Устройство для подачи сыпучих материалов установкам плазменного напыления

Устройство для подачи сыпучих материалов установкам плазменного напыления

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

©Д ИКАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДН ЕЛЬСТВУ

All(OS G0BBBBTT(I(MMX

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №вЂ”

Заявлено ЗО.XII,1968 (№ 1293817122-1) Кл. 48Ь, 7/00 с присоединением заявки ¹â€”

Комитет по делам иаоеретеиий и открытий при Совете Мииистрое

СССР

Приоритет—

Оп1оликоваио 05.V111.1970. Б!Оллстепь № 25

ЧПК С 23с 7(00

УД К 621.793.06 (088.8) Дата опубликовашгя описания 27.XI. 1970 каа

4 II/

АВТОР (130(> P 0 T0 I l (I SI

И. M. Вайстух

10 "

И", i с

Ьь- 1ИОТЕКА

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОДАЧИ СЫПУЧИХ МАТЕРИАЛОВ

УСТАНОВКАМ ПЛАЗМЕНИОГО НАПЫЛЕНИЯ

Предмет изобретен ия

Изобретение относится и области плазменного нанесения покрытия.

Известно устройство для подачи сыпучих материалов к установкам плазменного напыления, содержащее герметичный корпус с вы«одным каналом и узел дозирования, выполненный в виде регулировочной иглы с центральным каналом для подачи газа.

Предложенное устройство отличается от известного тем, что в регулировочной игле на расстоянии от ее IIII>KI(его конца равным сс

«оду имеются отверстия, расположенные в радиал!.иом направлении. Это обеспечивает раьиомсрность подачи материала к установке.

I I3 IcpTc>Kc изображено предложенное устройство и разрезы по Л вЂ” 1 и Ь вЂ” Б.

Устройство содержит герметичный корпус 1 с выходным каналом 2 и узел дозироваиия, выполненный в виде регулировочной иглы 8 с центральным каналом 4 для подачи газа. В игле, 3 иа расстоянии от ее нижнего конца равным ее коду имеются отверстия 5, располо>кениые в радиальном направлении.

Перед загрузкой регулировочиая гайка 6 ставится в положение «открыто». Возвратная пружина 7 поднимает регулировочну(о иглу, которая OTKph(BBeT кана (2. 33Ch(IIK3 IIOpOIIIK3 через выходной канал 8 проис.;од(п после поворота устройства на 180 в вертикальной плоскости. После этого гайка 6 ставится в положение «закрыто», и регулировочная игла закрывает канал 2. Затем устройство повора5 чивают в рабочее положен!(с выходным каналом вниз. На регулировочную иглу надевают шланг 8 для подвода газа, а на выходной канал — шланг 9 для транспортировкll порошка. После включения подачи газа последний, 10 пройдя по каналу 4 и через отверстия 5 с болыио!1 cl opocTI 10, сжижаст Олизлежащис и кап Злу oo hp:;(hi пороип а, Оторый

«ытскает из канала 2 подобно жидкости, пo.

11313я в плазменную горелку.

1;) Устройство для подачи сыпучих материалов K установках(плазме((1101 0 и апь! лен и(1> c;)держащее герметичный корпус с Выходным каналом и узел дозироваиич, выполненный Il виде регулировочной иглы с центральным каналом тл(1 подачи газа, от.!(((аю(ц(тся тем, что, с целью обеспечения равномерности подачи материала, в регулировочиой игле иа расстоянии от нижнего конца равным сс коду имеются отверстия, p3c(10;Io>(lcHk(h(p в радиальном направлении.

278344

ООПП..лд+ -и

8 положРиии „Открыто"

Сосзавитсль If. Резник

Тс рсд 3, II. Тараненко

Рс.»автор Чижова

Корректор Т. А, Умйнег1

Загорская типография

Заказ 4977 Тираж 480 экз. Подписное

ЦI-11111П11 Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Ми пиетров ССС!

Москва, Ж-35, Раушская иаб., д. 4 5