Способ получения элементов защиты и голограмм

Способ получения элементов защиты и голограмм

Иллюстрации

Показать все

Реферат

Настоящее изобретение относится к способу образования микроструктуры рельефа поверхности, особенно оптикопеременного изображения (оптикопеременного устройства) на подложке, в частности на прозрачной или полупрозрачной подложке, и средству, получаемому с применением способа. Дополнительная цель изобретения заключается в применении для предотвращения фальсификации или воспроизведения ценной бумаги и способе образования покрытия, проявляющего изменение окраски в зависимости от угла.

Ранее было сделано множество попыток для улучшения изготовления защитных элементов для образования оптикопеременных изображений (оптикопеременных устройств, ОПУ) на подложке.

WO 2005051675 направлен на способ образования голографической дифракционной решетки на подложке, включающий в себя стадии: а) нанесение отверждаемого соединения по меньшей мере на часть подложки; b) контакт по меньшей мере части отверждаемого соединения с помощью образующего дифракционную решету средства; с) отверждение отверждаемого соединения и d) отложение металлических чернил по меньшей мере на часть отвержденного соединения.

WO 2011/064162 раскрывает применение покрывающих композиций, содержащих формованные частицы переходных металлов, особенно серебра, и связующее вещество, где отношение пигмента к связующему веществу предпочтительно является таким, чтобы полученное покрытие проявляло изменение окраски в зависимости от угла для получения защитных элементов и голограмм. В случае применения покрывающих композиций согласно изобретению в покрытии голограммы полученные средства проявляют изменение окраски в зависимости от угла (триггерный эффект), различные окраски в отражении и пропускании. Способ получения включает в себя две стадии. Сначала наносят обычно прозрачное связующее вещество, на котором рельефно напечатано ОПУ изображение, и далее отверждают. На второй стадии покрытие наносят на ОПУ изображение, содержащее частицы с наноразмерами конкретной геометрии.

В настоящее время обнаружено, что процесс можно в значительной степени упростить, не жертвуя оптическими свойствами, такими как высокая контрастность, сильная зависимость угла наблюдения и высокая производительность, посредством применения одностадийного процесса, что означает только одну стадию рельефа и одну стадию отверждения. Покрытие представляет собой отверждаемую УФ композицию, которая дополнительно содержит конкретно сформованные металлические частицы. Термин покрытие применяется в этом контексте как синоним чернил или лака.

В одном варианте выполнения конкретная особенность процесса заключается в том, что стадию отвержения осуществляют через заднюю сторону подложки, которая, следовательно, должена быть прозрачной или полупрозрачной. В этом заключается преимущество, так как для тиснения можно применять традиционный вращающийся металлический печатающий пресс с соответствующими рельефными устройствами, прикрепленными к поверхности.

Альтернативами для отверждения с передней стороны являются так называемые прозрачные прокладки, которые обладают несколькими недостатками. Кварц недостаточно прочный и приводит к медленному процессу. Кроме того, прозрачные прокладки (ленты или рукава) можно применять только несколько раз из-за старения в условиях УФ излучения (полимерные прокладки) и печать на самописце является очень трудной.

Существует необходимость в эффективных системах и способах печати микроструктур (структур рельефа поверхности) на подложке, в частности прозрачной или полупрозрачной подложке, который полностью включает технологии рельефа поверхности в широко распространенные продукты полиграфии, такие как засекреченные документы, гибкая и жесткая упаковка, этикетки и печатные формы.

Настоящее изобретение делает возможным печать микроструктур на подложке, в частности на прозрачной или полупрозрачной подложке, придавая рельефность и металлизируя рельеф поверхности на одной технологической стадии с применением традиционной печатающей системы, такой как флексография, ротогравюра, офсетная печать, шелкография, цифровая печать и струйная печать.

Один аспект изобретения представляет собой способ образования микроструктуры поверхности рельефа, особенно оптикопеременного изображения (оптикопеременного устройства, ОПУ) на подложке, включающий в себя стадии:

A) нанесения отверждаемой композиции по меньшей мере на часть подложки, в которой отверждаемая композиция содержит

a1) по меньшей мере одну этиленненасыщенную смолу, мономер или их смесь;

а2) по меньшей мере один фотоинициатор; и

а3) металлический пигмент, который находится в форме сформованных пластинок частиц переходных металлов, имеющих наибольший размер длины кромки от 5 нм до 1000 нм, предпочтительно от 7 нм до 600 нм и в частности от 10 нм до 500 нм, и толщину от 1 нм до 100 нм, предпочтительно от 2 до 40 нм и в частности от 3 до 30 нм;

B) контактирования по меньшей мере части отверждаемой композиции с микроструктурой рельефа поверхности, особенно образующим оптикопеременное изображение средством;

С) отверждения композиции посредством применения по меньшей мере одной УФ лампы.

