при создании защитного элемента относительно уже имеющихся на защитном элементе признаков или слоев или структур.

Задачей данного изобретения является создание особенно трудно репродуцируемого многослойного тела и способа изготовления такого многослойного тела, в котором частично сформированный слой формируют с приводкой к другому частично сформированному слою.

Задача решена с помощью способа изготовления многослойного тела, который содержит следующие этапы:

a) образование на и/или в несущем слое, содержащем первую сторону и вторую сторону, однослойного или многослойного декоративного слоя с первой зоной и второй зоной, при этом декоративный слой, при рассматривании перпендикулярно плоскости несущего слоя, имеет в первой зоне первый коэффициент пропускания и во второй зоне второй коэффициент пропускания, больший по сравнению с первым коэффициентом пропускания, при этом упомянутые коэффициенты пропускания относятся к электромагнитному излучению с подходящей для фотоактивации длиной волны;

b) расположение подлежащего структурированию слоя на первой стороне несущего слоя,

c) расположение слоя резиста(обозначаемого сокращено как «резист»), фотоактивируемого с помощью упомянутого электромагнитного излучения, на первой стороне несущего слоя так, что слой резиста расположен на противоположной несущему слою стороне по меньшей мере одного подлежащего структурированию слоя, а декоративный слой расположен на другой стороне по меньшей мере одного подлежащего структурированию слоя,

d) экспонирование слоя резиста со второй стороны несущего слоя с помощью указанного электромагнитного излучения, при этом декоративный слой за счет образования первой зоны и второй зоны служит в качестве маски для экспонирования, и

e) структурирование по меньшей мере одного подлежащего структурированию слоя и слоя резиста с помощью синхронизированных друг с другом образующих структуру процессов с точной приводкой относительно друг друга.

Этапы а)-е) способа, согласно изобретению, предпочтительно выполняют в указанной последовательности. При экспонировании фотоактивируемого слоя с помощью указанного электромагнитного излучения с противоположной фотоактивируемому слою стороны несущего слоя через декоративный слой, задающий первую зону и вторую зону, декоративный слой действует в качестве маски для экспонирования, поскольку первая зона имеет коэффициент пропускания, который уменьшен по сравнению с коэффициентом пропускания второй зоны.

Такой способ обеспечивает возможность создания особенно защищенных от подделок многослойных тел. Как указывалось выше, в способе декоративный слой служит во время изготовления многослойного тела в качестве маски для экспонирования, то есть для фотоактивации фотоактивируемого слоя резиста, а в готовом многослойном теле - в качестве декорации. В частности, декоративный слой выполнен так, что наблюдатель при рассматривании декорированного с помощью многослойного тела предмета может видеть через декоративный слой по меньшей мере один структурированный слой. Типичное пропускание первой зоны декоративного слоя по меньшей мере на один порядок больше, чем типичное пропускание обычной маски для экспонирования, например, из металла.

За счет применения декоративного слоя в качестве маски для экспонирования слой резиста структурируют с точной приводкой относительно первой и второй зон декоративного слоя, то есть структуры структурированного слоя резиста расположены с приводкой относительно первой и второй зон декоративного слоя. Кроме того, в соответствии со способом, согласно изобретению, по меньшей мере один подлежащий структурированию слой структурируют с точной приводкой относительно слоя резиста. Способ обеспечивает также создание по меньшей мере трех образованных с точной приводкой относительно друг друга слоев: декоративного слоя, слоя резиста и по меньшей мере одного подлежащего структурированию слоя. С помощью этапа е) структурирования создают по меньшей мере один подлежащий структурированию слой в качестве структурированного слоя. В результате выполнения способа многослойное тело имеет структурированный слой с точной приводкой в первой зоне или во второй зоне декоративного слоя. Под приводкой или точностью приводки следует понимать точное расположение лежащих друг над другом слоев. Приводку, соответственно, точность приводки слоев предпочтительно контролируют с помощью приводочных меток, которые имеются равным образом на всех слоях и по которым, предпочтительно с помощью оптических способов распознавания или сенсорной техники можно легко распознавать, расположены ли слои с приводкой. Точность приводки задается в обоих измерениях, то есть по длине и ширине слоев.

