Устройство облучения

Устройство облучения

Иллюстрации

Показать все

Реферат

ПЛОСКОСТЬ ТЕХНИКИ, К КОТОРОЙ ОТНОСИТСЯ ИЗОБРЕТЕНИЕ

Изобретение относится к устройству облучения для обеспечения обрабатывающего света для обработки объекта. Изобретение дополнительно относится к устройству обработки, способу обработки и компьютерной программе обработки, использующей это устройство облучения.

ПРЕДШЕСТВУЮЩИЙ УРОВЕНЬ ТЕХНИКИ

Заявка US2011/0165816 A1 описывает устройство излучения лазерного луча, которое излучает лазерный луч на элемент герметизации, расположенный между первой подложкой и второй подложкой для герметизации первой подложки и второй подложки. Лазерный луч имеет интенсивность луча, которая увеличивается от центральной части к конечной части лазерного луча на поверхности, которая является перпендикулярной направлению прохождения лазерного луча. Интенсивность луча в центральной части лазерного луча не больше, чем половина интенсивности луча в конечной части лазерного луча, причем профиль луча является симметричным относительно направления прохождения лазерного луча.

Если элемент герметизации является изогнутым, лазерный луч должен быть перемещен вдоль этой изогнутой линии, причем в этом случае на искривлении внутренняя часть элемента герметизации принимает большую интенсивность лазерного луча, чем внешняя часть элемента герметизации. Это может привести к неоднородной герметизации, которое может привести к ошибкам в герметизации.

WO 2011/021140 A2 раскрывает лазерное устройство, содержащее совокупность нескольких VCSEL большой области и один или несколько оптических элементов, предназначенных и скомпонованных, чтобы формировать изображения активных слоев VCSEL упомянутой совокупности в рабочей плоскости так, чтобы лазерное излучение, испущенное активными слоями всех VCSEL или подгрупп VCSEL упомянутой совокупности накладывалось в рабочей плоскости.

СУЩНОСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Задачей настоящего изобретения является предоставление устройства облучения для обеспечения обрабатывающего света для обработки объекта, которая позволяет улучшать качество обработки объекта. Дополнительной задачей настоящего изобретения является предоставление способа изготовления для изготовления устройства облучения и для предоставления устройства обработки, способа обработки и компьютерной программы обработки, использующей устройство облучения.

В первом аспекте настоящего изобретения предоставлено устройство облучения для предоставления обрабатывающего света для герметизации объекта, причем устройство облучения содержит:

- группы источников света для генерирования света для обработки объекта,

- блок формирования изображения для формирования изображения группы источников света на рабочей плоскости, в которой объект должен быть герметизирован, таким образом генерируя обрабатывающий свет,

причем группы источников света и блок формирования изображения адаптируются таким образом, что на рабочей плоскости обрабатывающий свет производится с распределением интенсивности, которая конфигурируется таким образом, что, если распределение интенсивности интегрируется в пространственном направлении интеграции, результирующее распределение интегрированной интенсивности имеет понижение интенсивности, причем одна или несколько групп источников света являются управляемыми независимо от других из групп источников света для изменения распределения интегрированной интенсивности.

Так как распределение интегрированной интенсивности имеет понижение интенсивности, т.е. поскольку в некоторой позиции интегрированная интенсивность меньше, чем в смежных позициях, интегрированная интенсивность в позициях, располагаемых более близко к соответствующим концам интегрированного распределения интенсивности, является большей, чем в позиции понижения интенсивности. Другими словами, часть рабочей плоскости, которая охватывается более центральной частью распределения интенсивности, может принимать меньше интенсивности света, чем части рабочей плоскости, которые охватываются соответствующими концами распределения интенсивности, если распределение интенсивности и рабочая плоскость, в частности, объект, расположенный в рабочей плоскости, перемещаются друг относительно друга вдоль пространственного направления интеграции. Это является особенно выгодным, если обработка светом является светом герметизации, который перемещается вдоль линии герметизации, вдоль которой объект должен быть герметизирован, причем предварительно упомянутое пространственное направление интеграции является параллельным линии герметизации. В этом случае центральная часть линии герметизации принимает меньшую интенсивность света, чем внешние части линии герметизации, причем, поскольку, в общем, в элементе герметизации, который может использоваться для герметизации объекта и располагаться вдоль линии герметизации, удаление тепла является самым низким в центральной части элемента герметизации, это может привести к относительно однородной герметизации объекта вдоль линии герметизации.

