Способ изготовления многослойного элемента, а также многослойный элемент

Способ изготовления многослойного элемента, а также многослойный элемент

Иллюстрации

Показать все

Реферат

Изобретение касается способа изготовления многослойного элемента, имеющего слой подложки и выполненный на и/или в этом слое подложки одно- или многослойный декоративный слой, а также многослойного элемента, защитного элемента и защищенного документа.

Оптические защитные элементы часто применяются для того, чтобы затруднить копирование документов или продуктов для предотвращения злоупотребления ими, в частности предотвратить подделку. Так, оптические защитные элементы находят применение для защиты документов, банкнот, кредитных и платежных карт, пропусков, упаковок ценных продуктов и тому подобного. При этом известно применение в качестве оптических защитных элементов оптически изменяемых элементов, которые не могут дублироваться традиционными способами копирования. Известно также оснащение защитных элементов структурированным металлическим слоем, который выполнен в виде текста, логотипа или другого рисунка.

Создание структурированного металлического слоя, например, на плоско нанесенном путем ионного напыления или осаждения пара металлическом слое, требует множества процессов, в частности, когда должны создаваться особенно тонкие структуры, которые обладают высокой защищенностью от подделки. Так, например, известна частичная деметаллизация и вместе с тем структурирование металлического слоя, нанесенного по всей поверхности путем позитивного или негативного травления или путем лазерной абляции. Альтернативно этому возможно нанесение металлических слоев на подложку посредством применения масок для напыления уже в структурированном виде.

Чем больше предусмотрено технологических этапов для изготовления защитного элемента, тем большее значение приобретает точность совмещения или приводки отдельных этапов способа, т.е. точность позиционирования отдельных инструментов друг относительно друга при образовании защитного элемента в отношении уже имеющихся на защитном элементе признаков или слоев или структур.

Задачей настоящего изобретения является предложить особенно трудно воспроизводимый многослойный элемент и способ изготовления такого многослойного элемента.

Задача решается с помощью способа изготовления многослойного элемента, в частности оптического защитного элемента или оптического декоративного элемента, причем при этом способе:

a) на слой подложки наносится одно- или многослойный первый декоративный слой;

b) по меньшей мере один металлический слой наносится на обращенную от слоя подложки сторону первого декоративного слоя;

c) указанный по меньшей мере один металлический слой структурируется таким образом, чтобы этот металлический слой в одной или нескольких первых зонах многослойного элемента был предусмотрен с первой толщиной слоя, и в одной или нескольких вторых зонах многослойного элемента был предусмотрен с отличающейся от первой толщины слоя второй толщиной слоя, при этом, в частности, вторая толщина слоя равна нулю;

d) на обращенную от первого декоративного слоя сторону металлического слоя наносится одно- или многослойный второй декоративный слой;

e) первый и/или второй декоративный слой структурируется с использованием металлического слоя в качестве маски в первой области многослойного элемента таким образом, что первый и/или второй декоративный слой в первых или вторых зонах по меньшей мере частично удаляется.

Этапы a)-e) предлагаемого изобретением способа должны предпочтительно выполняться в указанной последовательности.

Задача решается также с помощью многослойного элемента, имеющего одно- или многослойный первый декоративный слой, одно- или многослойный второй декоративный слой и по меньшей мере один, расположенный между первым и вторым декоративным слоем металлический слой, причем этот металлический слой структурирован таким образом, что указанный по меньшей мере один металлический слой в первой области многослойного элемента в одной или нескольких первых зонах многослойного элемента предусмотрен с первой толщиной слоя, и в одной или нескольких вторых зонах многослойного элемента предусмотрен с отличающейся от первой толщины слоя второй толщиной слоя, при этом, в частности, вторая толщина слоя равна нулю, и при этом первый и второй декоративный слой структурированы конгруэнтно друг другу, а также металлическому слою. Первый и второй декоративный слой, а также металлический слой имеют предпочтительно отдельные структуры, так что первый и второй декоративный слой в первой области в указанных первых или вторых зонах по меньшей мере частично удалены конгруэнтно друг другу, а также металлическому слою.