Под приводкой понимается точное расположение друг на друге или друг над другом различных элементов многослойного тела. Один слой содержит по меньшей мере одну прослойку. Декоративный слой содержит одну или несколько декоративных и/или защитных прослоек, выполненных, в частности, в виде слоев лака. Декоративные прослойки могут быть расположены по всей поверхности или в виде структурированного узора на несущем слое. При этом одна или несколько декоративных прослоек образованы на одной или на обеих сторонах несущего слоя, который выполнен, например, в виде пленки основания или пленки-носителя. Декоративный слой содержит по меньшей мере один слой, ослабляющий электромагнитное излучение с пригодной для фотоактивации длиной волны. Декоративный слой имеет относительно электромагнитного излучения с пригодной для фотоактивации длиной волны оптическую плотность больше нуля.

За счет выполнения маски для экспонирования в виде декоративного слоя неизбежно обеспечивается абсолютно 100%-я точность приводки маски для экспонирования относительно декоративного слоя, то есть сам декоративный слой выполняет по меньшей мере в некоторых зонах функцию маски для экспонирования. Таким образом, декоративный слой и маска для экспонирования образуют общий функциональный блок. За счет как простого, так и эффективного способа, согласно данному изобретению, обеспечивается значительное преимущество по сравнению с обычными способами, в которых необходимо приводить отдельную маску для экспонирования относительно декоративного слоя, при этом на практике лишь в минимальном количестве случаев возможно полностью предотвратить отклонения в приводке.

Таким образом, с помощью данного изобретения можно структурировать подлежащий структурированию слой без дополнительных технологических затрат с точной приводкой относительно задаваемых с помощью декоративного слоя первой и второй зон. В обычных способах создания маски травления посредством экспонирования маски, при этом маска выполнена или в виде отдельного блока, например, в виде отдельной пленки, или в виде отдельной стеклянной пластины или стеклянного валка, или в виде дополнительно напечатанного слоя, может возникать тот недостаток, что линейные и/или нелинейные искажения в многослойном теле, вызываемые предшествующими, в частности, создающими термические и/или механические нагрузки этапами способа, невозможно полностью компенсировать по всей поверхности многослойного тела за счет ориентации маски на многослойном теле, хотя ориентация маски осуществляется по имеющимся приводочным меткам, предпочтительно расположенным на горизонтальных и/или вертикальных краях многослойного тела. При этом допуски отклоняются по всей поверхности многослойного тела в относительно большом диапазоне. С помощью способа согласно изобретению используются заданные с помощью декоративного слоя первая и вторая зоны в качестве маски, при этом части декоративного слоя, задающие первую и вторую зоны, наносятся в ранней стадии процесса во время изготовления многослойного тела. Таким образом, выполненная в виде декоративного слоя маска проходит через все последующие этапы обработки многослойного тела, и за счет этого автоматически подвергается всем возможно вызываемым этими этапами обработки искривлениям в многослойном теле. За счет этого не могут возникать дополнительные допуски, в частности, также дополнительные отклонения допусков по поверхности многослойного тела, поскольку за счет этого предотвращается необходимое по возможности более точное по приводке последующее позиционирование этой независимой от предыдущих этапов обработки маски. Допуски, соответственно, точность приводки в способе, согласно изобретению, обуславливаются лишь возможно не абсолютно точно выполненными краями первой и второй зон, качество которых определяется применяемыми способами изготовления. Допуски, соответственно, точность приводки в способе, согласно изобретению, лежат примерно в микронном диапазоне и тем самым намного ниже разрешающей способности глаза; то есть невооруженный глаз человека больше не может воспринимать имеющиеся допуски.

При экспонировании, согласно изобретению, слоя резиста со второй стороны несущего слоя, слой резиста повергается в некоторых зонах экспонированию разной интенсивности. Это различное экспонирование слоя резиста обуславливается различными коэффициентами пропускания во второй и первой зонах декоративного слоя, но не зависит от возможно имеющейся рельефной структуры, в частности, не зависит от рельефной структуры, сформированной в пленке-носителе или в слое, расположенном на этой пленке-носителе. Другими словами, различное экспонирование слоя резиста не обуславливается рельефной структурой.

Структурирование по меньшей мере одного подлежащего структурированию слоя и фотоактивируемого слоя резиста, который расположен на первой стороне несущего слоя, определяется за счет различно интенсивного экспонирования слоя резиста, которое, в свою очередь задается с помощью первой и второй зоны декоративного слоя; однако структурирование не зависит от возможно имеющейся рельефной структуры и не обуславливается рельефной структурой, в частности, не зависит от рельефной структуры, образованной в пленке-носителе или в слое, расположенном на пленке-носителе. Таким образом, границы первой и второй зоны декоративного слоя соответствуют, при рассматривании перпендикулярно плоскости несущего слоя, с точной приводкой границам структурирования по меньшей мере одного подлежащего структурированию слоя или фотоактивируемого слоя резиста, однако не зависят и не обуславливаются границами, в частности, контурами рельефной структуры.