В общем, степень однородности может быть уменьшена вдоль изогнутых частей линии герметизации, потому что внешняя часть искривления может принимать меньше интенсивности, чем внутренняя часть. Однако, так как по меньшей мере одна из групп источников света является индивидуально управляемой для изменения интегрированного распределения интенсивности, распределение интегрированной интенсивности может быть адаптировано таким образом, что элемент герметизации является относительно однородно облученным, даже если элемент герметизации не располагается вдоль прямой линии герметизации, но вдоль изогнутой линии герметизации. Это позволяет устройству облучения улучшать качество герметизации объекта и также улучшать качество дополнительных применений для обработки объекта, которые используют обработку светом, подобно применениям пайки или сварки.

Распределенная интенсивность, сгенерированная группами источников света и блоком формирования изображения в рабочей плоскости, является предпочтительно двумерным распределением интенсивности, является предпочтительно сконфигурированным таким образом, что интеграция этого двумерного распределения интенсивности вдоль направления, определенного линией обработки, в частности линией герметизации, приводит к одномерному распределению интегрированной интенсивности, располагающемуся вдоль линии, являющейся перпендикулярной линии обработки.

Должно быть отмечено, что интеграция распределения интенсивности, конечно, выполняется не математически посредством устройства облучения, но используется только для характеристики распределения интенсивности, сгенерированной посредством групп источников света и блока формирования изображения.

Источниками света являются лазеры поверхностного излучения с вертикальным объёмным резонатором (лазеры VCSEL).

Блок формирования изображения содержит один или несколько оптических элементов подобных одной или нескольким линзам, в частности одной или нескольким микролинзам и/или одной или нескольким цилиндрическим линзам. Блок формирования изображения может быть адаптирован для формирования изображения групп источников света резким или более расплывчатым способом.

Понижение интенсивности предпочтительно централизовано в распределении интегрированной интенсивности таким образом, что, если распределение интенсивности, сгенерированное в рабочей плоскости, и объекты перемещаются относительно друг друга в направлении пространственной интеграции вдоль линии обработки, центральная часть линии обработки принимает меньше интенсивности света, чем более внешние части линии обработки.

Предпочтительно, группы источников света и блок формирования изображения адаптируются таким образом, что распределение интегрированной интенсивности имеет первый максимум, вызванный посредством света, предоставленного группой из групп источников света, и второй максимум, вызванный посредством света, предоставленного другой группой из групп источников света, причем понижение интенсивности располагается между первым и вторым максимумом. Максимум может быть вызван посредством света, предоставленного посредством единственной группы, или посредством света, предоставленного несколькими группами источников света. Распределение интегрированной интенсивности с первым максимумом, вторым максимумом и промежуточным понижением интенсивности предпочтительно имеют M-форму, в частности приближенную M-форму.

По меньшей мере одна из групп, вызывающая первый максимум, и другая группа, вызывающая второй максимум, являются предпочтительно индивидуально управляемыми таким образом, что интегрированная интенсивность в позиции по меньшей мере одного из первого и второго максимума, соответственно, является уменьшаемой. Предпочтительная M-форма распределения интегрированной интенсивности может поэтому быть изменена таким образом, что по меньшей мере один пик M-формы понижается, в частности, так, что по меньшей мере один пик исчезает. Оригинальный пик может быть уменьшен до интегрированной интенсивности, являющейся меньшей, чем оригинальное промежуточное понижение интенсивности. Таким образом, если обрабатывающий свет перемещается в рабочей плоскости вдоль изогнутой линии обработки, внутренняя часть линии обработки может принимать меньше интенсивности света, в то время как внешняя часть линии обработки может принимать больше интенсивности света в тот же самый момент времени, причем, поскольку внутренняя часть линии обработки короче, чем внешняя часть линии обработки в искривлении, полная принятая интенсивность света, перпендикулярная линии обработки, которая принимается во время завершения перемещения вдоль изогнутой части линии обработки, может быть более однородной.

В варианте осуществления по меньшей мере одна из групп источников света является индивидуально управляемой таким образом, что глубина понижения интенсивности в распределении интегрированной интенсивности поддается модификации. Это позволяет устройству облучения адаптировать глубину понижения интенсивности к соответствующему процессу обработки таким образом, что обработка может быть выполнена с желаемым распределением интегрированной интенсивности. Это может дополнительно улучшать качество обработки объекта.

