Устройство для нанесения пленок
Патент 259595
Классы МПК
Устройство для нанесения пленок
Иллюстрации
Реферат
259595
О П И С А Н И Е
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Советских
Социалистических
Республик
Зависимое от авт. свидетельства ¹
Заявлено 27Х.1968 (№ 1242790/26-9) с присоединением заявки №
Кл. 48b, 13/04
Приоритет
Комитет по делам иаобретений и открытий при Совете Министров
СССР
МПК С 23с
УДК 621.3.049.75:
:621.793.12 (088.8) Опубликовано 12.XII.1969. Бюллетень № 5 за 1970
Дата опубликования описания 27Л .1970
Автор изобретения
Ю. Г. Тупиков
Заявитель
Ленинградский электротехнический институт связи им. проф. М. А. Бонч-Бруевича
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК
Известны устройства для нанесения пленок катодным распылением в тлеющем разряде на постоянном токе с применением очищающей ионной бомбардировки поверхности подложки во время осаждения пленки, содержащее вакуумную камеру, снабженную катодом, анодом и держателем подложек.
С целью обеспечения последовательного нанесения пленок на кажд ю подложку и интенсификации ионной бомбардировки подложек 10 в предлагаемом устройстве держатель с подложками расположен за анодом, имеющим окно, предназначенное для напыления пленки на подло>кк, ос чцествляемое одновременно с интенсивной бомбардировкой поверхности 15 подложки за счет дополнительного разряда. создаваемого хте>кд анодом и деряателем подложек.
На чертеже приведена схема предлагаемого устройства. 20
Устройство содержит стандартную вакуумн ю камер, сттабяепн ю катодом l, анодом 2 и держателем подложек 8, например. чискового типа, которые электрически изолированы друг от дрязга. Держатель несет подложки 4, 25 на поверхность которых, обращенн ю в сторон катода, с помощью контактов б подается потенциал деожателя, а также подает и фиксирует подлояки в зоне напыления против окна б в аноде. 30
Первоначально держатель подложек устанавливается в положение, когда против окна в аноде не оказывается подложки. Затем между катодом и анодом включается основной тлеющий разряд, в котором происходит распыление катода. После предварительного разогрева катода подается отрицательный относительно анода потенциал на держатель.
В зависимости от расстояния 1 между анодом и держателехт прн заданном давлении рабочего газа в вакуумной камере устройство обеспечивает один из двух режимов ионной бомбардировки поверхности держателя (а во время напыления — подложки) против окна в аноде: режим ионной бомбардировки со смещением в основном разряде, когда расстояние l при данном давлении рабочего газа мало для горения второго разряда между анодом и держателем и режим ионной бомбардировки в дополнительном разряде, когда между держателем и анодом в районе окна зажигается второй разряд, то-есть расстояние 1 достаточно для горения этого дополнительного разояда.
С помощью держателя первая подлояка устанавливается против окна в аноде. Испускаемые катодом частицы распространяются через разрядный промежуток, сквозь окно в аноде попадают на подложку и конденсируются на ней. Одновременно с этим поверх259595
Предмет изобретснияСоставитель Э. Фридолина
Техред T. П. Курилко Корректор Г. П. Шильман
Редактор Т. Морозова
Заказ 1298, 8 Тираж 500 Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР
Москва К-35, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2 ность, на которую осаждается пленка, подвергается ионной бомбардировке, вызывающей десорбцию газов с этой поверхности. Интенсивность ион ной бомбардировки зависит от потенциала на держателе, давления рабочего газа и от режима, который в свою очередь определяется, как показано выше, расстоянием 1.
После нанесения пленки на первую подложку в зону напыления подается вторая и т. д.
Устройство для нанесения пленок катодным распылением в тлеющем разряде на постоянном токе с применением очищающей ионной бомбардировки поверхности подложки Во время осаждения пленки, содержащее вакуумную камеру, снабженную катодом, анодом и деркателем подложек, отличаош ееся тем, что, с целью обеспечения последовательного, нанесения пленок на каждую подложку и интенсификации ионной бомбардировки подложек, держатель с подложками расположен за ано10 дом, имеющим окно, предназначенное для напыления пленки на подложку, осуществляемое одновременно с интенсивной бомбардировкой поверхности подложки за счет дополнительного разряда, создаваемого между ано15 дом и держателем подложек.