Очищающие композиции для индивидуального применения, содержащие галогенид аминокислоты/триметилглицина цинка

Изобретение относится к очищающей композиции для индивидуального применения, содержащей: a) эффективное для очищения кожи количество поверхностно-активного вещества и b) комплекс галогенид-Х-цинк, присутствующий в количестве, обеспечивающем, по меньшей мере, 0,36% по массе композиции цинка, где комплекс галогенид-Х-цинк имеет формулу ZnX2Hal2 или ZnX3Hal2, где Zn является двухвалентным ионом цинка, Hal является хлорид-ионом, X является аминокислотой, выбранной из лизина и аргинина. Изобретение также относится к способу уменьшения наносимого коже вреда от солнечных лучей, способу защиты кожи от солнечного ожога или вреда от солнечных лучей, способу уничтожения бактерий, вызывающих запах пота, и способу уменьшения потоотделения, включающим очищение кожи с помощью указанной жидкой композиции. Также изобретение относится к применению указанного комплекса галогенид-Х-цинк для уменьшения или предотвращения солнечного ожога. 6 н. и 15 з.п. ф-лы, 2 табл., 4 пр.

Реферат

ПЕРЕКРЕСТНАЯ ССЫЛКА НА РОДСТВЕННЫЕ ЗАЯВКИ

[0001] Настоящая заявка частично является продолжением заявки № PCT/US2012/70489, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2012/70492, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2012/70498, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2012/70501, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2012/70505, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2012/70506, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2012/70513, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2012/70521, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2012/70525, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2012/70534, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2012/70537, поданной 19 декабря 2012 года; PCT/US2013/46268, поданной 18 июня 2013 года; PCT/US2013/50845, поданной 17 июля 2013 года; PCT/US2013/68852, поданной 7 ноября 2013 года; PCT/US2013/68854, поданной 7 ноября 2013 года; PCT/US2013/68859, поданной 7 ноября 2013 года; PCT/US2013/68860, поданной 7 ноября 2013 года, содержание каждой из которых включено в настоящий документ посредством ссылки.

ПРЕДШЕСТВУЮЩИЙ УРОВЕНЬ ТЕХНИКИ

[0002] Необычайную сложность представляет собой обеспечение жидких композиций для личной гигиены с солнцезащитными компонентами или средствами, солнцезащитные компоненты которых могут легко депонироваться в коже или другой поверхности. Одна существенная трудность заключается в том, что, как правило, солнцезащитные средства солюбилизируются поверхностно-активным веществом и, несмотря на то, что они могут депонироваться во время пенообразования, они удаляются посредством смывания.

[0003] Существует необходимость в дополнительных очищающих композициях, обеспечивающих доставку солнцезащитных активных агентов на кожу для обеспечения улучшенной солнцезащитной эффективности.

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ СУЩНОСТИ ИЗОБРЕТЕНИЯ

[0004] Очищающая композиция для индивидуального применения содержит:

a) эффективное количество поверхностно-активного вещества для очищения кожи, и

b) галогенид X цинка, присутствующий в количестве для обеспечения, по меньшей мере, 0,36% по массе композиции цинка,

где X является аминокислотой или триметилглицином.

[0005] Кроме того, существует способ применения вышеуказанной композиции для очищения кожи.

[0006] Настоящее изобретение относится к очищающей композиции для индивидуального применения, например, гелю для душа, средству для мытья тела, шампуню, кондиционеру или кусковому мылу, доставляющей на кожу галогенид X цинка, т.е. комплекс ионов цинка, остаток X и галогенид-ион, такой как лизин хлорид цинка (ZnLys2Cl2 или ZnЛизин3Cl2). X относится к аминокислоте или триметилглицину. Триметилглицин при использовании на всем протяжении настоящего документа относится к N,N,N-триметилглицину.

[0007] Комплекс солюбилизирует соль цинка для обеспечения ее доставки на кожу или волосы из очищающей композиции для индивидуального применения.

[0008] Галогенид X цинка обеспечивает солнцезащитные свойства, также представлен способ снижения наносимого коже вреда от солнечных лучей или защиты кожи от солнечного ожога или вреда от солнечных лучей, включающий очищение кожи очищающей композицией и водой воздействием солнечных лучей.

[0009] Кроме того, представлены способы уничтожения бактерий, включающие взаимодействие бактерий с композицией.

[0010] Кроме того, представлен способ уменьшения потоотделения, включающий очищение кожи с помощью композиции.

[0011] Другие области применения настоящего изобретения станут очевидными из подробного описания, представленного далее в настоящем документе. Следует понимать, что подробное описание и конкретные примеры, несмотря на указание предпочтительного варианта осуществления изобретения, предназначены для иллюстративных целей и не предназначены для ограничения объема изобретения.

ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

[0012] В соответствии с предпочтительными вариантами осуществления изобретения, композиция является жидкой, как правило, водной жидкой, и может быть представлена в форме шампуня, жидкого мыла или моющего средства, пены для ванны, геля для душа, средства для мытья тела или кондиционера.

[0013] Композиция выполняет функцию солнцезащитного фильтра и очищающей композиции.

[0014] Один из вариантов осуществления изобретения относится к композиции, содержащей галогенид X цинка и/или галогенидные материалы-предшественники X цинка, образующие галогенид X цинка in situ (например, источник ионов цинка вместе с гидрогалогенидом X, или галогенид цинка вместе с X, или источник ионов цинка вместе с галогенной кислотой, а также с X). Источником ионов цинка для получения галогенида X цинка является материал, способный высвобождать Zn2+ в водном растворе в присутствии X, например, оксида цинка, четырехосновного хлорида цинка, хлорида цинка, карбоната цинка, цитрата цинка, нитрата цинка или фосфата цинка.

[0015] В первом варианте осуществления изобретения представлена очищающая композиция для индивидуального применения для нанесения на кожу или волосы, содержащая галогенид Х цинка, одно или несколько поверхностно-активных веществ, (композиция 1), например,

1.1. Любая из вышеуказанных композиций, также содержащая косметически приемлемый носитель.

1.2. Любая из вышеуказанных композиций, где галогенид Х цинка образован из предшественников, где предшественниками являются источник ионов цинка, источник X и источник галогенида, где источник галогенида может входить в состав источника ионов цинка, источника X или галогенной кислоты.

1.3. Вышеуказанная композиция, где источником ионов цинка является, по меньшей мере, один из оксида цинка, хлорида цинка, четырехосновного хлорида цинка, карбоната цинка, цитрата цинка, нитрата цинка или фосфата цинка.

1.4. Композиции 1.2 или 1.3, где источником X является, по меньшей мере, один из основной аминокислоты, лизина, аргинина и глицина.

1.5. Любая из вышеуказанных композиций, где галогенид Х цинка получают посредством сочетания оксида цинка с гидрогалогенидом аминокислоты.

1.6. Любая из вышеуказанных композиций, где галогенид Х цинка получают посредством сочетания четырехосновного хлорида цинка с гидрогалогенидом аминокислоты, аминокислотой или триметилглицином, необязательно галогенид Х цинка получают посредством сочетания четырехосновного хлорида цинка с лизином, гидрохлоридом лизина или триметилглицином.

1.7. Любая из вышеуказанных композиций, где галогенид Х цинка имеет формулу ZnX3Hal2, где Zn является двухвалентным ионом цинка, X является аминокислотой или остатком триметилглицина, и Hal является галогенид-ионом.

1.8. Любая из вышеуказанных композиций, где общее количество цинка, присутствующего в композиции, составляет, по меньшей мере, 0,37%, от 0,36% до 10%, или от 0,37 до 10%, или от 0,36 до 5%, или от 0,37 до 5%, или от 0,4 до 5%, или от 0,4 до 2%, или от 0,4 до 1%, или от 0,5 до 5%, или от 0,5 до 4%, или от 0,5 до 3%, или от 0,5 до 2% по массе композиции.

1.9. Любая из вышеуказанных композиций, где аминокислотой является лизин.

1.10. Любая из вышеуказанных композиций, где галогенид Х цинка присутствует в количестве от 1,5 до 40% по массе композиции, необязательно от, по меньшей мере, 2, по меньшей мере, 3 или, по меньшей мере, 4 до 40% по массе композиции, или, необязательно от 1,5 до 30%, до 20%, до 10%, до 5%, до 4%, до 3%, до 2% или до по массе композиции.

1.11. Любая из вышеуказанных композиций, где молярное соотношение цинка к X составляет от 2:1 до 1:4, необязательно от 1:1 до 1:4, от 1:2 до 1:4, от 1:3 до 1:4, от 2:1 до 1:3, от 2:1 до 1:2, от 2:1 до 1:1 или 1:3.

1.12. Любая из вышеуказанных композиций, где галогенид выбран из группы, состоящей из хлорида, бромида и йодида, предпочтительно хлорида.

1.13. Любая из вышеуказанных композиций, где галогенидом аминокислоты цинка является лизин хлорид цинка.

1.14. Любая из вышеуказанных композиций в безводном носителе.

1.15. Любая из вышеуказанных композиций, содержащая галогенид аминокислоты цинка, образованный из оксида цинка и гидрогалогенида аминокислоты.

1.16. Любая из вышеуказанных композиций, где галогенидом аминокислоты цинка является лизин хлорид цинка (ZnЛизин2Cl2 или ZnЛизин3Cl2).

1.17. Любая из вышеуказанных композиций, где поверхностно-активное вещество является анионным, неионным, амфотерным/цвиттер-ионным, катионным или их смесью.