Группы источников света и блок формирования изображения могут быть адаптированы таким образом, что распределение интенсивности, производимое устройством облучения, содержит несколько параллельных линий света, причем в по меньшей мере одной из линий света распределение интенсивности имеет первый максимум и второй максимум с промежуточной, более низкой, интенсивностью. Например, все линий света могут иметь распределение интенсивности с первым максимумом, вторым максимумом и промежуточной, более низкой, интенсивностью. Или одна или несколько из линий света могут иметь другое распределение интенсивности, например, распределение однородной интенсивности. В варианте осуществления одна линия света имеет распределение интенсивности с первым максимумом, вторым максимумом и промежуточной, более низкой, интенсивностью, и другие линии света имеют распределения однородной интенсивности.

Устройство облучения предпочтительно скомпоновано таким образом, что несколько параллельных линий света являются перпендикулярными линиям герметизации, вдоль которых может быть расположен элемент герметизации. Кроме того, является предпочтительным расстояние между параллельными линиями света. Параллельные линии света предпочтительно являются индивидуально управляемыми таким образом, что распределение интенсивности может быть модифицировано также вдоль линии герметизации. Кроме того, также первый максимум и второй максимум в соответствующей линии света могут быть индивидуально управляемыми посредством управления соответствующими группами источников света, формирующими первый максимум и второй максимум, соответственно, для обеспечения устройству облучения модифицировать распределение интенсивности, перпендикулярное линии герметизации, в частности, если линия герметизации имеет прямые части и изогнутые части.

Интенсивность, в частности, распределение интенсивности, линий света может быть индивидуально модифицируемой для объяснения возможного наличия малых отличительных признаков, как в линии обработки, так и в окружении линии обработки, что может модифицировать количество поглощаемого света посредством, например, изменений поглощения и/или отражения в линии обработки или в окружении линии обработки. Например, металлические дорожки для электрических соединений могут пересекать линию обработки ниже линии обработки и могут отражать часть света, переданного через линию обработки, обратно в линию обработки таким образом, что интенсивность, поглощенная частью линии обработки, которая пересекается посредством металлических дорожек, может принимать большую интенсивность, чем другие части линии обработки, где металлические дорожки не пересекаются. Для того, чтобы учесть это отрицательное воздействие, интенсивность линии света, находящейся в плоскости металлической дорожки, может быть уменьшена таким образом, что поглощенная интенсивность в линии обработки может быть сохранена приблизительно постоянной, даже если металлические дорожки пересекают линию обработки под линией обработки. Линии света имеют поэтому, предпочтительно, измерение в направлении линии обработки, то есть в направлении перемещения, находящегося в порядке измерений отличительных признаков, например, металлических дорожек, которые, вероятно, увеличивают поглощение в линии обработки в том же направлении.

Группой источников света является, предпочтительно, двумерная совокупность источников света. Однако в варианте осуществления группа может также содержать только единственный источник света.

Группы источников света могут все быть индивидуально управляемыми, или несколько групп могут быть объединены таким образом, что получающаяся комбинация является управляемой независимо от других групп источников света. Устройство облучения может содержать несколько из этих комбинаций, причем каждая из этих комбинаций групп источников света может быть индивидуально управляемой.

Предпочтительно, источники света по меньшей мере двух групп имеют различные формы. Например, источники света по меньшей мере одной группы могут быть треугольной, прямоугольной или приблизительно конической формы. Это позволяет подгонять распределение интенсивности по желанию, при помощи некоторых форм источников света.

В варианте осуществления устройство облучения содержит две группы, каждая группа содержит компоновку источников света, причем линейные компоновки этих двух групп являются параллельными друг другу. Это двурядное решение позволяет подсоединять электрическим способом источники света к внешней стороне, например, через проводное соединение.