Такой многослойный элемент может получаться предпочтительно посредством описанного выше способа.

Предлагаемый изобретением многослойный элемент, например, в виде этикетки, ламинирующей пленки, пленки горячего тиснения или переводной пленки может использоваться для создания оптического защитного элемента, который применяется для защиты документов, банкнот, кредитных и платежных карт, пропусков, упаковок ценных продуктов и тому подобного. При этом декоративные слои и указанный по меньшей мере один расположенный с точным совмещением к ним металлический слой могут служить оптическим защитным элементом.

С помощью изобретения достигается выполнение особенно защищенных от подделки многослойных элементов. При этом способе во время изготовления многослойного элемента металлический слой служит маской, предпочтительно экспонированной маской для экспонировании, т.е. фотоактивации фотоактивируемого слоя, который может быть включен в первый и/или второй декоративный слой, или в качестве маски для защиты первых зон или, соответственно, вторых зон, например, от воздействия растворителя, и на готовом многослойном элементе для получения оптического эффекта. То есть металлический слой выполняет несколько совершенно разных функций.

При этом структурирование в соответствии с этапом c) и/или этапом e) может также осуществляться только в одной отдельной области многослойного элемента, которая тогда, в частности, представляет собой первую область.

Предпочтительно первый и второй декоративный слой структурируются с использованием металлического слоя в качестве маски в первой области таким образом, что первый и второй декоративный слой соответственно в первых или вторых зонах по меньшей мере частично удаляются, или что металлический слой структурируется с использованием первого или второго декоративного слоя в качестве маски.

Благодаря этому достигается структурирование с точным совмещением друг к другу первого декоративного слоя, второго декоративного слоя и металлического слоя без дополнительного применения регистрирующих устройств, и становится возможным очень прецизионное, с точным положением структурирование этих слоев друг относительно друга.

При традиционных способах создания маски для травления посредством экспонирования по маске, причем эта маска имеется либо в виде отдельного элемента, напр., в виде отдельной пленки или в виде отдельной стеклянной пластины/стеклянного валика, либо в виде напечатанного впоследствии слоя, может возникнуть та проблема, что линейные и/или нелинейные искажения в многослойном элементе, вызванные предыдущими, в частности создающими термическую и/или механическую нагрузку этапами процесса, не могут выравниваться полностью по всей поверхности многослойного элемента путем ориентации маски на многослойном элементе, хотя осуществляется ориентация маски по имеющимся (чаще всего расположенным на горизонтальных и/или вертикальных краях многослойного элемента) метках приводки или совмещения. При этом допуск колеблется по всей поверхности многослойного элемента в сравнительно большом диапазоне. С помощью этого способа предпочтительно заданные структурированием первого или второго декоративного слоя или металлического слоя первые или вторые зоны непосредственно или опосредствованно используются в качестве маски для структурирования остальных слоев, так что эти проблемы предотвращаются.

То есть выполненная в виде декоративного слоя или, соответственно, металлического слоя маска подвергается всем последующим этапам процесса многослойного элемента, и поэтому автоматически следует всем возможно вызванным этими этапами процесса искажениям в самом многослойном элементе. Поэтому не возникают никакие дополнительные допуски, в частности также никакие дополнительные колебания допусков по поверхности многослойного элемента, так как не происходит последующее создание маски и необходимое в связи с этим последующее позиционирование с наиболее точным возможным совмещением этой маски, не зависимой от предыдущего хода процесса. Допуски или, соответственно, точности совмещения при предлагаемом изобретением способе объясняются только, возможно, не абсолютно точно выполненными краями первых и вторых зон, а также металлического слоя, качество которых определяется применяемым в каждом случае способом изготовления. Допуски или, соответственно, точности совмещения при предлагаемом изобретением способе находятся примерно в микронном диапазоне, и поэтому намного ниже разрешающей способности глаза; т.е. невооруженный человеческий глаз уже не может воспринимать имеющиеся допуски.