1.18. Любая из вышеуказанных композиций, где косметически приемлемый носитель содержит воду в количестве от 1 до 99%, или от 50 до 95%, или от 70 до 95%.

1.19. Любая из вышеуказанных композиций, где композиция обеспечивает солнцезащитный фактор, по меньшей мере, 2, или, по меньшей мере, 5, или, по меньшей мере, 4, или, по меньшей мере, 5 или, по меньшей мере, 6, или, по меньшей мере, 7, или, по меньшей мере, 8, или, по меньшей мере, 9, или, по меньшей мере, 10, или, по меньшей мере, 12, или, по меньшей мере 15, или по меньшей мере 20, или по меньшей мере, 25, или, по меньшей мере, 30 при нанесении на кожу и/или волосы в соответствии со способом.

1.20. Любая из вышеуказанных композиций, где композицией является средством для мытья тела, гель для душа, шампунь, кондиционер для волос или кусковое мыло.

[0016] Также представлен способ снижения наносимого коже вреда от солнечных лучей или защиты кожи от солнечного ожога или вреда от солнечных лучей, включающий очищение кожи очищающей композицией, например, любой из композиций 1 и последующих перед воздействием солнечных лучей.

[0017] Кроме того, представлены способы уменьшения потоотделения, включающие нанесение на кожу эффективного количества антиперспирантного действия любой из композиций 1 и последующих, способы снижения степени запаха пота, включающие нанесение на кожу эффективного количества дезодорирующего действия любой из композиций 1 и последующих, и способы уничтожения бактерий, включающие взаимодействие бактерий с эффективным количеством антибактериального действия композиции галогенида Х цинка, например, любой из композиций 1 и последующих.

[0018] Также представлен способ получения композиции, содержащей галогенид Х цинка, например, любой из композиций 1 и последующих.

[0019] Не намереваясь быть связанными теорией, авторы полагают, что образование галогенида Х цинка происходит посредством образования галогенида цинка, последующей взаимосвязи остатков X вокруг центрального цинка. Посредством использования оксида цинка с гидрохлоридом лизина в воде, в качестве примера, ZnO вступает в реакцию с лизин.HCl посредством диссоциации гидрохлорида для обеспечения реакции: ZnO + HCl → 7 ZnCl2 + H2O. Один моль ZnCl2 вступает в реакцию с 3 моль лизина для образования прозрачного раствора комплекса лизин-хлорид-Zn (ZnЛизин2Cl2 или ZnЛизин3Cl2), который, как считается, имеет структуру, изображенную на формуле 1, где R обозначает боковую цепь X:

Формула 1

[0020] В этой конфигурации Zn расположен в октаэдрическом центре, взаимосвязанном с двумя атомами кислорода и двумя атомами азота в экваториальной плоскости, образованной двумя карбоновыми кислотами лизина и аминными группами, соответственно. Цинк также взаимосвязан с третьим лизином посредством его азота и карбоксильного углерода, в апикальном положении геометрической структуры металлов. Как представляется, это доминантный комплекс. Возможны другие комплексы цинка и лизина, например, при недостаточном количестве галогенида, например, ZnOLys2, с пирамидальной структурой, с такой же экваториальной плоскостью, как у вышеуказанного соединения (Zn связан с двумя атомами кислорода и двумя атомами азота от различных лизинов), где вершина пирамиды занята атомом O. Также возможны дополнительные структуры комплексов, включающие множество ионов цинка, на основе структуры четырехосновного хлорида цинка. Цинк может также иметь структуру цинка, представленную в стеарате цинка.

[0021] Взаимодействие цинка и X преобразует нерастворимый ZnO или четырехосновной хлорид цинка в высокорастворимый комплекс при приблизительно нейтральном уровне pH. На коже, содержащей заряженные молекулы, такие как белки и жирные кислоты, происходит флокуляция комплекса с образованием осадка, депонирующегося в коже. В тех случаях, когда происходит разрушение комплекса с высвобождением ионов свободного цинка, ион цинка может гидролизироваться для образования аморфного осадка гидроксида цинка, с последующим депонированием в коже, и, кроме того, ион цинка может уничтожить бактерии на коже, таким образом, снижая степень запаха пота. По мере увеличения количества воды происходит гидролиз ZXH для распределения относительно нерастворимого осадка, содержащего цинк. Осадок, как правило, содержит один или несколько из оксида цинка, цистеина цинка, гидроксида цинка или других соединений, содержащих цинк. Уникальность этого осадка заключается в том, что он обеспечит депонирование в коже. Кроме того, эта реакция атипична в том смысле, что в большинстве случаев разбавление повысит растворимость ионного комплекса.