Блок формирования изображения может содержать микролинзы, назначенные на источники света, таким образом, что для формирования изображения соответствующего источника света используется соответствующая микролинза, причем по меньшей мере для одного источника света, эта микролинза является асимметрично расположенной относительно источника света, таким образом, что центр микролинзы не совпадает с центром источника света. Посредством компоновки соответствующих микролинз асимметрично относительно соответствующего источника света изображение соответствующего источника света, которое дает вклад в конечное распределение интенсивности на рабочей плоскости, может быть перемещено по желанию в рабочей плоскости для получения желаемого распределения интенсивности. Например, для генерирования первого максимума распределения интегрированной интенсивности, скомпонованного перед понижением интенсивности относительно пространственного направления, центры микролинз могут быть скомпонованы на концах соответствующих источников света, формируя этот первый максимум относительно пространственного направления. Соответственно, для формирования второго максимума распределения интегрированной интенсивности позади понижения интенсивности распределения интегрированной интенсивности относительно пространственного направления, центры соответствующих микролинз могут быть скомпонованы на передних концах соответствующих источников света, формируя второй максимум распределения интегрированной интенсивности относительно пространственного направления.

Блок формирования изображения может быть адаптирован для формирования изображения групп источников света на рабочей плоскости, таким образом, что изображения различных групп источников света накладываются в рабочей плоскости. Это может привести к дополнительно выровненному распределению интенсивности.

Изображение групп источников света на рабочей плоскости может быть выполнено таким образом, что изображения, которые накладываются, резко изображаются на рабочей плоскости. Альтернативно, изображение может быть выполнено таким образом, что изображение различных групп источников света является более расплывчатым, то есть изображение может быть не в фокусе. Например, блок формирования изображения может быть адаптирован для формирования изображения первой плоскости, которая располагается впереди или позади второй плоскости, в которой источники света располагаются и в которой свет различных групп источников света накладывается резко на рабочую плоскость.

Устройство облучения может дополнительно содержать по меньшей мере один блок обнаружения теплового излучения, скомпонованный смежно с группой источников света для измерения температуры в рабочей плоскости, таким образом, что группа источников света является управляемой посредством блока управления в зависимости от измеренной температуры. В частности, если устройство облучения используется для герметизации объекта вдоль линии герметизации, причем устройство облучения и объект перемещаются друг относительно друга таким образом, что свет герметизации перемещается вдоль линии герметизации в варианте осуществления, устройство облучения содержит несколько блоков обнаружения теплового излучения, которые располагаются вдоль линии, являющейся перпендикулярной направлению перемещения герметизирующего света, для измерения температурного профиля, перпендикулярного линии герметизации. Кроме того, группы источников света предпочтительно адаптируются таким образом, что распределение интегрированной интенсивности может быть модифицировано вдоль пространственного направления, являющегося перпендикулярным линии герметизации. Это позволяет модифицировать распределение интегрированной интенсивности в пространственном направлении, которое является перпендикулярным линии герметизации, в зависимости от температурного профиля, измеренного вдоль того же самого пространственного направления для генерирования желаемого температурного профиля в элементе герметизации, который может быть скомпонован вдоль линии герметизации. Это управление процессом герметизации, зависящее от температурного профиля, может дополнительно улучшать качество герметизации объекта.

Является дополнительно предпочтительным, что одна или несколько из групп источников света являются управляемыми независимо от других из групп, таким образом, что распределение интенсивности является модифицируемым в двух различных пространственных направлениях. В частности, группы источников света могут быть индивидуально управляемыми для модифицирования распределения интенсивности в двух различных пространственных направлениях. Два различных пространственных направления являются предпочтительно перпендикулярными друг другу. В частности, распределение интенсивности может являться модифицируемым в первом пространственном направлении, являющимся перпендикулярным линии герметизации, вдоль которой выполняется процедура герметизации, и во втором пространственном направлении, которое является перпендикулярным первому пространственному направлению, то есть второму пространственному направлению вдоль линии герметизации. Это позволяет адаптировать распределение интенсивности вдоль первого пространственного направления для рассмотрения, например, необходимых изменений в распределении интенсивности в прямых частях линии герметизации и в изогнутых частях линии герметизации, и во втором пространственном направлении для рассмотрения того, что, даже если линия герметизации не изменяет свою форму, то есть даже если линия герметизации остается прямой или имеет постоянную изогнутость, различные интенсивности могут быть желаемы, так как окружение соответствующей части линии герметизации имеет, например, различные свойства поглощения и/или свойства отражения, которые могут привести к различным температурам вдоль линии герметизации, если интенсивность света не изменяется. Таким образом, индивидуальное управление группами источников света в первом и втором пространственных направлениях может привести к дополнительному улучшению качества объекта герметизации.

