Техническая ^^ библиотека

Техническая ^^ библиотека

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАН ИЕ

ИЗОБ ЕтЕНИЯ

К ПАТЕНТУ

275885

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимый от патента №

Кл. 15Ь, 1/04

15b, 4/02

48b, 14

МПК В 41с 1/10

В 41с 1/18

С 23с 7/00

УДК 655.225:686.4 (088.8) Заявлено 08.VIII.1968 (№ 1261104/28-12)

Приоритет 11Х111.1967, ¹ 659896, США

Комитет ло делам иаобретений к открытий ори Совете Министров

СССР

Опубликовано ОЗ.VII.1970. Ьюллетень ¹ 22

Дата опубликования описания 19.Х.1970

Авторы изобретения

Иностранцы МЛА1:ЮМ < М

Джордж Роберт Кэшу и Джеймс Вильям Джордж (Соединенные Штаты Америки) Иностранная фирма

«Вестерн Электрик Компани Инкорпорейтед» (Соединенные Штаты Америки) 1Д а;:ТЕИТИО- 1г1

ЯХИМЧЕС1тАЯ

QIMIOTKILE

Заявитель

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ОСНОВЫ С МЕТАЛЛИЧЕСКИМ

ПОКРЪ|ТИЕМ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОЛИТОГРАФСКИХ

МАСОК

Известен способ получения основы с металлическим покрытием для изготовления, например, фотолитографских масок, заключающийся в том, что на поверхность предварительно обезжиренной и очищенной основы, в качестве которой используют стекло, методом вакуумного напыления наносят слой металла, в качестве которого используют хром.

Предлагаемый способ повышает прочность масок и увеличивает точность и четкость получаемых на ни«изображений.

Это достигается тем, что после нанесения о слоя металла толщиной от 400 до 600А удаляют слабо сцепленные с основой металлические частицы струей сжатого возду«а и наращивают путем напыления в вакууме второй слой того же металла, доводя общую толщину покрытия до 800 †12 А.

Способ состоит в следующем.

Пластину из натриевого счекла подвергают очистке и обезжириваншо путем кипячения в моющем средстве, после чего производят дополнительное кипячение пластины в перекиси водорода, промывают в деионизованной воде и обдувают очищенным воздухом. Оставшуюся на стекле влагу удаляют путем просушивания пластины в сушильной печи при температуре около 120 С в течение 30 мин.

Затем пластину помещают в устройство для вакуумного напыления металлов, где наносят слой хрома толщиной примерно 400— о

600 А. Требуемая толщина покрытия была до5 стигнута при выдерживании пластины в пара.; расплавленного «рома в течение 13 сек. После нанесения слоя «рома удаляют частицы металла, имеющие слабое сцепление с основой, путем помещения пластины под направ10 лепно перемещаемую струю сжатого воздуха, подаваемого под давлением 4,22 кес/сгк- После этого пластину вновь помещают в устройство для вакуумного напыления и выдерживают в парах расплавленного «рома в течение

13 сек до получения однородного беспористого покрытия толщиной около 1000 А.

Полученные при укязянны«режима«покрытия используют для получения фотолитограф20 ских масок. Эти маски имеют минимально допустимое количество пор па единицу повер«ности металла, которое составляет одну пору ,а каждые 1,3 стц- повер«ности металла, при этом срок и«службы превышает в 5 — 50 раз

25 срок службы обычных эмульсионны«масок, я минимальная площадь изображения, четко передаваемая маской, составляет 0,00005 с.и - .

Приведенный пример не исчерпывает всех вариантов предложенного способа получения

З0 покрытий. Например, оптимальная толщина

275885

Предмет изобретения

Составитель М. Beëîðóñåö Корректор Е. М. Иоффе

Редактор В. Ф. Смирягина

Заказ 3018/18 Тираж 480 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская паб., д. 4(5

Типография, пр. Сапунова, 2 хромового покрытия в зависимости от способа дальнейшей обработки пластины после наращивания второго хромового слоя может колео баться в пределах от 800 до 1200 A.

Способ получения основы с металлическим покрытием для изготовления фотолитографских масок, заключающийся в том, что на поверхность предварительно обезжиренной и очищенной основы, в качестве которой используют стекло,,методом вакуумного напыления наносят слой металла, в качестве которого используют хром, отличигои1ийся тем, что, с. целью повышения прочности масок и увели5 чения точности и четкости получаемых на них изображений, после нанесения слоя металла о толщиной от 400 до 600 А удаляют слабо сцепленные с основой металлические частицы струей сжатого воздуха и наращивают путем напыления в вакууме второй слой того же металла, доводя общую толщину покрытия до

800 †12 А.