[0022] Следует понимать, что в вышеуказанной схеме можно использовать другие X вместо лизина. Также следует понимать, что, несмотря на то, что цинк, X и галогенид могут быть преимущественно в форме материалов-предшественников или в форме комплекса, может присутствовать некоторая степень равновесия так, чтобы доля материала, фактически присутствующего в комплексе, по сравнению с долей формы предшественника, могла варьироваться в зависимости от точных условий состава, концентрации материалов, уровня pH, присутствия или отсутствия воды, присутствия или отсутствия других заряженных молекул и т.д.

[0023] В результате комбинации цинка, X и галогенида образуется катионный комплекс-галоидная соль. Галогенид Х цинка является водорастворимым комплексом, образованным из соли присоединения галогенной кислоты цинка (например, хлорида цинка) и X, или из соли присоединения галогенной кислоты цинка X (например, гидрохлорида лизина) и источника ионов цинка, например, оксида цинка или четырехосновного хлорида цинка, и/или из комбинации всех трех из галогенной кислоты, X и источника ионов цинка.

[0024] Источником ионов цинка для сочетания с гидрогалогенидом аминокислоты или X вместе с галогенной кислотой может быть любой источник, эффективно обеспечивающий ионы Zn2+, например, оксид цинка, хлорид цинка, четырехосновной хлорид цинка, карбонат цинка, нитрат цинка, цитрат цинка и фосфат цинка. Оксидом цинка является порошок белового цвета, нерастворимый в воде. Четырехосновной хлорид цинка (TBZC) или моногидрат гидроксида хлорида цинка является оксисоединением цинка с формулой Zn5(OH)8Cl2·H2O, также обозначаемым как основной хлорид цинка, гидроксихлорид цинка или оксихлорид цинка. Он является бесцветным кристаллическим твердым веществом, нерастворимым в воде. Обнаружено, что оба этих материала растворимы в воде в присутствии X и являются источником ионов цинка с одновременным ограничением доступных анионов, так как избыток анионов может препятствовать образованию комплекса.

[0025] Источником аминокислоты может быть любая аминокислота. Примеры аминокислот в качестве неограничивающих примеров включают общеизвестные природные аминокислоты, например: лизин, аргинин, гистидин, глицин, серин, треонин, аспарагин, глутамин, цистеин, селеноцистеин, пролин, аланин, валин, изолейцин, лейцин, метионин, фенилаланин, тирозин, триптофан, аспарагиновую кислоту и глутаминовую кислоту.

[0026] В некоторых вариантах осуществления изобретения аминокислотой является основная аминокислота. Под «основной аминокислотой» подразумевают природные основные аминокислоты, такие как аргинин, лизин и гистидин, а также любую основную аминокислоту с карбоксильной группой и аминогруппой в молекуле, которая является водорастворимой и обеспечивает водный раствор с уровнем pH, составляющим приблизительно 7 или выше. Таким образом, основные аминокислоты в качестве неограничивающих примеров включают аргинин, лизин, цитруллин, орнитин, креатин, гистидин, диаминобутановую кислоту, диаминопропионовую кислоту, их соли или их сочетания. В определенных вариантах осуществления изобретения аминокислотой является лизин. В других вариантах осуществления изобретения аминокислотой является аргинин. Нейтральные аминокислоты, такие как глицин, и даже кислые аминокислоты, такие как аспарагиновая кислота, однако, также способны образовывать соли с сильными кислотами, такими как галогенные кислоты. В некоторых вариантах осуществления изобретения аминокислотой является нейтральная или кислая аминокислота, например, глицин.

[0027] Источник галогенида может входить в состав источника цинка, такого как хлорид цинка или четырехосновной цинк. Источник галогенида может входить в состав аминокислоты, такой как гидрогалогенид аминокислоты. Кроме того, источником галогенида может быть галогенная кислота. Галогенидом может быть хлор, бром или йод, в большинстве случаев хлор. В настоящем документе к соли присоединения кислоты аминокислоты и галогенной кислоты (например, HCl, HBr, или HI) иногда относится гидрогалогенид аминокислоты. Таким образом, одним примером гидрогалогенида аминокислоты является гидрохлорид лизина.