Кроме того, по меньшей мере некоторые группы источников света могут быть индивидуально управляемыми таким образом, чтобы вдоль пространственного направления, которое является предпочтительно перпендикулярным линии обработки, интегрированный профиль интенсивности мог быть генерирован, который имеет два внешних максимума интенсивности с промежуточным понижением интенсивности, причем пространственная ориентация этого пространственного направления, вдоль которого распределение интегрированной интенсивности имеет эту приближенную M-форму, может быть модифицирована. В этом примере интегрированной интенсивностью является распределение интенсивности в рабочей плоскости, интегрированной в направлении, в котором располагается линия обработки. Например, группы источников света могут быть индивидуально управляемыми таким образом, что пространственная ориентация этого пространственного направления может быть модифицирована поэтапно на 45 градусов или поэтапно на меньшее количество градусов. Это может позволять устройству обработки, содержащему устройство облучения, удерживать обрабатывающий свет вдоль линии обработки таким образом, что пространственное направление, в котором распределение интегрированной интенсивности имеет приближенную М-форму, является всегда по существу перпендикулярным линии обработки, без вращения устройства облучения, даже если линия обработки изгибается. Это позволяет улучшить качество обработки объекта без необходимости требования вращения механического средства, устройства облучения.

Группы источников света могут быть скомпонованы на одной или нескольких подложках так, что одна или несколько подложек содержат светоизлучающие области и не светоизлучающие области, причем не светоизлучающие области адаптируются для поглощения и/или рассеивания света, попадающего на не светоизлучающие области, таким образом, что свет, отраженный обратно от рабочей плоскости, не отражается обратно на рабочую плоскость. Например, не светоизлучающие области могут быть абсорбирующими, наклоненными относительно светоизлучающих областей или адаптированными для рассеивания света в произвольных направлениях. Это уменьшает вероятность «фантомных изображений» источников света на рабочей плоскости, вызванных отраженным светом, таким образом, дополнительно улучшается качество обработки объекта.

В дополнительном аспекте настоящего изобретения представлено устройство обработки для обработки объекта вдоль линии обработки, причем устройство обработки содержит:

- устройство облучения для обеспечения обрабатывающего света по п. 1 формулы изобретения,

- блок перемещения для перемещения устройства облучения и объекта друг относительно друга таким образом, что обрабатывающий свет перемещается вдоль линии обработки.

В другом аспекте настоящего изобретения обеспечен способ изготовления для изготовления устройства облучения для обеспечения обрабатывающего света для обработки объекта, причем способ изготовления содержит:

- обеспечение групп источников света для генерирования света для обработки объекта,

- обеспечение блока формирования изображения для формирования изображения групп источников света на рабочей плоскости, в которой объект должен быть герметизирован, для генерирования обрабатывающего света,

- объединение групп источников света и блока формирования изображения для получения устройства облучения,

причем группы источников света и блок формирования изображения конфигурируются и объединяются таким образом, что на рабочей плоскости обрабатывающий свет является формируемым с распределением интенсивности, которая конфигурируется таким образом, что, если распределение интенсивности является интегрированным в пространственном направлении интеграции, результирующее распределение интегрированной интенсивности имеет понижение интенсивности, причем одна или несколько групп источников света являются управляемыми независимо от других из групп для модифицирования распределения интенсивности.

В дополнительном аспекте настоящего изобретения представляется способ обработки для обработки объекта вдоль линии обработки, причем способ обработки содержит:

- обеспечение обрабатывающего света посредством устройства облучения по пункту 1 формулы изобретения,

- перемещение устройства облучения и объекта друг относительно друга таким образом, что обрабатывающий свет перемещается вдоль линии обработки посредством блока перемещения.

В другом аспекте настоящего изобретения представляется компьютерная программа обработки для обработки объекта на рабочей плоскости, причем компьютерная программа обработки содержит средство кода программы для вынуждения устройства обработки по пункту 1 формулы изобретения выполнять этапы способа обработки по пункту 14 формулы изобретения, когда компьютерная программа обработки запускается на компьютере, управляющим устройством обработки.

Необходимо понимать, что устройство облучения по пункту 1 формулы изобретения, устройство обработки по пункту 12 формулы изобретения, способ изготовления по пункту 13 формулы изобретения, способ обработки по пункту 14 формулы изобретения и компьютерная программа по пункту 15 формулы изобретения имеют подобные и/или идентичные предпочтительные варианты осуществления, в частности, как определено в зависимых пунктах формулы изобретения.