Под совмещением или точностью совмещения следует понимать расположение в точном положении находящихся друг над другом слоев.

Слой включает в себя по меньшей мере один слой. Декоративный слой включает в себя один или несколько декоративных и/или защитных слоев, которые, в частности, выполнены в виде слоев лака. Декоративные слои могут быть расположены на слое подложки по всей поверхности или в структурированной в виде рисунка форме.

Когда ниже описывается расположение предмета в первой зоне и/или второй зоне, то под этим следует понимать, что предмет расположен так, что предмет и первая и/или вторая зона перекрываются, если смотреть перпендикулярно плоскости слоя подложки.

Указанный по меньшей мере один металлический слой может состоять из одного единственного металлического слоя или их некоторой последовательности двух или нескольких металлических слоев, предпочтительно различных металлических слоев. В качестве металла для металлических слоев предпочтительно применяется алюминий, медь, золото, серебро или сплав из этих металлов.

Кроме того, предпочтительно, если на этапе c), т.е. для структурирования металлического слоя, на обращенную от первого декоративного слоя сторону металлического слоя наносится активируемый посредством электромагнитного излучения первый слой резиста, и этот первый слой резиста экспонируется с применением экспонирующей маски посредством упомянутого электромагнитного излучения. Тогда после этого следуют предпочтительно другие этапы для структурирования металлического слоя, такие как, например, проявление, травление и снятие стриппером.

Предпочтительно, если далее поступают следующим образом: нанесенный на этапе d) второй декоративный слой включает в себя один или несколько вторых активируемых посредством электромагнитного излучения, окрашенных слоев резиста. На этапе e) эти один или несколько вторых окрашенных слоев резиста посредством упомянутого электромагнитного излучения экспонируются со стороны слоя подложки, при этом металлический слой служит экспонирующей маской. Таким образом, второй декоративный слой может структурироваться при безукоризненном совмещении к металлическому слою.

В другом предпочтительном варианте осуществления этот один или несколько вторых, окрашенных слоев резиста включают в себя по меньшей мере два слоя резиста, содержащие различные красящие средства или красящие средства различной концентрации. При этом один или несколько из указанных одного или нескольких вторых окрашенных слоев резиста могут наноситься каждый посредством способа печати в виде рисунка. Эти окрашенные слои резиста выполняются при этом предпочтительно в виде рисунка для образования первого мотива.

Особенно предпочтительно, если первый слой резиста на этапе c) экспонируется со стороны слоя подложки, при этом маска для экспонирования первого слоя резиста образуется первым декоративным слоем. Для этого первый декоративный слой, если смотреть перпендикулярно плоскости слоя подложки, в первой области в указанных одной или нескольких первых зонах имеет первый коэффициент пропускания, а в указанных одной или нескольких вторых зонах - больший по сравнению с первым коэффициентом пропускания второй коэффициент пропускания, при этом упомянутые коэффициенты пропускания предпочтительно относятся к электромагнитному излучению с длиной волны, подходящей для фотоактивации первого слоя резиста.

При экспонировании фотоактивируемого слоя посредством упомянутого электромагнитного излучения с обращенной от фотоактивируемого слоя стороны слоя подложки сквозь первый декоративный слой этот первый декоративный слой действует, таким образом, в качестве экспонирующей маски, так как он имеет в первой зоне коэффициент пропускания, который снижен по сравнению с коэффициентом пропускания второй зоны. Кроме того, просвечивание осуществляется сквозь металлический слой и вместе с тем слой, подлежащий структурированию.

Кроме того, целесообразно, если на отдельную область металлического слоя, в которой не предусмотрен первый слой резиста, частично наносится, в частности окрашенный, слой резиста, стойкого к травлению. С помощью этого слоя резиста, стойкого к травлению, в этой отдельной области при более позднем процессе травления металлический слой может структурироваться независимо от экспонирования первого слоя резиста, благодаря чему могут достигаться другие графические эффекты. Предпочтительно слой резиста, стойкого к травлению, состоит при этом из поливинилхлорида.