[0028] Количество галогенида Х цинка в композициях является количеством, защищающим от ультрафиолетовых лучей спектра А. В одном из вариантов осуществления изобретения оно также обеспечивает защиту от ультрафиолетовых лучей спектра B. Такое количество является достаточным для обеспечения солнцезащитного фильтра, по меньшей мере, 2 при нанесении на кожу и смывании водой, например, очищении с помощью композиции в течение 30 секунд и смывании водой в течение 30 секунд. В определенных вариантах осуществления изобретения количество галогенида Х цинка в композиции обеспечивает, по меньшей мере, 0,36% цинка по массе композиции. В некоторых вариантах осуществления количество цинка в композиции составляет, по меньшей мере, 0,37%, в другом варианте осуществления изобретения от 0,36 до 10%, в другом варианте осуществления изобретения от 0,37 до 10%, в другом варианте осуществления изобретения от 0,36 до 5%, в другом варианте осуществления изобретения от 0,37 до 5%, в другом варианте осуществления изобретения от 0,4 до 5%, в другом варианте осуществления изобретения от 0,4 до 2%, в другом варианте осуществления от 0,4 до 1%. Для обеспечения необходимого уровня цинка, при использовании порошка галогенида Х цинка количество порошка, составляет, по меньшей мере, 1,5%, в другом варианте осуществления изобретения от 1,5 до 10%, в другом варианте осуществления изобретения от 1,5 до 5%. При использовании раствора галогенида Х цинка количество раствора составляет, по меньшей мере, 5%, в одном из вариантов осуществления изобретения от 5 до 20%, в другом варианте осуществления изобретения от 5 до 15%. В определенных вариантах осуществления изобретения предшественники, например, оксид цинка и гидрогалогенид аминокислоты, присутствуют в таком количестве, чтобы при сочетании с галогенидом Х цинка, галогенид Х цинка присутствовал бы в количестве от 1,5 до 10% по массе композиции. В любом из этих вариантов осуществления изобретения количество галогенида Х цинка может варьироваться для достижения необходимой цели, такой как антибактериальное средство или защита от солнечных лучей. В других вариантах осуществления изобретения количество галогенида Х цинка составляет от, по меньшей мере, 0,5, по меньшей мере, 1, по меньшей мере, 2, по меньшей мере, 3 или, по меньшей мере, 4 до 10% по массе композиции. В других вариантах осуществления изобретения количество галогенида Х цинка составляет менее чем 9, менее чем 8, менее чем 7, менее чем 6, менее чем 5, менее чем 4, менее чем 3, менее чем 2 или менее чем 1% по массе композиции. В других вариантах осуществления изобретения количество цинка в композиции составляет от 0,5 до 5%, от 0,5 до 4%, от 0,5 до 3% или от 0,5 до 2% по массе композиции.

[0029] При образовании галогенида Х цинка из материалов-предшественников материалы-предшественники предпочтительно используют в приблизительном молярном соотношении, требующемся для получения необходимого галогенида Х цинка, несмотря на то, что в определенных составах может быть необходим избыток одного или другого материала, например, для уравновешивания уровня pH по отношению к другим составляющим состава с целью обеспечения дополнительного антибактериального цинка или для обеспечения буфера X. Предпочтительно, однако, количество галогенида является ограниченным, так как ограничение уровня галогенида некоторым образом способствует взаимодействию цинка с X. Например, в одном из вариантов осуществления изобретения для получения лизин хлорид цинка (ZnЛизин2Cl2 или ZnЛизин3Cl2) молярное соотношение элементов в материалах-предшественниках включает 1 эквивалент Zn2+: 3 эквивалента Lys: 2 эквивалента Cl-.

[0030] В определенных вариантах осуществления изобретения молярное соотношение цинка к X составляет, по меньшей мере, 2:1. В других вариантах осуществления молярное соотношение составляет, по меньшей мере, 1:1, по меньшей мере, 1:2, по меньшей мере, 1:3, по меньшей мере, 1:4, от 2:1 до 1:4, от 1:1 до 1:4, от 1:2 до 1:4, от 1:3 до 1:4, от 2:1 до 1:3, от 2:1 до 1:2, от 2:1 до 1:1 или 1:3. Предполагается, что соотношение выше 1:4 приведет к полному растворению цинка.

[0031] В определенных вариантах осуществления изобретения электропроводность галогенида Х цинка может составлять более 8000, необязательно более 9000, более 10000 или более чем 12000 мкСм/см, предпочтительно при уровне pH, составляющем, по меньшей мере, 4.

[0032] В одном из вариантов осуществления изобретения композиция обеспечивает очищающую функцию, в таком варианте осуществления изобретения, как правило, в композиции присутствует эффективное количество для очищения кожи поверхностно-активного вещества.

[0033] Как правило, содержание поверхностно-активных(ого) веществ(а) должно составлять, по меньшей мере, 0,1% по массе композиции. Предпочтительное минимальное количество поверхностно-активных(ого) веществ(а), присутствующее в композиции, составляет, по меньшей мере, 1, 3, 5, 7, 10, 20 и 30% по массе. Максимальное количество поверхностно-активных(ого) веществ(а) зависит от используемой физической смеси композиции, а также от количества дополнительных компонентов. Как правило, присутствует не более 95-97% по массе поверхностно-активных(ого) веществ(а), в частности, не более 90% по массе поверхностно-активных(ого) веществ(а). Легко можно также использовать максимальное количество 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80 или 85% по массе поверхностно-активных(ого) веществ(а). В определенных вариантах осуществления изобретения поверхностно-активное вещество присутствует в количестве от 0,1 до 45, от 1 до 15, от 15 до 45 или 15-35 % по массе композиции в зависимости от вида композиции. Очищающая композиция представлена в жидкой форме, и ее можно составлять в виде средства для мытья тела/ геля для душа, шампуня или кондиционера. Поверхностно-активным веществом может быть поверхностно-активное вещество или сочетание поверхностно-активных веществ. Подходящие поверхностно-активные вещества включают анионные, неионные, катионные, амфотерные или цвиттер-ионные поверхностно-активные вещества. Термин «поверхностно-активное вещество» включает соли жирных кислот, которые, как правило, обозначают как мыла.