Необходимо понимать, что предпочтительный вариант осуществления изобретения может также быть любой комбинацией зависимых пунктов формулы изобретения с соответствующим независимым пунктом формулы изобретения.

Эти и другие аспекты изобретения будут очевидны из и объяснены посредством ссылок на варианты осуществления, описанные ниже.

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ЧЕРТЕЖЕЙ

На нижеследующих чертежах:

Фиг. 1 показывает схематично и в качестве примера вариант осуществления устройства обработки для обработки объекта вдоль линии обработки,

Фиг. 2 схематично и примерно иллюстрирует возможную позицию обрабатывающего света относительно линии обработки,

Фиг. 3 показывает схематично и примерно группы источников света устройства облучения устройства обработки,

Фиг. 4 показывает схематично и примерно устройство облучения устройства обработки,

Фиг. 5 показывает схематично и примерно распределение интегрированной интенсивности обрабатывающего света,

Фиг. 6 и 8 показывают схематично и примерно дополнительные варианты осуществления групп источников света устройства облучения,

Фиг. 7 и 9 показывают схематично и примерно распределения интегрированной интенсивности обрабатывающего света, сгенерированного группами источников света, показанных на Фиг. 6 и 7 соответственно,

Фиг. 10 показывает схематично и примерно дополнительный вариант осуществления устройства облучения устройства обработки,

Фиг. 11 показывает схематично и примерно дополнительный вариант осуществления групп источников света с промежуточными блоками обнаружения теплового излучения,

Фиг. 12 и 13 показывают схематично и примерно различные виды сбоку дополнительного варианта осуществления устройства облучения устройства обработки,

Фиг. 14 показывает схематично и примерно распределение групп источников света варианта осуществления устройства облучения, показанного на Фиг. 12 и 13,

Фиг. 15 иллюстрирует профили интенсивности и профили интегрированной интенсивности обрабатывающего света, сгенерированного устройством облучения, показанным на Фиг. 12 и 13,

Фиг. 16 показывает блок-схему, примерно иллюстрирующую вариант осуществления способа обработки для обработки объекта вдоль линии обработки,

Фиг. 17 показывает дополнительную блок-схему, примерно иллюстрирующую способ изготовления для изготовления устройства облучения для обеспечения обрабатывающего света для обработки объекта, и

Фиг. 18 и 19 схематично и примерно показывают дополнительные варианты осуществления распределений групп источников света устройства облучения.

ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ ВАРИАНТОВ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Фиг. 1 показывает схематичный и примерный вариант осуществления устройства обработки для обработки объекта вдоль линии обработки. В этом варианте осуществления устройством 1 обработки является устройство герметизации для герметизации объекта вдоль линии герметизации. Устройство 1 герметизации содержит устройство 10 облучения для обеспечения света 11 герметизации и блок 9 перемещения для перемещения устройства 10 облучения и объекта 3 и, таким образом, элемента 5 герметизации относительно друг друга, таким образом, что свет 11 герметизации перемещается вдоль линии герметизации, вдоль которой располагается элемент 5 герметизации. В этом варианте осуществления объектом, который должен быть герметизирован, является блок 3 излучения органического света, включающий в себя по меньшей мере одно органическое устройство излучения света, в котором по меньшей мере один органический уровень включает в себя уровень эмиссии, помещенный между первым электродом и вторым электродом. Первый электрод и второй электрод могут функционировать в качестве анода для инжекции дырок и катода для инжекции электронов, соответственно. Органический блок 3 излучения света является хорошо известным таким образом, что технические подробности органического блока 3 излучения света не показываются на Фиг. 1 по причинам ясности. В других вариантах осуществления также другой объект может быть герметизирован посредством устройства 1 герметизации.

Объект 3 располагается между первой подложкой 2 и второй подложкой 4, причем элемент 5 герметизации, окружающий объект 3, располагается между первой и второй подложками 2, 4. Первая подложка 2 может быть изолирующей подложкой, которая изолирует объект 3, скомпонованный на второй подложке 4. Первая подложка 2, являющаяся предпочтительно изолирующей, является пропускающей свет для света 11 герметизации для обеспечения свету 11 герметизации нагревать элемент 5 герметизации между первой и второй подложками 2, 4.