В конкретном варианте выполнения изобретения предоставляется способ образования микроструктуры рельефа поверхности, особенно оптикопеременного изображения (оптикопеременного устройства, ОПУ) на прозрачной или полупрозрачной подложке, включающий в себя стадии:

A) нанесения отверждаемой композиции по меньшей мере на часть передней стороны подложки, где отверждаемая композиция содержит

a1) по меньшей мере одну этиленненасыщенную смолу, мономер или их смесь;

а2) по меньшей мере один фотоинициатор; и

а3) металлический пигмент, который находится в форме сформованных пластинок частиц переходных металлов, имеющих наибольший размер длины кромки от 5 нм до 1000 нм, предпочтительно от 7 нм до 600 нм и в частности от 10 нм до 500 нм, и толщину от 1 нм до 100 нм, предпочтительно от 2 до 40 нм и в частности от 3 до 30 нм;

B) контакттрования по меньшей мере части отверждаемой композиции с микроструктурой рельефа поверхности, особенно образующим оптикопеременное изображение средством;

C) отверждения композиции посредством применения по меньшей мере одной УФ лампы, которая располагается на задней стороне прозрачной или полупрозрачной подложки.

В основном изобретение проводят в аппаратуре для образования микроструктуры рельефа поверхности на подложке, которую покрывают отверждаемой композицией (лаком) по меньшей мере на части передней стороны, содержащей печатающий пресс и образующее микроструктуру рельефа поверхности средство, где образующее микроструктуру средство содержит

a) образующее микроструктуру рельефа поверхности средство, особенно прокладку, которая укладывает микроструктуру в отверждаемую композицию, и

b) лампу, обладающую пиком (пиками) излучения в УФ-А интервале и предпочтительно близком VIS (оптическом) интервале для отверждения отверждаемой композиции, когда покрытую подложку прессуют относительно прокладки.

В предпочтительном варианте выполнения (печатающая) аппаратура содержит

a) механизм для подачи подложки через аппаратуру,

b) секцию нанесения покрытия, содержащую источник жидкой отверждаемой УФ композиции и средство для нанесения жидкой композиции из источника на поверхность подложки,

c) секцию рельефного тиснения/отверждения для вдавливания микроструктуры (рельефа поверхности) в поверхность нанесенной композиции на подложке, и средство для отверждения смолы, имеющей микроструктуры (рельефа поверхности), вдавленные в нее так, чтобы микроструктуры сохранялись в отвержденной смоле, где аппаратура располагается так, чтобы композиция наносилась на верхнюю поверхность подложки, чтобы средство для вдавливания микроструктуры (рельефа поверхности) представляло собой никелевую пластину, вмонтированную в непрозрачный цилиндр или металлический цилиндр, имеющий микроструктуру (рельефа поверхности) и два прижимных ролика, которые контактируют с обратной поверхностью подложки и которые имеют ось вращения, которая вдоль является такой же осью, что и ось вращения цилиндра, и средство для отверждения смолы представляет собой источник УФ излучения, располагающийся на задней поверхности подложки.

В одном варианте выполнения аппаратура может быть действующим автономно или автономным устройством, или в альтернативном предпочтительном варианте выполнения аппаратура может быть поточной или интегрированной системой с другими дополнительными традиционными печатающими, ламинирующими, отрезающими, разрезающими и другими преобразовательными подстанциями в качестве части интегрированного процесса изготовления. В одном варианте выполнения аппаратуру и процессы можно конструировать и применять для предоставления частичной голографической печати подложки на основе сетки. Это можно достичь посредством частичной печати отверждаемого излучением лака, как, например, графические элементы на подложке на основе сетки, и дублирования микроструктуры рельефа поверхности только на тех областях, где отпечатан отверждаемый излучением лак.

В дополнительном варианте выполнения аппаратура может дополнительно содержать дополнительный к УФ отверждающий элемент с нагревательным элементом или без него или только нагревательный ИК элемент или комбинированный УФ/ИК, который можно особенно рекомендовать для поддержки и ускорения отверждения лаковых систем. Этот дополнительный отверждающий элемент можно применять, когда покрытая подложка, выходящая из печатающего/отверждающего элемента, хотя успешно отпечатана, является не полностью отвержденной. Дополнительный отверждающий элемент гарантирует, что покрытие является полностью отвержденным.

Согласно настоящему изобретению отверждение предпочтительно проводят через подложку, а не через прокладку (источник УФ излучения, расположенный внутри отверстия полого кварцевого цилиндра и т.д.).

Образующее микроструктуру рельефа поверхности средство представляет собой предпочтительно прокладку, которую выбирают из группы, состоящей из никелевого рукава, никелевой пластины, протравленного или формированного лазером металлического барабана или других материалов, установленных на непрозрачном цилиндре или металлическом цилиндре, содержащем на поверхности ОПУ изображение. Образующее микроструктуру рельефа поверхности средство может содержать средство для охлаждения.