[0034] Подходящие анионные поверхностно-активные вещества в качестве неограничивающих примеров включают те поверхностно-активные соединения или соединения-детергенты, содержащие органическую гидрофобную группу содержащую, как правило, от 8 до 26 атомов углерода или, как правило, от 10 до 18 атомов углерода в молекулярной структуре и, по меньшей мере, одну водорастворимую группу, выбранную из сульфоната, сульфата и карбоксилата для образования водорастворимого моющего вещества. Как правило, гидрофобная группа содержит C8-C22 алкил или ацильную группу. Такие поверхностно-активные вещества используют в форме водорастворимых солей, и солеобразующий катион, как правило, выбран из натрия, калия, аммония, магния и моно-, ди- или три-C2-C3 алканоламмония, из числа которых обычно используют катионы натрия, магния и аммония.

[0035] Подходящие анионные поверхностно-активные вещества в качестве неограничивающих примеров включают натриевые, калиевые, аммониевые и этаноламмонийные соли сульфонатов линейного C8-C16 алкилбензола, карбоксилатов алкилового простого эфира, сульфонатов C10-C20 парафина, сульфонатов C8-C25 альфа-олефина, сульфатов C8-C18 алкила, сульфатов C8-C18 алкилого простого эфира и их смеси.

[0036] Другие подходящие анионные поверхностно-активные вещества включают сульфонаты парафина, которыми могут быть моносульфонаты или ди-сульфонаты и, как правило, являются их смесами, полученными посредством сульфирования парафинов с 10-20 атомами углерода. Широко используемыми сульфонатами парафина являются C12-C18 цепи, и более часто ими являются C14-C17 цепи. Сульфонаты парафина с сульфонатной(ыми) группой(ами), распределенными по парафиновой цепи, описаны в патентах США № 2503280; 2507088; 3260744 и 3372188; и также в патенте Германии 735096. Такие соединения можно получать согласно описанию, и, желательно, чтобы содержание сульфонатов парафина за пределами диапазона C14-C17 было незначительным и сведено к минимуму, как любое содержание ди- или поли- сульфонатов. Примеры сульфонатов парафина в качестве неограничивающих примеров включают HOSTAPUR™ SAS30, SAS 60, сульфонаты вторичных алканов SAS 93 от Clariant и поверхностно-активные вещества BIO-TERGE™ от Stepan и CAS-номер 68037-49-0.

[0037] Примеры других подходящих сульфированных анионных поверхностно-активных веществ включают высшие алкил-(одноядерные ароматические)сульфонаты, такие как высшие алкилбензол сульфонаты, содержащие от 9 до 18 или от 9 до 16 атомов углерода в высшей алкильной группе в неразветвленной или разветвленной цепи, или C8-C15-алкилтолуолсульфонаты. В одном из вариантов осуществления изобретения алкилбензол-сульфонат является линейным алкилбензол-сульфонатом с высоким содержанием 3-фенил(или выше) изомеров и, соответственно, низким содержанием (намного ниже 50%) 2-фенил(или ниже) изомеров, таким как те сульфонаты, где бензольное кольцо большей частью присоединено в положении 3 или выше (например, 4, 5, 6 или 7) алкильной группы, и причем, когда бензольное кольцо присоединено в положении 2 или 1, содержание изомеров относительно низко. Материалы, которые можно использовать, описаны в патенте США 3320174, в особенности те, в которых алкилы содержат от 10 до 13 атомов углерода.

[0038] Другие подходящие анионные поверхностно-активные вещества включают олефин-сульфонаты, включая длинноцепочечные алкенсульфонаты, длинноцепочечные гидроксиалкансульфонаты или смеси алкенсульфонатов и гидроксиалкансульфонатов. Эти олефинсульфонатные моющие вещества можно получать известным образом путем проведения реакции триоксида серы (SO3) с длинноцепочечными олефинами, содержащими от 8 до 25 или от 12 до 21 атомов углерода и имеющими формулу RCH=CHR1, где R является высшей алкильной группой с 6-23 атомами углерода, и R1 является алкильной группой с 1-17 атомами углерода или водорода для образования смеси сультонов и алкенсульфоновых кислот, которую затем обрабатывают для преобразования сультонов в сульфонаты. В одном из вариантов осуществления изобретения олефин-сульфонаты содержат от 14 до 16 атомов углерода в алкильной группе R, и их получают посредством сульфирования a-олефина.