Первый декоративный слой также выполняет здесь несколько совершенно разных функций, а именно, функцию экспонирующей маски, а также предоставления оптической информации.

Предпочтительно первый декоративный слой выполнен так, что наблюдатель предмета, декорированного посредством многослойного элемента, может рассматривать указанный по меньшей мере один металлический слой сквозь первый декоративный слой. Для этого первый декоративный слой может быть, например, прозрачным или просвечивающим. Кроме того, возможно также, чтобы первый декоративный слой образовывал (цветной) второй, видимый для наблюдающего человека мотив, который выполнен независимо от первых и вторых зон. Для этого первый декоративный слой может быть, например, прозрачным или окрашен просвечивающим образом.

Благодаря использованию первого декоративного слоя в качестве экспонирующей маски первый слой резиста структурирован с точным совмещением с первыми и вторыми зонами многослойного элемента, т.е. структуры структурированного первого слоя резиста расположены с совмещением к первым и вторым зонам декоративного слоя. Кроме того, по этому варианту осуществления способа указанный по меньшей мере один металлический слой структурирован с точным совмещением со слоем резиста. То есть этот способ позволяет выполнять по меньшей мере четыре слоя, выполненных с точным совмещением друг с другом: первый декоративный слой, первый слой резиста, указанный по меньшей мере один металлический слой и второй декоративный слой. В результате способа многослойный элемент имеет металлический слой, а также два декоративных слоя с точным совмещением в первой зоне или во второй зоне многослойного элемента.

Благодаря использованию первого декоративного слоя в качестве экспонирующей маски для первого слоя резиста или, соответственно, металлического слоя в качестве экспонирующей маски для второго слоя резиста, при необходимости включенного во второй декоративный слой, неизбежно получается абсолютная точность совмещения данной экспонирующей маски к металлическому слою или, соответственно, второму декоративному слою, т.е. первый декоративный слой и структурированный металлический слой сами по меньшей мере в отдельных областях выполняют функцию экспонирующих масок. То есть, первый декоративный слой или, соответственно, металлический слой и экспонирующая маска образуют соответственно один общий функциональный узел. Благодаря этому столь же простому, как и эффективному способу возникает значительное преимущество по сравнению с традиционными способами, в которых отдельная экспонирующая маска должна устанавливаться с совмещением со слоями многослойного элемента, при этом на практике полностью избежать отклонений совмещения удается в минимальном количестве случаев.

Возможно, чтобы первый декоративный слой включал в себя первый слой лака, который располагается на слое подложки в первой зоне с первой толщиной слоя, а во второй зоне либо не располагается, либо располагается с меньшей по сравнению с первой толщиной слоя второй толщиной слоя, так что первый декоративный слой в первой зоне имеет упомянутый первый коэффициент пропускания, а во второй зоне имеет упомянутый второй коэффициент пропускания. Благодаря этому простым образом осуществляется функция маски первого декоративного слоя.

Слои лака могут при этом особенно просто наноситься в виде рисунка способом печати, например, глубокой печати, офсетной печати, трафаретной печати, струйной печати, так что осуществляются как функция маски, так и желаемый оптический эффект.

Чтобы можно было осуществлять разнообразные оптические эффекты или, соответственно, защитные признаки, предпочтительно также, если слои лака содержат абсорбер ультрафиолетовых лучей и/или красящее средство.

В вариантах способа, которые включают в себя экспонированию сквозь первый декоративный слой, выяснилось, что предпочтительно выбирать толщину и материал первого декоративного слоя так, чтобы первый коэффициент пропускания был больше нуля. Толщина и материал первого декоративного слоя выбраны так, что электромагнитное излучение с подходящей для фотоактивации длиной волны частично проникает сквозь первый декоративный слой в первой зоне. То есть образованная первым декоративным слоем экспонирующая маска выполнена в первой зоне проницаемой для излучения.