В соответствии с этапом d) способа, согласно изобретению, декоративный слой служит за счет образования первой зоны и второй зоны в качестве маски для экспонирования, при этом образованная таким образом маска для экспонирования не зависит от возможно имеющейся рельефной структуры, в частности, не зависит от рельефной структуры, образованной в пленке-носителе или в слое, расположенном на пленке-носителе. В соответствии с этапом е) способа, согласно изобретению, по меньшей мере один подлежащий структурированию слой и слой резиста структурируют с точной приводкой относительно друг друга с помощью синхронизированных друг с другом образующих структуру процессов, при этом это структурирование зависит от первой и второй зоны декоративного слоя, но не зависит от возможно имеющейся рельефной структуры, в частности, не зависит от рельефной структуры, образованной в пленке-носителе или в слое, расположенном на пленке-носителе.

Функция декоративного слоя в качестве маски для экспонирования не зависит от подлежащего структурированию слоя. Физические свойства, в частности, эффективная толщина или оптическая плотность подлежащего структурированию слоя не оказывают влияния, соответственно, не зависят от физических свойств декоративного слоя, то есть маски для экспонирования, в частности, от коэффициентов пропускания первой и второй зоны декоративного слоя. Декоративный слой определяет маску для экспонирования, согласно изобретению, самостоятельно и независимо от возможно имеющихся рельефных структур, в частности, дифракционных рельефных структур и других, в частности, физических и/или химических свойств подлежащего структурированию слоя. Подлежащий структурированию слой не является частью маски для экспонирования, то есть в данном изобретении маска для экспонирования (декоративный слой) и подлежащий структурированию слой присутствуют по отдельности и не связаны функционально.

Возможно, чтобы по меньшей мере один подлежащий структурированию слой имел постоянную толщину слоя по всей поверхности, по которой он расположен на первой стороне несущего слоя.

Возможно, чтобы декоративный слой содержал первый лаковый слой, который расположен на несущем слое в первой зоне с первой толщиной слоя, а во второй зоне либо отсутствует, либо расположен со второй толщиной слоя, меньшей по сравнению с первой толщиной слоя, так что декоративный слой имеет в первой зоне указанный первый коэффициент пропускания и во второй зоне указанный второй коэффициент пропускания.

Возможно, что декоративный слой содержит первую окраску несущего слоя, которая образована в первой зоне с первой толщиной слоя и либо отсутствует во второй зоне, либо образована с помощью второй толщины слоя, меньшей по сравнению с первой толщиной слоя, так что декоративный слой в первой зоне имеет указанный первый коэффициент пропускания и во второй зоне указанный второй коэффициент пропускания. Окраска несущего слоя может быть выполнена в виде окрашенной или измененной по окраске зоны внутри несущего слоя. Предпочтительным способом создания окраски несущего слоя является лазерная маркировка в несущем слое с изменением цвета или способ, при котором осуществляется введение пигментов или красящих материалов в несущий слой методом диффузии.

Примером лазерной маркировки в виде чернения или затемнения несущего слоя является воздействие лазерным лучом на несущий слой, например, из поликарбоната (PC), которое является особенно эффективным, когда поликарбонат легирован. Описание таких несущих слоев приведено, например, в ЕР 0991523 В1 или ЕР 0797511 B1.

