Способ получения термоэлектрического материала
Использование: для изготовления термоэлектрических материалов (ТЭМ), применяемых в термоэлектрических устройствах (ТЭУ). Сущность изобретения заключается в том, что способ включает синтез твердых растворов, гомогенизацию отжигом исходного материала, запаянного в ампулу, причем синтез халькогенида меди производят выдержкой при температуре на 30-50°С выше температуры его плавления, а гомогенизацию осуществляют отжигом халькогенида меди при температуре 600-800°С, после чего халькогенид меди подвергают воздействию облучения высокоэнергетичными электронами со средней энергией электронов 7-9 МэВ в диапазоне доз 1.2·1016-3.2·1018 эл/см2 при комнатной температуре, затем вновь осуществляют отжиг при температуре 400-600°С. Технический результат: обеспечение возможности упрощения технологии изготовления и улучшения термоэлектрических характеристик материала на основе халькогенидов меди. 3 з.п. ф-лы, 1 табл.
Реферат
Изобретение относится к области технологии приборостроения, используется для преобразования тепловой энергии в электрическую, в частности, при изготовлении термоэлектрических материалов (ТЭМ), применяемых в термоэлектрических устройствах (ТЭУ).
Известен способ получения ТЭМ на основе теллурида висмута, при котором для повышения добротности материала, связанный с созданием термоэлектрических веществ монокристалл теллурида висмута подвергают воздействию гидростатического давления [см. А.С. СССР №882361, MПК9 H01L 35/16, опубл. 30.04.91].
Недостатками прототипа являются сложность применения и низкая технологичность при изготовлении ТЭМ.
Наиболее близким к заявляемому техническому решению является способ получения ТЭМ на основе теллурида висмута, включающий синтез твердых растворов, гомогенизацию отжигом исходного материала, запаянного в ампулу [см. А.С. №2470414, МПК9 H01L 35/34, опубл. 20.12.12].
Недостатками прототипа являются сложность технологического процесса и трудоемкость при изготовлении ТЭМ.
Задачей предлагаемого технического решения является упрощение технологии изготовления и улучшение термоэлектрических характеристик материала на основе халькогенидов меди.
Решение технического результата достигается тем, что в способе получения термоэлектрического материала, включающем синтез твердых растворов, гомогенизацию отжигом исходного материала, запаянного в ампулу, согласно изобретению синтез халькогенида меди производят выдержкой при температуре на 30-50°С выше температуры его плавления, а гомогенизацию осуществляют отжигом халькогенида меди при температуре 600-800°С, после чего халькогенид меди подвергают воздействию облучения высокоэнергетичными электронами со средней энергией электронов 7-9 МэВ в диапазоне доз 1.2·1016-3.2·1018 эл/см2 при комнатной температуре, затем вновь осуществляют отжиг при температуре 400-600°С.
В качестве халькогенидов меди используют теллурид меди.
В качестве халькогенидов меди используют селенид меди.
В качестве халькогенидов меди используют сульфид меди.
Данный способ получения термоэлектрического материала позволит упростить технологию изготовления и улучшить термоэлектрические характеристики материала, тем самым повысить его добротность.
Сущность изобретения поясняется таблицами сравнительных характеристик материалов (значение добротности материалов приведено в относительных единицах - отношение добротности после и до воздействия облучения при различных температурах отжига).
Способ осуществляют следующим образом.
Способ получения термоэлектрического материала на основе халькогенида меди включал синтез твердого раствора с плавлением взятых в стехиометрическом соотношении исходных компонентов: меди и халкогена в запаянных ампулах. Запаянную ампулу помещали в печь и нагревали до температуры, превышающей температуру плавления синтезируемого соединения на 30-50°С.
Подъем температуры проводили медленно, с выдержкой около часа (50-60 с) при температурах начала реакции между исходными компонентами. При синтезе сульфида меди выдержку производили при температуре 170-180°С, селенида меди - 350-390°С, теллурида меди - 450-460°С. После синтеза осуществляли гомогенизацию отжигом в запаянных ампулах при температуре 600-800°С в течение 7-9 часов.
Полученные образцы халькогенидов меди подвергали воздействию высокоэнергетичными электронами на ускорителе со средней энергией электронов 7-9 МэВ. Дозы облучения меняли в диапазоне доз 1.2·1016-3.2·1018 эл/см2. Контроль параметров образцов проводили до воздействия облучения и после обработки высокоэнергетичными электронами. Температура при облучении не превышала комнатной, что достигалось постоянным обдувом образцов воздухом. Для стабилизации параметров исследуемых образцов вновь проводили высокотемпературный отжиг при 400-600°С, результаты экспериментов представлены в таблице.
При воздействии на образцы халькогенидов меди дозами высокоэнергетичных электронов менее 1.2·1016 эл/см2 и более 3.2·1018 эл/см2 и температур отжига менее 400°С и более 600°С термоэлектрические характеристики материала ухудшаются и, следовательно, снижается добротность (см. таблицу).
Оптимальным является воздействие облучение исходного материала высокоэнергетичными электронами при дозе 1·1017 эл/см2 и температуре отжига 500°С.
Использование предлагаемого технического решения позволит по сравнению с прототипом улучшить технологичность и увеличить добротность халькогенидов меди, что может быть использовано при создании эффективных ТЭУ. Влияние облучения высокоэнергетичными электронами на добротность халькогенидов меди позволит управлять свойствами материалов халькогенидов меди.
Таблица | |||||||
Сравнительные характеристики халькогенида меди | |||||||
«Способ получения термоэлектрического материала» | |||||||
Температура отжига (°С) | 400 | ||||||
Доза облучения (эл/см2) | 1,1·1016 | 1,2·1016 | 1,3·1016 | 1·1017 | 3·1018 | 3,2·1018 | 3,3·1018 |
Добротность материала | 1,0 | 1,05 | 1,1 | 1,2 | 1,05 | 1,05 | 1,0 |
Температура отжига (°С) | 500 | ||||||
Доза облучения (эл/см2) | 1,1·1016 | 1,2·1016 | 1,3·1016 | 1·1017 | 3·1018 | 3,2·1018 | 3,3·1018 |
Добротность материала | 1,0 | 1,1 | 1,15 | 1,4 | 1,14 | 1,1 | 1,0 |
Температура отжига (°C) | 600 | ||||||
Доза облучения (эл/см2) | 1,1·1016 | 1,2·1016 | 1,3·1016 | 1·1017 | 3·1018 | 3,2·1018 | 3,3·1018 |
Добротность материала | 1,0 | 1,0 | 1,1 | 1,15 | 1,1 | 1,0 | 1,0 |
1. Способ получения термоэлектрического материала на основе халькогенидов, включающий синтез твердых растворов, гомогенизацию отжигом исходного материала, запаянного в ампулу, отличающийся тем, что синтез исходного материала, в качестве которого используют халькогенид меди, производят выдержкой при температуре на 30-50°С выше температуры его плавления, а гомогенизацию осуществляют отжигом халькогенида меди при температуре 600-800°С, после чего халькогенид меди подвергают воздействию облучения высокоэнергетичными электронами со средней энергией электронов 7-9 МэВ в диапазоне доз 1.2·1016-3.2·1018 эл/см2 при комнатной температуре, затем вновь осуществляют отжиг при температуре 400-600°С.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в качестве халькогенидов меди используют теллурид меди.
3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в качестве халькогенидов меди используют селенид меди.
4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в качестве халькогенидов меди используют сульфид меди.