Оказалось целесообразным, если толщина и материал первого декоративного слоя выбирается так, чтобы отношение между вторым и первым коэффициентом пропускания было равно или больше 2. Отношение между первым и вторым коэффициентом пропускания составляет предпочтительно примерно 1:2, также называется контрастом 1:2. Контраст 1:2 по меньшей мере на один порядок величины меньше, чем у традиционных масок. До сих пор не было принято использовать для экспонирования слоя резиста маску, которая имеет такой низкий контраст, как и описанный здесь предпочтительно применяемый первый декоративный слой. При экспонировании резиста с помощью традиционной маски (напр., хромовой маски) имеются непросвечивающие (ОП > 2) и совершенно прозрачные области; то есть маска имеет высокий контраст. Традиционная алюминиевая маска имеет характерный контраст 1:100, так как характерный коэффициент пропускания алюминиевого слоя составляет значения около 1%, соответственно оптической плотности (= ОП) 2,0. Коэффициент пропускания (= Т) и ОП связаны друг с другом следующим образом: Т=10^-ОП (т.е. ОП=0 соответствует Т=100%; ОП=2 соответствует Т=1%; ОП=3 соответствует Т=0,1%). В противоположность традиционным способам экспонирования слой резиста просвечивается не только через маску с низким контрастом (= декоративный слой), но и сквозь металлический слой.

Экспонируемая сквозь первые зоны область фотоактивируемого первого слоя резиста (меньший коэффициент пропускания) активируется предпочтительно в меньшей степени, чем экспонируемая сквозь вторые зоны область фотоактивируемого первого слоя резиста (больший коэффициент пропускания). Первый слой резиста может при этом временно наноситься на металлический слой во время изготовления многослойного элемента, где он служит для структурирования металлического слоя, или же также быть составной частью второго декоративного слоя или служить для структурирования второго декоративного слоя.

Оказалось целесообразным, если толщина и материал первого декоративного слоя выбирается так, чтобы электромагнитное излучение, измеренное после прохода через пакет слоев, состоящий из слоя подложки и декоративного слоя, в первой зоне имело коэффициент пропускания прибл. от 0% до 30%, предпочтительно прибл. от 1% до 15%, а во второй зоне - коэффициент пропускания прибл. от 60% до 100%, предпочтительно прибл. от 70% до 90%. Предпочтительно коэффициенты пропускания выбираются из этих диапазонов значений так, чтобы получился контраст 1:2.

По второму примеру осуществления первый слой резиста на этапе c) экспонируется с обращенной от слоя подложки стороны, при этом для экспонирования первого слоя резиста между первым слоем резиста и источником света, который используется для экспонирования, располагается маска. Эта маска, если смотреть перпендикулярно плоскости слоя подложки, имеет в первой области в указанных одной или нескольких первых зонах первый коэффициент пропускания, а в указанных одной или нескольких вторых зонах больший по сравнению с первым коэффициентом пропускания второй коэффициент пропускания, при этом упомянутые коэффициенты пропускания предпочтительно относятся к электромагнитному излучению с длиной волны, подходящей для фотоактивации первого слоя резиста.

Так как в этой стадии способа в многослойном элементе еще не выполнены никакие структуры, внешняя маска может использоваться без возможности возникновения проблем совмещения. Тогда созданные посредством внешней маски структуры в металлическом слое позднее сами действуют описанным образом в качестве маски для создания других структур с точным совмещением в первом и/или втором декоративном слое.

Оказалось целесообразным, если для образования фотоактивируемых слоев, в частности активированного посредством электромагнитного излучения первого и/или второго слоя резиста, применяется позитивный фоторезист, растворимость которого при активации путем экспонирования повышается, или применяется негативный фоторезист, растворимость которого при активации путем экспонирования понижается. Экспонированием называют селективное облучение фотоактивируемого слоя сквозь экспонирующую маску с целью локального изменения растворимости фотоактивируемого слоя путем фотохимической реакции. По виду фотохимически достижимого изменения растворимости различают следующие фотоактивируемые слои, которые могут быть выполнены в виде фотолаков: у первого типа фотоактивируемых слоев (напр., негативный лак; англ. «negative resist») его растворимость при экспонировании по сравнению с неэкспонированными зонами слоя понижается, например, потому что свет приводит к отверждению слоя; у второго типа фотоактивируемых слоев (напр., позитивный лак; англ. «positive resist») его растворимость при экспонировании по сравнению с неэкспонированными зонами слоя повышается, например, потому что свет приводит к разложению слоя.