Подложки 2, 4 могут быть стеклянными подложками. Элемент 5 герметизации является предпочтительно стеклокерамическим припоем, который расплавляется светом 11 герметизации для герметизации изолирующей первой подложки 2 со второй подложкой 4. Вторая подложка 4 крепится посредством элемента 6 крепления, который может зажимающими элементами или другими элементами крепления в фиксированной позиции относительно перемещаемого стола 7. Стол 7 является перемещаемым посредством блока 9 перемещения таким образом, что объект 3, в частности, элемент 5 герметизации, может быть перемещен относительно устройства 10 облучения для удерживания света 11 герметизации вдоль линии герметизации, вдоль которой располагается элемент 5 герметизации.

Фиг. 2 показывает схематичное и примерное распределение объекта 3, элемента 5 герметизации и первого изоляционного основания 2 в виде сверху, причем ссылочная позиция 13 указывает свет герметизации на элементе 5 герметизации, и стрелка 14 указывает фактическое направление перемещения света 13 герметизации относительно элемента 5 герметизации.

Устройство 1 герметизации дополнительно содержит источник 8 мощности для обеспечения электрической мощности для обеспечения устройству 10, излучающему свет облучать светом 11 герметизации и блок 12 управления для управления источником 8 мощности устройство 10 облучения и электродвигатель 9. Так как электродвигатель 9 перемещает объект 3, в частности, элемент 5 герметизации, относительно устройства 10 облучения, электродвигатель 9 может быть рассмотрен как являющийся блоком перемещения для перемещения устройства 10 облучения и объекта 3 друг относительно друга таким образом, что свет 11 герметизации перемещается вдоль линии герметизации. В других вариантах осуществления блок перемещения может только перемещать устройство облучения относительно объекта для перемещения света герметизации вдоль линии герметизации, или блок перемещения может перемещать и устройство облучения, и объект, в частности, элемент герметизации друг относительно друга для перемещения света герметизации вдоль линии герметизации.

Устройство 10 облучения содержит несколько групп 20, 21, 22 источников света для генерирования света для герметизации объекта 3, который является схематично и примерно показанным на Фиг. 3. Фиг. 3 также показывает систему координат с осью X и осью Y, причем ось Y параллельна направлению 14 перемещения показанному на Фиг. 2. Первая группа 20 содержит треугольные источники света 24, скомпонованные на подложке 14. Вторая группа 21 прямоугольных источников 26 света располагается на подложке 30, и третья группа 22 треугольных источников 28 света располагается на подложке 31. Три группы 20, 21, 22 источников света располагаются вдоль линии, являющейся параллельной оси X. В других вариантах осуществления три группы 20, 21, 22 источников света могут также быть скомпонованы в различных позициях (на оси) Y. Также порядок этих трех групп в направлении Х может быть модифицирован. Например, в направлении Х во-первых группы 20, 22 с треугольно сформированными источниками света, и затем группа 21 с прямоугольно сформированными источниками света может быть скомпонована. Вид суперпозиции (наложения) изображений источников света на рабочей плоскости по существу определяется посредством распределения микролинз относительно источников света, как будет описано дополнительно ниже. В этом варианте осуществления каждая группа 20, 21, 22 содержит два ряда источников 24, 26, 28 света, которые являются параллельными друг другу, причем каждая линия источников 24, 26, 28 света содержит три источника света.

Устройство 10 облучения дополнительно содержит блок 16 изображения для формирования изображения групп 20, 21, 22 источников света на рабочей плоскости, в которой объект 3 должен быть герметизирован, для генерирования света 11 герметизации, который схематично и примерно показан на Фиг. 4.

На Фиг. 4 изображение второй группы 21 источников 26 света на рабочей плоскости 17 является примерно показанным. Блок 16 изображения содержит три совокупности микролинз, которые соответствуют группам, то есть совокупности источников света соответствующих групп 20, 21, 22, таким образом, что каждому источнику света назначается соответствующая микролинза. Фиг. 4 показывает схематичную и примерную совокупность 50 микролинз для второй группы 21 источников 26 света. Блок 16 изображения дополнительно содержит оптический элемент 19 для формирования изображения света от микролинз на рабочей плоскости 17. Предпочтительно, для формирования изображения света от микролинз различных групп источников света, используется один и тот же оптический элемент 19, который, предпочтительно, является оптической линзой.

На Фиг. 3 пунктирные линии 25, 27, 29 указывают пространственные положения центр