Примером способа прямой диффузии пигментов или красящих материалов является печатание на несущем слое с помощью цветного лака, содержащего растворитель, последующее временное воздействие цветного лака и последующее смывание цветного лака. За счет растворителя или растворителей в цветном лаке происходит частичное разъедание поверхности материала несущего слоя, за счет чего части цветного лака могут диффундировать по меньшей мере в слои несущего слоя, лежащие в зоне разъеденной поверхности верхние. Для этого материал несущего слоя необходимо выбирать так, что обеспечивается возможность его растворения с помощью используемого в цветном лаке растворителя. Такой комбинацией может быть, например, несущий слой из поликарбоната и цветной лак на основе ароматических растворителей. После удаления цветного лака в несущем слое остается диффундированная составляющая цветного лака. В зависимости от толщины слоя нанесенного цветного лака и в зависимости от выбора материала несущего слоя можно вводить с помощью диффузии различное количество пигментов или красящих веществ в несущий слой на различную глубину. Хотя за счет прямой диффузии на краях первой и/или второй зон возникает легкая нерезкость, однако она проходит по горизонтали лишь в зоне предпочтительно вертикальной толщины слоя напечатанного цветного лака. При этом «вертикально» относится к прохождению по существу перпендикулярно несущему слою, а «горизонтально» - к прохождению по существу в плоскости, образованной несущим слоем. Например, если способом печати наносят слой цветного лака толщиной в несколько микрометров, например, 1-10 мкм, то нерезкость лежит также лишь в диапазоне от 1 до 10 мкм и тем самым намного ниже разрешающей способности глаза.

Другим примером способа диффундирования пигментов или красящих веществ является, например, печать на несущем слое с помощью съемного лака для покрытия второй зоны. Затем несущий слой подвергают воздействию атмосферы с испаренным красителем, например, атмосферы из инертного газа, такого как аргон или азот, и испаренного йода. В непокрытой съемным лаком первой зоне испаренный краситель диффундирует в несущий слой. Затем можно удалять съемный лак. В качестве альтернативного решения или же в комбинации с ним, можно пропускать несущий слой, пропечатанный в некоторых зонах с помощью съемного лака, через раствор, содержащий, например, аполярный растворитель, такой как толуол или бензин, и растворенный в нем краситель и предпочтительно также растворенный в растворе УФ-блокатор (УФ-ультрафиолетовый). При этом съемный лак должен быть стойким к растворителям раствора, например, должен быть водорастворимым съемным лаком. Краситель и возможно УФ-блокатор диффундируют в непокрытые съемным лаком первые зоны несущего слоя в растворе и тем самым окрашивают несущий слой. Затем съемный лак с несущего слоя удаляют.

Другим примером способа диффузии пигментов или красителей является печать на несущем слое с помощью способа тепловой сублимации, при котором краситель отдельного цветного несущего слоя подвергают сублимации с помощью локального воздействия теплом с помощью термопечатающей головки, то есть испаряют. Затем этот пар может диффундировать в несущий слой, при этом достигается высокое разрешение порядка 300 dpi (точек на дюйм). Для дальнейшего повышения резкости по краям при диффузии, можно применять дополнительные маски, которые расположены между термопечатающей головкой и несущим слоем и закрывают не подлежащие окрашиванию зоны несущего слоя.

Возможно, что один слой декоративного слоя выполнен в некоторых зонах с различной толщиной слоя на и/или внутри несущего слоя. Возможно, что один слой декоративного слоя выполнен в виде слоя по существу с равномерной толщиной слоя, и слой образован лишь в некоторых зонах, то есть в структурированной в виде узора форме, на и/или внутри несущего слоя. При этом возможно, что декоративный слой содержит слои, нанесенные лишь на одной стороне несущего слоя, или слои, нанесенные на обе стороны декоративного слоя.

Кроме того, задача решена с помощью многослойного тела, содержащего несущий слой, который имеет первую сторону и вторую сторону, и однослойный или многослойный декоративный слой, образованный на и/или внутри несущего слоя, который имеет первую зону и вторую зону, при этом декоративный слой, при рассматривании перпендикулярно плоскости несущего слоя, имеет в первой зоне первый коэффициент пропускания и во второй зоне второй коэффициент пропускания, больший по сравнению с первым коэффициентом пропускания, причем указанные коэффициенты пропускания относятся к электромагнитному излучению с подходящей для фотоактивации длиной волны, при этом многослойное тело имеет по меньшей мере один слой, структурированный с приводкой относительно первой зоны и второй зоны.

Многослойное тело, согласно изобретению, можно применять, например, в качестве этикетки, ламинированной пленки, пленки горячего тиснения или трансферной пленки, для создания оптического защитного элемента, который используется для защиты документов, банкнот, кредитных и платежных карточек, удостоверений, упаковок ценных изделий и подобного. При этом декоративный слой и по меньшей мере один расположенный с точной приводкой к нему структурированный слой служат в качестве защитного элемента.