Кроме того, оказалось целесообразным, если первый и/или второй слой резиста при применении позитивного фоторезиста во второй зоне или при применении негативного фоторезиста в первой зоне удаляется. Это может осуществляться с помощью растворителя, такого как щелочь или кислота. При применении позитивного фоторезиста сильнее экспонированная вторая область слоя резиста в указанных одной или нескольких вторых зонах имеет более высокую растворимость, чем менее экспонированная первая область слоя резиста в указанных одной или нескольких первых зонах. Поэтому растворитель растворяет материал слоя резиста (позитивный фоторезист), который расположен во второй зоне, быстрее и лучше, чем материал слоя резиста, который расположен в первой зоне. Таким образом, слой резиста может структурироваться путем применения растворителя, т.е. слой резиста во второй зоне удаляется, но в первой зоне сохраняется.

После этого первый слой резиста предпочтительно используется в качестве маски для травления для этапа травления, с помощью которого удаляются не покрытые первым слоем резиста области металлического слоя или один из металлических слоев. После этого первый слой резиста может сниматься стриппером, т.е. удаляться.

Предпочтительно, если для экспонирования первого и/или второго слоя резиста применяется ультрафиолетовое излучение, предпочтительно имеющее максимум излучения в диапазоне 365 нм. При этом пропускающие свойства используемого в качестве маски декоративного слоя в ультрафиолетовом диапазоне могут быть иными, чем в визуальном диапазоне. При этом структура маски не зависима от визуально воспринимаемого оптического эффекта, который должен достигаться с помощью декоративных слоев. К тому же в диапазоне 365 нм ПЭТ (= полиэтилентерефталат), который может являться существенной составной частью слоя подложки, прозрачен. Около этой длины волны находится максимум эмиссии ртутного излучателя высокого давления.

Возможно, чтобы первый и/или второй слой резиста имел толщину в диапазоне от 0,3 мкм до 0,7 мкм.

В другом предпочтительном варианте осуществления изобретения этап c) выполняется после этапа d), и на этапе c) металлический слой структурируется с использованием второго декоративного слоя в качестве маски, в частности путем нанесения травильного средства и удаления незащищенных маской областей металлического слоя. Потом на этапе e) первый декоративный слой структурируется с использованием металлического слоя в качестве маски, в частности путем нанесения растворителя и удаления не защищенных маской областей первого декоративного слоя.

Таким образом, второй декоративный слой имеет здесь, наряду с достигнутой путем окрашивания оптической функцией, дополнительную функцию маски, с помощью которой впоследствии осуществляется структурирование металлического слоя с точным совмещением. Таким образом, без использования внешних масок может достигаться безукоризненное соблюдение совмещения между вторым декоративным слоем и металлическим слоем, так что структуры двух слоев точно перекрываются. Одновременно этот вариант осуществления обходится без этапов экспонирования и проявления, так что получается особенно простое осуществления способа. После того, как металлический слой был структурирован с помощью второго декоративного слоя, металлический слой может, в свою очередь, использоваться в качестве маски для структурирования первого декоративного слоя, например, когда с помощью растворителя удаляются не закрытые металлическим слоем зоны первого декоративного слоя.

Также предпочтительно, если второй декоративный слой наносится путем печати в виде рисунка, при этом второй декоративный слой предусмотрен в первых зонах с третьей толщиной слоя, а во вторых зонах - с отличающейся от третьей толщины слоя четвертой толщиной слоя, при этом, в частности, четвертая толщина слоя равна нулю. Благодаря этому простым образом могут осуществляться как функция маски, так и желаемый оптический эффект второго декоративного слоя.