[0039] Примеры подходящих анионных сульфатных поверхностно-активных веществ включают алкилсульфатные соли и соли сульфатного простого эфира. Подходящий анионный сульфат простого эфира имеет формулу R(OC2H4)n OSO3M, где n представляет собой от 1 до 12 или от 1 до 5, и R является алкильной, алкиларильной, ацильной или алкенильной группой с 8-18 атомами углерода, например, алкильная группа с C12-C14 или C12-C16, и M является солюбилизирующим катионом, выбранным из натрия, калия, аммония, магний и ионов моно-, ди- и триэтаноламмония. Иллюстративные сульфаты алкилового простого эфира содержат от 12 до 15 атомов углерода в их алкильных группах, например, миристил (3 ОЭ) сульфат натрия. Подходящие сульфаты алкилального простого эфира включают сульфаты C8-C18-алкилфенильного простого эфира, содержащие от 2 до 6 моль этиленоксид в молекуле. Другие подходящие анионные моющие вещества включают полиэтиленоксилкарбоксилаты C9-C15-алкилового простого эфира. Подходящие полиэтоксилкарбоксилаты алкилового простого эфира можно получать посредством конденсации этиленоксида с соответствующим алканолом и вступления в реакцию этого продукта с хлоруксусной кислотой для получения простого эфира карбоновой кислоты, как показано в патенте США № 3741911, или с янтарным ангидридом или фталевым ангидридом.

[0040] Подходящие используемые неионные поверхностно-активные вещества включают этоксилаты первичного алифатического спирта, этоксилаты вторичного алифатического спирта, алкилфенолэтоксилаты и этиленоксид-пропиленоксидные конденсаты первичных алканолов, такие как поверхностно-активные вещества PLURAFAC™ (BASF), и конденсаты оксида этилена с сорбитановыми эфирами жирных кислот, такие как поверхностно-активные вещества TWEEN™ (ICI). Неионные синтетические органические моющие вещества являются, как правило, продуктами конденсации органического алифатического или алкилароматического гидрофобного соединения и гидрофильных этиленоксидных групп. Практически любое гидрофобное соединение, имеющее карбоксильную, гидроксильную, амидную или аминную группу со свободным водородом, присоединенным к азоту, может быть сконденсировано с оксидом этилена или с продуктом его полигидратации, полиэтиленгликолем, для образования водорастворимого неионного моющего вещества. Кроме того, длина полиэтеноксильной цепи может быть отрегулирована для достижения необходимого равновесия между гидрофобными и гидрофильными элементами.

[0041] Класс неионных поверхностно-активных веществ включает продукты конденсации высшего спирта (например, алканола, содержащего от 8 до 18 атомов углерода в неразветвленной или разветвленной цепной конфигурации), сконденсированные приблизительно с 5-30 моль оксида этилена, например лаурилмиристиловый спирт, сконденсированный с приблизительно 16 моль оксида этилена (ОЭ), тридеканол, сконденсированный с приблизительно 6 моль ОЭ, миристиловый спирт, сконденсированный с приблизительно 10 моль ОЭ на моль миристилового спирта, продукт конденсации ОЭ со средней фракцией кокосового жирного спирта, содержащего смесь жирных спиртов с алкильными цепями, длина которых варьируется от 10 до 14 атомов углерода, и где конденсат содержит либо около 6 молей ОЭ на моль всего спирта, или 6 моль ОЭ на моль общего содержания спирта или 9 моль на моль спирта и этоксилаты сального спирта, содержащие от 6 до 11 моль ОЭ на моль спирта.

[0042] Предпочтительные подходящие неионные поверхностно-активные вещества включают этоксилаты NEODOL™ (Shell Co.), которые представляют собой высший алифатический, первичный спирт, содержащий 9-15 атомов углерода, такой как C9-C11-алканол, сконденсированный с 2-10 моль оксида этилена (NEODOL™ 91-2,5 или -5 или -6 или -8), C12-C13-алканол, сконденсированный с 6-7 моль оксида этилена (NEODOL™ 23-6,5), C12-C15-алканол, сконденсированный с 12 моль оксида этилена (NEODOL™ 25-12), C14-C15-алканол, сконденсированный с 13 моль оксида этилена (NEODOL™ 45-13) и т.п.

[0043] Дополнительные подходящие водорастворимые конденсатами оксида этилена со спиртом представляют собой продукты конденсации вторичного алифатического спирта, содержащего от 8 до 18 атомов углерода в неразветвленной или разветвленной цепной конфигурации, сконденсированные с 5-30 моль оксида этилена. Примерами коммерчески доступных неионных моющих веществ вышеуказанного типа являются C11-C15 вторичный алканол, сконденсированный или с 9 ОЭ (TERGITOL™ 15-S-9), или с 12 ОЭ (TERGITOL™ 15-S-12), представленный в продаже Union Carbide.