Предварительный отверждающий УФ элемент можно расположить после покрытого УФ лаком элемента и перед создающим тиснение/отверждающим элементом. Предварительный отверждающий элемент облучает отверждаемую излучением композицию, покрытую на сетчатой подложке так, чтобы она по меньшей мере частично отверждалась до того, как поступит в создающую тиснение/отверждающую установку.

Микроструктуры рельефа поверхности, такие как голограммы, можно быстро и точно дублировать на подложке посредством применения способа согласно настоящему изобретению и описанной выше аппаратуре. Фиг. 1 показывает схематичное изображение подходящей конфигурации, как описано выше.

Предпочтительно лампа, применяемая для отверждения композиции, представляет собой легированную галлием или железом ртутную лампу среднего давления.

В основном фотоинициатор выбирают из бензофенона, соединений типа альфа-гидроксикетонов, соединений типа альфа-алкоксикетонов, соединений типа альфа-аминокетонов, соединений оксидов моно- и бисацилфосфинов, соединений фенилглиоксилатов, соединений сложных оксимовых эфиров и соединений ониевых солей (соединений солей сульфония и соединений солей иодония) и их смесей.

Например, фотоинициатор выбирают из соединений оксидов моно- и бисацилфосфинов, соединений типа альфа-аминокетонов, соединений сложных оксимовых эфиров и их смесей.

В предпочтительном варианте выполнения фотоинициатор выбирают из соединений моно- и бисацилфосфинов и их смесей.

Альтернативно отверждаемая композиция содержит смесь соединения оксида моно- или бисацилфосфина с соединением бензофеноном, соединением альфа-гидроксикетоном, альфа-алкоксикетоном или альфа-аминокетоном.

В настоящее время наиболее предпочтительными фотоинициаторами являются соединения оксидов моно- и бисацилфосфинов. Соединения оксидов моно- и бисацилфосфинов можно применять отдельно. Альтернативно можно применять смесь соединения оксида моно- и бисацилфосфина, или соединения оксиды моно- и бисацилфосфинов можно применять в примеси с другими фотоинициаторами, такими как, например, типа бензофенона, типа альфа-аминокетона, типа альфа-гидроксикетона, соединений кеталей, соединений фенилглиоксилатов, соединений сложных оксимовых эфиров или соединений ониевых солей, особенно соединение бензофенона, соединение альфа-гидроксикетона, альфа-алкоксикетона или альфа-аминокетона, особенно соединение бензофенона, соединение альфа-гидроксикетона или альфа-алкоксикетона. Соединение альфа-аминокетона можно применять в одиночку или в смесях с другими фотоинициаторами, если пожелтение не является проблемой.

Примеры фотоинициаторов известны квалифицированному специалисту и, например, опубликованы Kurt Dietliker в "A compilation of photoinitiators commercially available for УФ today", Sita Technology Textbook, Edinburgh, London, 2002.

Примеры подходящих соединений оксидов ацилфосфинов имеют формулу XII

в которой

R₅₀ представляет собой незамещенный циклогексил, циклопентил, фенил, нафтил или бифенилил; или представляет собой циклогексил, циклопентил, фенил, нафтил или бифенилил, замещенный одним или более галогеном, С₁-С₁₂алкилом, С₁-С₁₂алкокси, С₁-С₁₂алкилтио или NR₅₃R₅₄;

или R₅₀ является незамещенным С₁-С₂₀алкилом или является C₁-С₂₀алкилом, который замещен одним или более галогеном, С₁-С₁₂алкокси, C₁-С₁₂алкилтио, NR₅₃R₅₄ или -(СО)-O-С₁-С₂₄алкилом;

R₅₁ представляет собой незамещенный циклогексил, циклопентил, фенил, нафтил или бифенилил; или представляет собой циклогексил, циклопентил, фенил, нафтил или бифенилил, замещенный одним или более галогеном, С₁-С₁₂алкилом, С₁-С₁₂алкокси, С₁-С₁₂алкилтио или NR₅₃R₅₄; или R₅₁ представляет собой -(CO)R'₅₂; или R₅₁ представляет собой С₁-С₁₂алкил, который является незамещенным или замещенным одним или более галогеном, С₁-С₁₂алкокси, С₁-С₁₂алкилтио или NR₅₃R₅₄;

R₅₂ и R'₅₂ независимо друг от друга представляют собой незамещенный циклогексил, циклопентил, фенил, нафтил или бифенилил, или представляют собой циклогексил, циклопентил, фенил, нафтил или бифенилил, замещенный одним или более галогеном, С₁-С₄алкилом или С₁-С₄алкокси; или R₅₂ представляет собой гетероциклическое кольцо с 5 или 6 членами, содержащее атом S или атом N;

R₅₃ и R₅₄ независимо друг от друга представляют собой водород, незамещенный С₁-С₁₂алкил или С₁-С₁₂алкил, замещенный одним или более ОН или SH, где алкильная цепь необязательно обрывается одним до четырех атомами кислорода, или R₅₃ и R₅₄ независимо друг от друга представляют собой С₂-С₁₂-алкенил, циклопентил, циклогексил, бензил или фенил;

Конкретными примерами являются оксид бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфина (Irgacure^®819); оксид 2,4,6-триметилбензоил-дифенил-фосфина (Darocur^®TPO); сложный эфир этил-(2,4,6 триметилбензоилфенил) фосфиновой кислоты; оксид (2,4,6-триметилбензоил)-2,4-дипентоксифенилфосфина, оксид бис(2,6-диметоксибензоил)-2,4,4-триметилпентилфосфина.