Когда в последующем приводится описание расположения предмета в первой зоне и/или во второй зоне, то под этим следует понимать, что предмет расположен так, что предмет и первая и/или вторая зона декоративного слоя соединены внахлестку при рассматривании перпендикулярно поверхности несущего слоя. В последующем также понятия «первая зона» и «вторая зона» распространяются, исходя из декоративного слоя, также на другие предметы, например, слои многослойного тела. Первая/вторая зона предмета означает, что первая/вторая зона декоративного слоя и первая/вторая зона предмета являются конгруэнтными при рассматривании перпендикулярно плоскости несущего слоя.

Образованная с помощью декоративного слоя маска для экспонирования содержит первую зону и вторую зону, которые имеют различный коэффициент пропускания относительно применяемого при экспонировании излучения. Поэтому маска для экспонирования не содержит абсолютно непроницаемой зоны для применяемого при экспонирования излучения, а лишь одну зону с более высоким коэффициентом пропускания и одну зону с более низким коэффициентом пропускания, и поэтому ее можно называть полутоновой маской. Зона фотоактивируемого слоя, экспонированная через первую зону, активируется в меньшей степени, чем зона фотоактивируемого слоя, экспонированная через вторую зону, поскольку первая зона имеет меньший коэффициент пропускания, чем вторая зона.

Целесообразно, когда для образования фотоактивируемого слоя применяется позитивный фоторезист, растворимость которого увеличивается при активировании посредством экспонирования, или негативный фоторезист, растворимость которого уменьшается при активировании посредством экспонирования. Экспонированием называется избирательное облучение фотоактивируемого слоя через маску для экспонирования с целью локального изменения растворимости фотоактивируемого слоя с помощью фотохимической реакции. По виду достигаемого с помощью фотохимической реакции изменения растворимости различают следующие фотоактивируемые слои, которые могут быть выполнены в качестве фоторезистов: в первом типе фотоактивируемых слоев (например, негативный лак; по-английски negative resist-негативный резист) их растворимость за счет экспонирования уменьшается по сравнению с неэкспонированными зонами слоя, например, потому что освещение приводит к затвердеванию слоя; во втором типе фотоактивируемых слоев (например, позитивный лак; по-английски positive resist-позитивный резист) их растворимость за счет экспонирования увеличивается по сравнению с неэкспонированными зонами слоя, например, потому что освещение приводит к разложению слоя.

Кроме того, целесообразно, когда слой резиста удаляется при применении позитивного фоторезиста во второй зоне или при применении негативного фоторезиста в первой зоне. Это можно осуществлять с помощью растворителя, такого как щелочь или кислота. При применении позитивного фоторезиста более интенсивно экспонированная вторая зона слоя резиста имеет более высокую растворимость, чем меньше экспонированная первая зона о слоя резиста. Поэтому растворитель растворяет материал о слоя резиста, то есть позитивный фоторезист, который расположен во второй зоне, быстрее и лучше, чем материал слоя резиста, который расположен в первой зоне. За счет применения растворителя можно также структурировать слой резиста, то есть слой резиста удаляется во второй зоне, но остается сохраненным в первой зоне.

Целесообразно, когда подлежащий структурированию слой удаляют в первой или второй зоне, в которой был удален слой резиста. Это можно осуществлять с помощью средства травления, такого как кислота или щелочь. Предпочтительно, когда частичное удаление слоя резиста в первой или второй зоне и тем самым в освобожденной первой или второй зоне подлежащего структурированию слоя осуществляется на одном и том же этапе способа. Этого можно достигать простым образом с помощью растворителя или травильного средства, такого как щелочь или кислота, которое способно удалять как слой резиста - при позитивном фоторезисте в экспонированной зоне, при негативном фоторезисте в не экспонированной зоне, так и подлежащий структурированию слой, то есть разлагает оба материала. При этом слой резиста должен быть выполнен так, что он является по меньшей мере в течение достаточного времени, то есть в течение времени воздействия растворителя или средства травления стойким относительно используемого для удаления подлежащего структурированию слоя растворителя, соответственно, травильного средства при применении позитивного фоторезиста в не экспонированной зоне, при применении негативного фоторезиста в экспонированной зоне.