[0044] Другие подходящие неионные поверхностно-активные вещества включают конденсаты полиэтиленоксида одного моль алкилфенола, содержащего от 8 до 18 атомов углерода в алкильной группе неразветвленной или разветвленной цепи с 5-30 моль оксида этилена. Конкретные примеры этоксилатов алкилфенола в качестве неограничивающих примеров включают нонилфенол, сконденсированный с 9,5 моль ОЭ на моль нонилфенола, динонилфенол, сконденсированный с 12 моль ОЭ на моль фенола, динонилфенол, сконденсированный с 15 моль ОЭ на моль фенола, и ди-изоктилфенол, сконденсированный с 15 моль ОЭ на моль фенола. Коммерчески доступные неионные поверхностно-активные вещества этого типа включают IGEPAL™ CO-630 (этоксилат нонилфенола), представленный в продаже GAF Corporation.

[0045] Также в числе подходящих неионных поверхностно-активных веществ представлены водорастворимые продукты конденсации C8-C20 алканола с гетерогенной смесью оксида этилена и оксида пропилена, где массовое соотношение оксида этилена к оксиду пропилена составляет от 2,5:1 до 4:1 или от 2,8:1 до 3,3:1, с общим содержанием оксида этилена и оксида пропилена (включая концевую этанольную или пропанольную группу) составляет от 60-85% или 70-80% по массе. Такие моющие вещества коммерчески доступны от BASF и особенно предпочтительным поверхностно-активным веществом является C10-C16-алкональный конденсат с оксидом этилена и оксидом пропилена, с массовым соотношением оксида этилена к оксиду пропилена, составляющим 3:1, и общим содержанием алкокси, составляющим 75% по массе.

[0046] Конденсаты от 2 до 30 моль оксида этилена с сорбитановыми моно- и триэфирами C10-C20-алкановой кислоты, имеющие ГЛБ от 8 до 15, также можно использовать в качестве неионного моющего ингредиента в описываемой композиции. Эти поверхностно-активные вещества хорошо известны и доступны от Imperial Chemical Industries под торговым наименованием TWEEN™. Подходящие поверхностно-активные вещества в качестве неограничивающих примеров включают полиоксиэтилен (4) сорбитан монолаурат, полиоксиэтилен (4) сорбитан моностеарат, полиоксиэтилен (20) сорбитан триолеат и полиоксиэтилен (20) сорбитан тристеарат.

[0047] Другие подходящие водорастворимые неионные поверхностно-активные вещества представлены в продаже под торговым наименованием PLURONIC™. Соединения образованы посредством конденсации оксида этилена с гидрофобным основанием, образованным посредством конденсации оксида пропилена с пропиленгликолем. Молекулярная масса гидрофобной части молекулы составляет порядка от 950 до 4000 или от 200 до 2500. Добавление полиоксиэтиленовых радикалов к гидрофобной части имеет тенденцию повышать растворимость молекулы в целом и таким образом делать ПАВ водорастворимым. Молекулярная масса блок-полимеров варьируется от 1000 до 15000 и содержание оксида полиэтилена может составлять от 20% до 80% по массе. В одном из вариантов осуществления изобретения эти поверхностно-активные вещества представлены в жидкой форме, и подходящие поверхностно-активные вещества доступны в виде сортов L 62 и L 64.

[0048] Алкилполисахаридные поверхностно-активные вещества, которые можно использовать в композиции по настоящему изобретению, имеют гидрофобную группу, содержащую от 8 до 20 атомов углерода или от 10 до 16 атомов углерода, или от 12 до 14 атомов углерода, и полисахаридную гидрофильную группу, содержащую от 1,5 до 10 или от 1,5 до 4, или от 1,6 до 2,7 сахаридных единиц (например, галактозид, глюкозид, фруктозид, глюкозил, фруктозил; и/или галактозил-единиц). Смеси сахаридных молекул можно использовать в алкилполисахаридных поверхностно-активных веществах. Число x указывает на количество сахаридных единиц в конкретном алкилполисахаридном поверхностно-активном веществе. Для конкретной алкилполисахаридной молекулы x может только предполагать целочисленные значения. В любом физическом образце алкилполисахаридных поверхностно-активных веществ there в основном молекулы имеют различные значения x. Физический образец можно охарактеризовать с помощью среднего значения x, и это среднее значение может допустить нецелочисленные значения. В настоящем описании под значениями x следует понимать средние значения. Гидрофобная группа (R) может быть присоединена в положениях 2, 3 или 4, нежели в положении 1 (что, таким образом, обеспечивает, например, глюкозу или галактозу в противоположность глюкозиду или галактозиду). Однако предпочтительным является присоединение посредством положения 1, т.е. глюкозидов, галактозидов, фруктозидов и т.д. В одном из вариантов осуществления изобретения дополн