Дополнительный интерес представляют собой смеси соединений формулы XII с соединениями формулы XI, а также смеси различных соединений формулы XII.

Примерами являются смеси оксида бис(2,6-диметоксибензоил)-2,4,4-триметилпентилфосфина с 1-гидрокси-циклогексил-фенилкетоном, оксида бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфина с 2-гидрокси-2-метил-1-фенил-пропан-1-оном, оксида бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфина со сложным эфиром этил(2,4,6 триметилбензоилфенил)фосфиновой кислоты и т.д..

Примерами подходящих соединений бензофенона являются соединения формулы X:

в которой

R₆₅, R₆₆ и R₆₇ независимо друг от друга представляют собой водород, С₁-С₄алкил, С₁-С₄-галогеналкил, С₁-С₄алкокси, Сl или N(С₁-С₄алкил)₂;

R₆₈ представляет собой водород, С₁-С₄алкил, С₁-С₄галогеналкил, фенил, Н(С₁-С₄алкил)₂, СООСН₃, или

Q является остатком полигидроксисоединения, содержащего от 2 до 6 гидроксильных групп;

х является числом больше чем 1, но не больше, чем число доступных гидроксильных групп в Q;

А представляет собой -[O(СН₂)_bСО]_у- или -[O(СН₂)_bСО]_(у-1)-[O(CHR₇₁CHR₇₀)a]_y-;

R₆₉ представляет собой водород, метил или этил; и если N больше чем 1,

радикалы R₆₉ могут быть одинаковыми или отличаться друг от друга;

а является числом от 1 до 2;

b является числом от 4 до 5;

у является числом от 1 до 10;

n является; и

m является целым числом 2-10.

Конкретными примерами являются Darocur^®BP (=бензофенон), Esacure TZT^®, доступный от Lamberti, (смесь 2,4,6-триметилбензофенона и 4-метилбензофенона), 4-фенил бензофенон, 4-метоксибензофенон, 4,4'-диметоксибензофенон, 4,4'-диметилбензофенон, 4,4'-дихлоробензофенон, 4,4'-диметиламинобензофенон, 4,4'-диэтиламинобензофенон, 4-метилбензофенон, 2,4,6-триметилбензофенон, 4-(4-метилтиофенил)бензофенон, 3,3'-диметил-4-метоксибензофенон, метил-2-бензоилбензоат, 4-(2-гидроксиэтилтио)бензофенон, 4-(4-толилтио)бензофенон, хлорид 4-бензоил-N,N,N-триметилбензолметанаминия, моногидрат хлорида 2-гидрокси-3-(4-бензоилфенокси)-N,N,N-триметил-1-пропанаминия, 4-(13-акрилоил-1,4,7,10,13-пентаоксатридецил)бензофенон, хлорид 4-бензоил-N,N-диметил-N-[2-(1-оксо-2-пропенил)оху]этилбензолметанаминия; [4-(2-гидрокси-этилсульфанил)-фенил]-(4-изопропилфенил)-метанон; бифенил-[4-(2-гидрокси-этилсульфанил)-фенил]-метанон; бифенил-4-ил-фенил-метанон; бифенил-4-ил-п-толил-метанон; бифенил-4-ил-м-толил-метанон; [4-(2-гидрокси-этилсульфанил)-фенил]-п-толил-метанон; [4-(2-гидрокси-этилсульфанил)-фенил]-(4-изопропил-фенил)-метанон; [4-(2-гидрокси-этилсульфанил)-фенил]-(4-метокси-фенил)-метанон; 1-(4-бензоил-фенокси)-пропан-2-он; [4-(2-гидрокси-этилсульфанил)-фенил]-(4-фенокси-фенил)-метанон; 3-(4-бензоил-фенил)-2-диметиламино-2-метил-1-фенил-пропан-1-он; (4-хлоро-фенил)-(4-октилсульфанил-фенил)-метанон; (4-хлоро-фенил)-(4-додецилсульфанил-фенил)-метанон; (4-бромо-фенил)-(4-октилсульфанил-фенил)-метанон; (4-додецилсульфанил-фенил)-(4-метокси-фенил)-метанон; сложный метиловый эфир (4-бензоил-фенокси)-уксусной кислоты; бифенил-[4-(2-гидрокси-этилсульфанил)-фенил]-метанон; 1-[4-(4-бензоилфенилсульфанил)фенил]-2-метил-2-(4-метилфенилсульфонил)пропан-1-он (Esacure^®1001, доступный от Lamberti).