В другом предпочтительном варианте осуществления второй декоративный слой стоек по отношению к травильному средству, применяемому для структурирования металлического слоя, а также по отношению к растворителю, применяемому для структурирования второго декоративного слоя. При этом второй декоративный слой может служить как защитной маской для структурирования металлического слоя, так и для структурирования первого декоративного слоя.

Кроме того, предпочтительно, если второй декоративный слой включает в себя один или несколько цветных слоев, которые, в частности, наносятся способом печати.

В другом предпочтительном варианте осуществления первый слой резиста и/или не защищенные металлическим слоем области первого декоративного слоя удаляются с помощью растворителя. Один из предпочтительных вариантов осуществления предусматривает также практически полное удаление (снятие «стриппером») слоя резиста во время рабочего этапа структурирования металлического слоя или в отдельном, следующем за ним, более позднем рабочем этапе. При этом путем сокращения количества находящихся друг над другом слоев в многослойном элементе его стойкость и носкость может повышаться, так как минимизируются проблемы адгезии между граничащими слоями. Кроме того, оптический внешний вид многослойного элемента может улучшаться, так как после удаления слоя резиста, который, в частности, может быть окрашенным и/или не совсем прозрачным, а только просвечивающим или непросвечивающим, снова открываются находящиеся под ним области. Однако для специальных целей применения без особенно высоких требований к стойкости или оптическому внешнему виду можно также оставлять первый слой резиста на структурированном слое.

Оказалось целесообразным, если на этапе c) не защищенные первым слоем резиста и/или вторым декоративным слоем зоны металлического слоя удаляются с помощью травильного средства. Это может осуществляться с помощью травильного средства, такого как кислота или щелочь. Предпочтительно, если в отдельных областях удаление слоя резиста в данной области и открытых вследствие этого областей металлического слоя осуществляется на одном и том же этапе способа. Это может достигаться простым образом с помощью растворителя/травильного средства, такого как щелочь или кислота, который в состоянии удалять как слой резиста, в случае позитивного резиста в экспонированной области, в случае негативного резиста в неэкспонированной области, так и подлежащий структурированию слой, т.е воздействует на оба материала. При этом слой резиста должен быть выполнен так, чтобы он сопротивлялся растворителю или, соответственно, травильному средству, используемому для удаления слоя, подлежащего структурированию, при применении позитивного резиста в неэкспонированной области, при применении негативного резиста в экспонированной области, по меньшей мере, в течение достаточного времени, т.е. во время воздействия растворителя или, соответственно, травильного средства.

Оказалось целесообразным, если слой подложки на обращенной к первому декоративному слою стороне включает в себя по меньшей мере один функциональный слой, в частности отслаивающий слой и/или слой защитного лака. Это, в частности, предпочтительно при применении многослойной пленки в качестве переводной пленки, при котором функциональный слой позволяет осуществлять без затруднений отслоение слоя подложки от переносимого слоя, который включает в себя по меньшей мере один слой первого и второго декоративного слоя и металлический слой.

Предпочтительно также, если первый и/или второй декоративный слой включают в себя слой реплицирующего лака, в котором сформирован поверхностный рельеф, и/или если в обращенной к первому декоративному слою поверхности слоя подложки сформирован поверхностный рельеф.

Предпочтительно поверхностный рельеф включает в себя дифракционную структуру, предпочтительно имеющую пространственную частоту от 200 до 2000 линий/мм, в частности голограмму, кинеграмму®, линейную решетку или крестообразную решетку, дифракционную структуру нулевого порядка, в частности имеющую пространственную частоту больше 2000 линий/мм, блестящую решетку, рефракционную структуру, в частности микролинзовое поле или ретро-отражающую структуру, оптическую линзу, структуру с поверхностью свободной формы и/или матовую структуру, в частности изотропную или анизотропную матовую структуру. Матовой структурой называется структура, обладающая рассеивающими свет свойствами, которая предпочтительно располагает стохастическим матовым профилем поверхности. Макроструктуры имеют предпочтительно глубину рельефа (англ. Peak-to-Valley, P-V, отношение максимума к минимуму) от 100 нм до 5000 нм, более предпочтительно от 200 нм до 2000 нм. Матовые структуры имеют предпочтительно шероховатость поверхности (Ra) от 50 нм до 2000 нм, более предпочтительно от 100 нм до 1000 нм. Эффект матовости может быть либо изотропным, т.е. одинаковым при всех азимутальных углах, либо анизотропным, т.е. изменяющимся при разных азимутальных углах.