В одном предпочтительном варианте выполнения предусмотрено также максимально полное удаление (=«снятие») резиста во время рабочего этапа удаления подлежащего структурированию слоя в первой или второй зоне или на отдельном, последующем рабочем этапе. При этом за счет уменьшения количества лежащих друг над другом слоев в многослойном теле можно повышать его устойчивость и прочность, поскольку минимизируются проблемы адгезии между примыкающими друг к другу слоями. Кроме того, может быть улучшен внешний вид многослойного тела, поскольку после удаления резиста, который, в частности, может быть окрашенным и/или не полностью прозрачным, а лишь просвечивающим или непрозрачным, снова освобождаются лежащие под ним зоны. Однако для специальных применений, без особенно высоких требований к стойкости или внешнему виду, можно также оставлять резист на структурированном слое. Оставление фоторезиста на структурированном слое может быть, в частности, предпочтительным, когда он выполнен в виде относительно стабильного негативного резиста и окрашен. Для этого можно также печатать резист двумя или несколькими красками. Таким образом, можно реализовывать различные цветовые восприятия при рассматривании многослойного тела с различных сторон.

Предпочтительно, когда слой резиста экспонируется с противоположной слою резиста стороны несущего слоя с помощью указанного электромагнитного излучения, при этом декоративный слой за счет образования по меньшей мере одной первой зоны и по меньшей мере одной второй зоны служит в качестве маски для экспонирования. По меньшей мере один подлежащий структурированию слой структурируется с помощью удаляемого после экспонирования по меньшей мере в одной первой зоне или по меньшей мере в одной второй зоне фотоактивируемого слоя с приводкой относительно по меньшей мере одной первой зоны и по меньшей мере одной второй зоны.

Предпочтительно, когда слой резиста включает активируемый ультрафиолетом материал. В этом случае для этапа d) экспонирования можно применять ультрафиолетовое излучение. За счет этого можно отделять визуальные свойства многослойного тела от желаемых свойств процесса структурирования по меньшей мере одного подлежащего структурированию слоя. Этап d) экспонирования выполняют так, что излучение полностью пронизывает слой резиста, то есть проходит вплоть до его наружной поверхности, противоположной несущему слою. Лишь в этом случае можно беспрепятственно удалять резист с помощью растворителя со стороны наружной поверхности слоя резиста. Если резист пронизывается излучением не полностью, то он имеет, как правило, еще «пленку» на своей противоположной несущему слою наружной стороне, которая предотвращает по меньшей мере частично воздействие растворителя.

Несущий слой должен быть прозрачным для излучения, применяемого на этапе d) экспонирования. Целесообразно применять для экспонирования электромагнитное излучение с максимумом излучения в диапазоне 365 нм, поскольку в этом диапазоне PET (полиэтилентерефталат), который может образовывать существенную составляющую часть несущего слоя, является прозрачным. В диапазоне этой длины волны лежит максимум излучения ртутного излучателя высокого давления. Для следующих материалов носителя можно также применять электромагнитное излучение с длиной волны в диапазоне от 254 до 314 нм: олефиновый материал носителя, такой как РР (полипропилен) или РЕ (полиэтилен), материал носителя на основе PVC или сополимеров PVC, материал носителя на основе поливинилового спирта или поливинилацетата, полиэфирные материалы носителя на основе алифатического сырья.

Предпочтительно выбирать толщину и материал декоративного слоя так, чтобы первый коэффициент пропускания был больше нуля. Толщину и материал декоративного слоя выбирают так, что электромагнитное излучение с подходящей для фотоактивации длиной волны частично пронизывает декоративный слой в первой зоне. Образованная с помощью декоративного слоя маска для экспонирования также выполнена проницаемой для излучения в первой зоне.

Целесообразно, когда толщина и материал декоративного слоя выбраны так, что соотношение между вторым и первым коэффициентом пропускания равно или больше двух. Соотношение между первым и вторым коэффициентом пропускания предпочтительно составляет 1:2, называемое также контрастом 1:2. Контраст 1:2 по меньшей мере на один порядок меньше, чем в обычных масках. Раньше не было принято применять для экспонирования слоя резиста маску, которая имеет такой небольшой контраст, как указанный декоративный слой согласно изобретению. При экспонировании резиста с помощью обычной маски (например, хромовой маски) получаются непрозрачные, т.е. с OD>2 или полностью прозрачные зоны; таким образом, маска имеет большой контраст. Обычная алюминиевая маска имеет контраст 1:100, поскольку коэффициент пропускания алюминиевого слоя имеет значения приблизительно 1%, в соответствии с оптической плотностью (OD), равной 2. Коэффициент пропускания (Т) и OD связаны друг с другом следующим соотношением: Т=10^-OD (то есть OD=0 соответствует Т=100%; OD=2 соответствует T=1%; OD=3 соответствует Т=0,1%). В противоположность обычным способам экспонирования в данном изобретении слой резиста экспонируют не только через маску с небольшим контрастом (декоративный слой), но также через подлежащий структурированию слой.