Примерами подходящих соединений альфа-гидроксикетона, альфа-алкоксикетона или альфа-аминокетона являются соединения формулы (XI)

в которой

R₂₉ представляет собой водород или С₁-С₁₈алкокси;

R₃₀ представляет собой водород, С₁-С₁₂алкил, С₁-С₁₂гидроксиалкил, С₁-С₁₈алкокси, OCH₂CH₂-OR₃₄, морфолино, S-С₁-С₁₈алкил, группу -НС=СН₂, -

d, е и f равны 1-3; с равен 2-10;

G₁ и G₂ независимо друг от друга являются концевыми группами полимерной структуры, предпочтительно водородом или метилом;

R₃₄ представляет собой водород, или ;

R₃₁ представляет собой гидрокси, С₁-С₁₆алкокси, морфолино, диметиламино или -О(СН₂СН₂О)_g-С₁-С₁₆алкил;

g равен 1-20;

R₃₂ и R₃₃ независимо друг от друга представляют собой водород, С₁-С₆алкил, С₁-С₁₆алкокси или -O(СН2СН₂O)_g-С₁-С₁₆алкил; или являются незамещенным фенилом или бензилом; или фенилом или бензилом, замещенным C₁-C₁₂-алкилом; или R₃₂ и R₃₃ вместе с атомом углерода, к которому они присоединены, образуют циклогексильное кольцо;

R₃₅ представляет собой водород, OR₃₆ или NR₃₇R₃₈;

R₃₆ представляет собой водород, С₁-С₁₂алкил, который необязательно обрывается одним или более не последовательными атомами О и который не обрывается или обрывается С₁-С₁₂алкилом, необязательно замещенным одним или более ОН,

или R₃₆ представляет собой ;

R₃₇ и R₃₈ независимо друг от друга представляют собой водород или С₁-С₁₂алкил, который является незамещенным или замещенным одним или более ОН;

R₃₉ представляет собой С₁-С₁₂алкилен, который необязательно обрывается одним или более не последовательными О, -(СО)-NH-С₁-С₁₂алкилен-NН-(СО)- или ;

при условии, что R₃₁, R₃₂ и R₃₃ не все вместе являются С₁-С₁₆алкокси или -O(CH₂CH₂O)_g-C₁-С₁₆алкилом.

Конкретными примерами являются 1-гидрокси-циклогексил-фенил-кетон (Irgacure^®184) или Irgacur^®500 (смесь Irgacure^®184 с бензофеноном), 2-метил-1[4-(метилтио)фенил]-2-морфолинопропан-1-он (Irgacure^®907), 2-бензил-2-диметиламино-1-(4-морфолинофенил)-бутан-1-он (Irgacure^®369), 2-диметиламино-2-(4-метил-бензил)-1-(4-морфолин-4-ил-фенил)-бутан-1-он (Irgacure^®379), (3,4-диметокси-бензоил)-1-бензил-1-диметиламинопропан, 1-[4-(2-гидроксиэтокси)-фенил]-2-гидрокси-2-метил-1-пропан-1-он (Irgacure^®2959), 2,2-диметокси-1,2-дифенилэтан-1-он (Irgacure^®651), 2-гидрокси-2-метил-1-фенил-пропан-1-он (Darocur^®1173), 2-гидрокси-1-{4-[4-(2-гидрокси-2-метил-пропионил)-бензил]-фенил}-2-метил-пропан-1-он (Irgacure^®127), 2-гадрокси-1-{4-[4-(2-гидрокси-2-метил-пропионил)-фенокси]-фенил}-2-метил-пропан-1-он, Esacure KIP, предоставленный Lamberti, 2-гадрокси-1-{1-[4-(2-гидрокси-2-метил-пропионил)-фенил]-1,3,3-триметил-индан-5-ил}-2-метил-пропан-1-он.

Продукты Irgacure^® и Darocur^® доступны от BASF SE.

Примеры подходящих соединений фенилглиоксилатов представляют собой соединения формулы XIII

в которой

R₆₀ представляет собой водород, С₁-С₁₂алкил или

R₅₅, R₅₆, R₅₇, R₅₈ и R₅₉ независимо друг от друга представляют собой водород, незамещенный С₁-С₁₂алкил или С₁-С₁₂алкил, замещенный одним или более ОН, С₁-С₄алкокси, фенилом, нафтилом, галогеном или CN; где алкильная цепь необязательно обрывается одним или более атомами кислорода; или R₅₅, R₅₆, R₅₇, R₅₈ и R₅₉ независимо друг от друга представляют собой С₁-С₄алкокси, С₁-С₄алкитио или NR₅₂R₅₃;

R₅₂ и R₅₃ независимо друг от друга представляют собой водород, незамещенный С₁-С₁₂алкил или С₁-С₁₂алкил, замещенный одним или более ОН или SH, где алкильная цепь необязательно обрывается от одного до четырех атомами кислорода; или R₅₂ и R₅₃ независимо друг от друга представляют собой С₂-С₁₂-алкенил, циклопентил, циклогексил, бензил или фенил; и

Y₁ представляет собой С₁-С₁₂алкилен, который необязательно обрывается одним или более атомами кислорода.