Под реплицирующим слоем обычно понимается слой, изготавливаемый с рельефной структурой поверхности. Сюда относятся, например, органические слои, такие как полимерные или лаковые слои, или неорганические слои, такие как неорганические полимеры (напр., силиконы), полупроводниковые слои, металлические слои и т.д., а также их комбинации. Предпочтительно, чтобы реплицирующий слой был выполнен в виде слоя реплицирующего лака. Для выполнения рельефной структуры может наноситься отверждаемый излучением или термоотверждаемый (англ. thermosetting, термореактивный) реплицирующий слой или термопластичный слой реплицирующего лака, формироваться рельеф в реплицирующем слое и реплицирующий слой при необходимости отверждаться с вытисненным в нем рельефом.

Также предпочтительно, если после структурирования металлического слоя наносится выравнивающий слой, который, в частности, ложится на обращенные от слоя подложки области поверхности первого декоративного слоя, второго декоративного слоя и/или слоя подложки.

Предпочтительно, если после структурирования металлического слоя металлический слой и первый слой резиста удален в первой или второй зоне и имеется в другой области, или, соответственно, при соответствующих вариантах способа имеется в зонах, защищенных вторым слоем резиста, а в остальной области удален. Путем нанесения выравнивающего слоя могут по меньшей мере частично заполняться углубленные области/углубления металлического слоя, первого декоративного слоя и/или второго декоративного слоя. Возможно, чтобы путем нанесения выравнивающего слоя также заполнялись углубленные области/углубления первого и второго слоя резиста. Выравнивающий слой может включать в себя один или несколько разных материалов слоя. Выравнивающий слой может быть выполнен в виде защитного и/или клейкого и/или декоративного слоя.

Возможно, чтобы на обращенную от слоя подложки сторону выравнивающего слоя наносился адгезионный слой (клейкий слой), который сам может быть также выполнен многослойным. При этом многослойный элемент, выполненный в виде ламинирующей пленки или переводной пленки, может соединяться с граничащим с адгезионным слоем целевым субстратом, напр., в способе горячего тиснения или IMD (англ. IMD In-Mould Decoration, декорирование внутри формы). Целевой субстрат может представлять собой, например, бумагу, картон, текстиль или другой волокнистый материал, или полимер или композитный материал, например, из бумаги, картона, текстиля и полимера и при этом быть гибким или преимущественно жестким.

Предпочтительно на обращенной от слоя подложки стороне многослойного элемента на многослойный элемент наносится защитный лак. Это защищает многослойный элемент от влияний окружающей среды и механических манипуляций.

Также предпочтительно, если первый и/или второй декоративный слой обесцвечивается путем экспонирования. При этом приводятся в реакцию возможно, еще имеющиеся фотореактивные вещества в неэкспонированных зонах многослойного элемента, и предотвращается позднейшее неконтролируемое обесцвечивание. Таким образом получается многослойный элемент, имеющий особенно устойчивый цвет.

Предпочтительно многослойный элемент включает в себя, в частности, сплошной слой подложки. Этот слой подложки должен быть проницаемым для излучения, используемого при данном этапе экспонирования. В случае следующих материалов подложки возможно также применение электромагнитного излучения с длиной волны в диапазоне от 254 до 314 нм: олефиновый материал подложки, такой как ПП (=полипропилен) или ПЭ (=полиэтилен), материал подложки на основе ПВХ (поливинилхлорид) и ПВХ-сополимера, материал подложки на основе поливинилового спирта и поливинилацетата, полиэфирная подложка на основе алифатических сырьевых материалов.

Возможно, чтобы слой подложки включал в себя одно- или многослойную пленку-подложку. Хоро