Кроме того, возможно, что между несущим слоем и по меньшей мере одним подлежащим структурированию слоем, предпочтительно непосредственно на первой стороне несущего слоя, расположен по меньшей мере один функциональный слой, в частности, отделяемый слой и/или слой защитного лака. Это предпочтительно, в частности, при применении многослойной пленки в виде трансферной пленки, в которой функциональный слой обеспечивает беспроблемное отделение несущего слоя от трансферного слоя, который содержит по меньшей мере один слой декоративного слоя и структурированный слой.

Целесообразно, когда толщина и материал декоративного слоя выбраны так, что электромагнитное излучение, измеренное после прохождения через пакет слоев, состоящий из несущего слоя, по меньшей мере одного функционального слоя и декоративного слоя, имеет в первой зоне коэффициент пропускания, равный примерно 0,3, и во второй зоне коэффициент пропускания, равный примерно 0,7. Такой контраст между обеими выполненными с различным коэффициентом пропускания зонами, то есть между первой и второй зоной, является достаточным, в частности, при позитивном слое резиста.

Возможно, что на первой стороне несущего слоя образована по меньшей мере одна рельефная структура, и что по меньшей мере один подлежащий структурированию слой расположен на поверхности по меньшей мере одной рельефной структуры. Для этого может быть предусмотрено расположение репликационного слоя на первой стороне несущего слоя и тиснение по меньшей мере одной рельефной структуры в противоположной несущему слою поверхности репликационного слоя. Однако может быть также предусмотрено тиснение по меньшей мере одной рельефной структуры непосредственно в несущем слое. При этом несущий слой должен иметь на первой стороне несущего слоя подходящий для репликационного способа репликационный материал носителя, например, PVC (поливинилхлорид), PC, PS (полистирол) или PVA (поливинилацетат). Под репликационным слоем обычно понимается слой, изготавливаемый с рельефной структурой поверхности. Сюда входят, например, органические слои, такие как пластмассовые или лаковые слои, или неорганические слои, такие как неорганические пластмассы (например, силиконы), стеклянные слои, полупроводниковые слои, металлические слои и т.д., а также их комбинации. Предпочтительно, репликационный слой выполнен в виде репликационного лакового слоя. Для образования рельефной структуры можно наносить на несущий слой затвердеваемый под воздействием излучения репликационный слой, формировать рельеф в репликационном слое и подвергать затвердеванию репликационный слой вместе со сформированном в нем рельефом. Предпочтительно, когда рельеф выполнен в виде микроскопической или макроскопической структуры, отклоняющей свет или преломляющей свет или рассеивающей свет, такой как дифракционная структура или дифракционная решетка или матовая структура, или комбинации из микроскопических или макроскопических структур, отклоняющих свет или преломляющих свет или рассеивающих свет, таких как дифракционные структуры, матовые структуры или дифракционные решетки.

Возможно, что по меньшей мере одна рельефная структура по меньшей мере частично расположена в первой зоне и/или во второй зоне. При этом компоновка поверхности рельефной структуры может быть согласована с компоновкой поверхности первой и второй зоны, в частности, с приводкой к ней, или же компоновка поверхности рельефной структуры выполнена, например, в виде непрерывного бесконечного узора независимо от компоновки поверхности первой и второй зоны. За счет расположения, согласно изобретению, слоя резиста на первой стороне несущего слоя так, что слой резиста расположен на противоположной несущему слою стороне по меньшей мере одного подлежащего структурированию слоя, а декоративный слой расположен на другой стороне по меньшей мере одного подлежащего структурированию слоя, можно располагать подлежащий структурированию слой по меньшей мере частично на рельефной структуре, в отличии от способа структурирования с применением смываемого лака. В обычном способе структурирования с применением смываемого лака, который содержит диоксид кремния или диоксид титана (например, рутил), диоксид кремния и диоксид титана действуют за счет механического воздействия разрушающим образом на поверхность репликационного валика, в частности, с поверхностью из никеля. Кроме того, репликацию затрудняют также различия уровня между слоем смываемого лака и расположенным под ним слоем, в который подлежит тиснению рельефная структура.

Возможно, что после этапа е) на первую сторону несущего слоя наносят выравнивающий слой. С