Конкретными примерами соединений формулы XIII являются сложный 2-[2-(2-оксо-2-фенил-ацетокси)-этокси]-этиловый эфир оксофенилуксусной кислоты (Irgacure^®754), метил α-оксобензолацетат.

Примерами подходящих соединений сложных оксимовых эфиров являются соединения формулы XIV

в которой R72

z равен 0 или 1;

R₇₀ представляет собой водород, С₃-С₈циклоалкил; С₁-С₁₂алкил, который является незамещенным или замещенным одним или более галогеном, фенилом или CN; или R₇₀ представляет собой С₂-С₅алкенил; фенил, который является незамещенным или замещенным одним или более C₁-С₆алкилом, галогеном, CN, OR₇₃, SR₇₄ или NR₇₅R₇₆; или R₇₀ представляет собой C₁-С₈алкокси, бензилокси или фенокси, который является незамещенным или замещенным одним или более C₁-С₆алкилом или галогеном;

R₇₁ представляет собой фенил, нафтил, бензоил или нафтоил, каждый из которых является замещенным одним или более галогеном, С₁-С₁₂алкилом, С₃-С₈циклоалкилом, бензилом, феноксикарбонилом, С₂-С₁₂алкоксикарбонилом, OR₇₃, SR₇₄, SOR₇₄, SO₂R₇₄ или NR₇₅R₇₆, где заместители OR₇₃, SR₇₄ и NR₇₅R₇₆ необязательно образуют 5- или 6-членные кольца посредством радикалов R₇₃, R₇₄, R₇₅ и/или R₇₆ с помощью дополнительных заместителей на фенильном или нафтильном кольце; или каждый из которых является замещенным фенилом или фенилом, который является замещенным одним или более OR₇₃, SR₇₄ или NR₇₅R₆₆; или R₇₁ представляет собой тиоксантил или ;

R₇₂ представляет собой водород, незамещенный С₁-С₂₀алкил или C₁-С₂₀алкил, который является замещенным одним или более галогеном, OR₇₃, SR₇₄, С₃-С₈циклоалкилом или фенилом; или представляет собой С₃-С₈циклоалкил; или представляет собой фенил, который является незамещенным или замещенным одним или более C₁-С₆алкилом, фенилом, галогеном, OR₇₃, SR₇₄ или NR₇₅R₇₆; или представляет собой С₂-С₂₀алканоил или бензоил, который является незамещенным или замещенным одним или более C₁-С₆алкилом, фенилом, OR₇₃, SR₇₄ или NR₇₅R₇₆; или представляет собой С₂-С₁₂алкоксикарбонил, феноксикарбонил, CN, CONR₇₅R₇₆, NO₂, С₁-С₄ галоалкил, S(O)_у-С₁-С₆алкил или S(O)_у-фенил,

у равен 1 или 2;

Y₂ является прямой связью или не является связью;

Y₃ представляет собой NO₂ или ;

R₇₃ и R₇₄ независимо друг от друга представляют собой водород, С₁-С₂₀алкил, С₂-С₁₂алкенил, С₃-С₈циклоалкил, С₃-С₈циклоалкил, который является оборванным одним или более, предпочтительно 2, О, фенил-С₁-С₃алкил; или представляют собой С₁-С₈алкил, который является замещенным ОН, SH, CN, С₁-С₈алкокси, С₁-С₈алканоил, С₃-С₈циклоалкил, С₃-С₈циклоалкилом, который является оборванным одним или более О, или С₁-С₈алкил которого является замещенным бензоилом, который является незамещенным или замещенным одним или более C₁-С₆алкилом, галогеном, ОН, С₁-С₄алкокси или С₁-С₄алкилсульфанилом; или представляют собой фенил или нафтил, каждый из который является незамещенным или замещенным галогеном, С₁-С₁₂алкилом, С₁-С₁₂алкокси, фенил-С₁-С₃алкокси, фенокси, С₁-С₁₂алкилсульфанилом, фенилсульфанилом, N(С₁-С₁₂алкилом)₂, дифениламино или ;

R₇₅ и R₇₆ независимо друг от друга представляют собой водород, С₁-С₂₀алкил, С₂-С₄гидроксиалкил, С₂-С₁₀алкоксиалкил, С₂-С₅алкенил, С₃-С₈циклоалкил, фенил-С₁-С₃алкил, С₁-С₈алканоил, С₃-С₁₂алкеноил, бензоил; или представляют собой фенил или нафтил, каждый из которых является незамещенным или замещенным С₁-С₁₂алкилом, бензоилом или С₁-С₁₂алкокси; или R₇₅ и R₇₆ вместе представляют собой С₂-С₆алкилен, необязательно оборванный О или NR₇₃ и необязательно являются замещенными гидроксилом, С₁-С₄алкокси, С₂-С₄алканоилокси или бензоилокси;

R₇₇ представляет собой С₁-С₁₂алкил, тиенил или фенил, который является незамещенным или замещенным С₁-С₁₂алкилом, OR₇₃, морфолино или N-карбазолилом.

Конкретными примерами являются 1,2-октандион-1-[4-(фенилтио)фенил]-2-(О-бензоилоксим) (Irgacure^® ОХЕ01), эталон-1-[9-этил-6-(2-метилбензоил)-9Н-карбазол-3-ил]-1-(O-ацетилоксим) (Irgacure^® ОХЕ02), 9Н-тиоксантен-2-карбоксальдегид-9-оксо-2-(O-ацетилоксим), этанон-1-[9-этил-6-(4-морфолинобензоил)-9Н-карбазол-3-ил]-1-(О-ацетилоксим), этанон-1-[9-этил-6-(2-метил-4-(2-(1,3-диоксо-2-диметил-циклопент-5-ил)этокси)-бензоил)-9Н-карбазол-3-ил]-1-(О-ацетилоксим) (Adeka N-1919), этанон-1-[9-этил-6-нитро-9Н-карбазол-3-ил]-1-[2-метил-4-(1-метил-2-метокси)этокси)фенил]-1-(О-ацетилоксим) (Adeka NCI831), и т.д.

Также возможно добавлять катионные фотоинициаторы, такие как пероксид бензоила (другие подходящие пероксиды описаны в US 4950581, столбец 19, строки 17-25), или ароматические соли сульфония, фосфония или иодония, такие, как описано, например, в US 4950581, столбец 18, строка 60 до столбец 19, строка 10.

Подходящие соединения соли сульфония представляют собой соединения формулы XVa, XVb, XVc, XVd или XVe

в которых

R₈₀, R₈₁ и R₈₂ представляют собой каждый независимо от других незамещенный фенил или фенил, замещенный -S-фенилом, или

R₈₃ является прямой связью, S, О, СН₂, (СН₂)₂, СО или NR₈₉;

R₈₄, R₈₅, R₈₆ и R₈₇ независимо друг от друга представляют собой водород, С₁-С₂₀алкил, С₃-С₈циклоалкил, С₁-С₂₀алкокси, С₂-С₂₀алкенил, CN, ОН, галоген, С₁-С₆алкилтио, фенил, нафтил, фенил-С₁-С₇алкил, нафтил-С₁-С₃алкил, фенокси, нафтилокси, фенил-С₁-С₇алкилокси, нафтил-С₁-С₃алкилокси, фенил-С₂-С₆алкенил, нафтил-С₂-С₄алкенил, S-фенил, (CO)R₈₉, O(CO)R₈₉, (CO)OR₈₉, SO₂R₈₉ или OSO₂R₈₉;

R₈₈ представляет собой C₁-С₂₀алкил, C₁-С₂₀гидроксиалкил, ,

или

R₈₉ представляет собой водород, C₁-С₁₂алкил, С₁-С₁₂гидроксиалкил, фенил, нафтил или бифенилил;

R₉₀, R₉₁, R₉₂ и R₉₃ независимо друг от друга имеют одно из значений, как дано для R₈₄; или R₉₀ и R₉₁ соединяются с образованием системы с сочлененными кольцами с бензольными кольцами, к которым они присоединены;

R₉₅ является прямой связью, S, О или СН₂;

R₉₆ представляет собой водород, С₁-С₂₀алкил; С₂-С₂₀алкил, который обрывается одним или более О; или представляет собой -L-M-R₉₈ или -L-R₉₈;

R₉₇ имеет одно из значений, как дано для R₉₆ или представляет собой

R₉₈ является одновалентным фрагментом сенсибилизатора или фотоинициатора;

Аr₁ и Аr₂ независимо друг от друга представляют собой фенил, незамещенный или замещенный С₁-С₂₀алкилом, галогеном или OR₉₉;

или представляют собой незамещенный нафтил, антрил, фенантрил или бифенилил;

или представляют собой нафтил, антрил, фенантрил или бифенилил, замещенные С₁-С₂₀алкилом, ОН или OR₉₉;

или представляют собой -Аr₄-А₁-Аr₃ или :

Аr₃ представляет собой незамещенный фенил, нафтил, антрил, фенантрил или бифенилил;

или представляет собой фенил, нафтил, антрил, фенантрил или бифенилил, замещенный С₁-С₂₀алкилом, OR₉₉ или бензоилом;

Аr₄ представляет собой фенилен, нафтилен, антрилен или фенантрилен;

A₁ является прямой связью, S, О или С₁-С₂₀алкиленом;

X является СО, С(O)O, ОС(О), О, S или NR₉₉;

L представляет собой прямую связь, S, О, C₁-С₂₀алкилен или С₂-С₂₀алкилен, которые обрываются одним или более не последовательных О;

R₉₉ представляет собой С₁-С₂₀алкил или С₁-С₂₀гидроксиалкил; или представляет собой С₁-С₂₀алкил, замещенный O(CO)R₁₀₂;

М₁ представляет собой S, СО или NR₁₀₀;

М₂ представляет собой прямую связь, СН₂, О или S;

R₁₀₀ и R₁₀₁ независимо друг от друга представляют собой водород, галоген, С₁-С₈алкил, С₁-С₈алкокси или фенил;

R₁₀₂ представляет собой С₁-С₂₀алкил;

R₁₀₃ представляет собой и

Е является анионом, особенно PF₆, SbF₆, AsF₆, BF₄, (C₆F₅)B, Cl, Br, HSO₄, CF₃-SO₃, F-SO₃, , CH₃-SO₃, СlO₄, PO₄, NO₃, SO₄, CH₃-SO₄, или .

Конкретными примерами соединений солей сульфония являются, например, Irgacure^®270 (BASF SE); Cyracure^® УФ1-6990, Сугасиге^®УФ1-6974 (Union Carbide), Degacure^®KI 85 (Degussa), SP-55, SP-150, SP-170 (Asahi Denka), GE УФЕ 1014 (General Electric), SarCat^® KI-85 (=гексафторфосфат триарилсульфония; Sartomer), SarCat^® CD 1010 (=смешанный гексафторантимонат триарилсульфония; Sartomer); SarCat^® CD 1011(=смешанный гексафторфосфат триарилсульфония; Sartomer),

Подходящими соединениями солей иодония являются соединения формулы XVI

в которой

R₁₁₀ и R₁₁₁ каждый независимо от другого представляют собой водород, C₁-С₂₀алкил, C₁-С₂₀алкокси, ОН-замещенный С₁-С₂₀алкокси, галоген, С₂-С₁₂алкенил, С₃-С₈циклоалкил, особенно метил, изопропил или изобутил; и Е является анионом, особенно PF₆, ShF₆, AsF₆, BF₄, (С₆F₅)₄В, Cl, Br, HSO₄, CF₃-SO₃, F-SO₃, , CH₃-SO₃, СlO₄, PO₄, NO₃, SO₄, СН₃-SO₄ или .

Конкретными примерами соединений солей иодония являются, например, тетракис(пентафторфенил)борат толилкумилиодония, гексафторантимонат или гексафторфосфат 4-[(2-гидрокси-тетрадецилокси)фенил]фенилиодония, гексафторфосфат толилкумилиодония, гексафторфосфат 4-изопропилфенил-4'-метилфенилиодония, гексафторфосфат 4-изобутилфенил-4'-метилфенилиодония (Irgacure^® 250, BASF SE), гексафторфосфат или гексафторантимонат 4-октилоксифенил-фенилиниодония, гексафторантимонат или гексафторфосфат бис(додецилфенил)иодония, гексафторфосфат бис(4-метилфенил)иодония, гексафторфосфат бис(4-метоксифенил)иодония, гексафторфосфат 4-метилфенил-4-этоксифенилиодония, гексафторфосфат 4-метилфенил-4'-додецилфенилиодония, гексафторфосфат 4-метилфенил-4'-феноксифенилиодония.

Из всех упомянутых солей иодония, конечно, также являются подходящими соединения с другими анионами. Получение солей иодония известно квалифицированному специалисту и описано в литературе, например, US 4151175, US 3862333, US 4694029, ЕР 562897, US 4399071, US 6306555, WO 98/46647 J.V. Crivello, "Photoinitiated Cationic Polymerization" в УФ Curing: Science and Technology, Editor S.P. Pappas, стр. 24-77, Technology Marketing Corporation, Norwalk, Conn. 1980, ISBN No. 0-686-23773-0; J.V. Crivello, J.H.W. Lam, Macromolecules, 10, 1307 (1977) и J.V. Crivello, Ann. Rev. Mater. Sci. 1983, 13, стр. 173-190 и J.V. Crivello, Journal of Polymer Science, Part A: Polymer Chemistry, т. 37, 4241-4254 (1999).

Галогеном является фтор, хлор, бром и иод.

С₁-С₂₄алкил (С₁-С₂₀алкил, особенно С₁-С₁₂алкил) в основном является линейным или разветвленным, когда возможно. Примерами являются метил, этил, н-пропил, изопропил, н-бутил, втор-бутил, изобутил, трет-бутил, н-пентил, 2-пентил, 3-пентил, 2,2-диметилпропил, 1,1,3,3-тетраметилпентил, н-гексил, 1-метилгексил, 1,1,3,3,5,5-гексам