Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

< ц ЗООО79

Союз Советских

Социааистичец<ии

Республик (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 02.06.69 (21) 1334566/22-1 с присоединением заявки № (32) Приоритет

Опубликовано 05.01.75. Бюллетень № 1

Дата опубликования описания 25.03.75 (51) М. Кл. С 23с 13,08

Государственный комитет

Совета Министров СССР оо делам изобретений и открытий (53) УДК 621.793.14. .002.52 (088.8) (72) Авторы изобретения

М, М. Никитин, Г. Б. Вахминцев, 1О, Н. Токаев, А. В. Петров, В. А. Ермолов, М. Х. Шоршоров, Г. Н. Клебанов, А. Н. Чадов и Н. Н. Рыкалин (71) Заявитель

- - 1(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ1

В ВАКУУМЕ,1

Известно устройство для нанесения покрытий IB вакууме, содержащее высоковольтный источник .и,вакуумную камеру с расположенными внутри нее кольцевым термоэлектронным,катодом, системой электростатической фокусировки и испарителем.

Предложенное устройство отличается нал ичием до|полнительного овсточника IIIèòàíèÿ,,ïîäключен ного через систему коммутации к аноду, кольцевому термоэлектронно му катоду и 1р высоковольтному источнику, и уста новленного между катодом и испарителем постоянного электромагнита, ось которого совмещена с оптической осью системы электростатической фокусировки. 15

Это повышает производительность и стабилизирует процесс испарения.

На чертеже изображено предлагаемое устройство, общий вид.

Оно состоит из,высоковольтного источи яка 2р

1 и вакуумной камеры 2 с расположенными внутри нее колыцевьвм термоэлектронным,катодом 3, системой электростатической фокусировки 4 и иола!рителем 5, находящимися нод потенциало|м анода, дополнительного источн|и- 25 ка 6 питания, подключенного через систему 7 коммутации к аноду, кольцевому термоэлектронному катоду 3 и высоковольтному источнику 1, и установленного между, катодом 3 и высоковольтны м источником 1 постоянного электромапнита 8, ось которого совмещена с оптической осью системы электростатической ф окуси р о вки.

При подаче ускоряющего потенциала от высоковольтного источника между катодом 3 и испарителем 5 материала создается электрическое поле,,под действием которого электростатически фокусируемый поток электронов бомбардирует по верхность материала пспарнтеля 5, в результате чего он нагревается и испаряется. Испаряемый поток 9 состоит из нейтральных атомов, лоложительHblx ионов и вторичных электронов. Помещение катода 3 в непосредственной близости от испаряемого материала облегчает нейтрализацию отрицательного пространственного заряда у катода положительными ионами. В межэлектродHoIM пространстве создаются условия для Воз никновения несамостоятелыногo электрического разряда в парах осаждаемого материала.

С помощью системы 7 ком мутации высоковольтный источник 1 отключается и включается дополнительный источник 6 питания.

Если плотность пара в межэлектродном промежутке iB .процессе работы падает, то источник 6 отключается и включается псточник 1, 300070

П,редмет изобретения

Составитель И. Резник

Редактор Н. Караванская Техред А. Камышникова Корректор И. Позняковская

Заказ 900/16 Изд. № 376 Тираж 980 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Мсква, Я-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Разряд характеризуется относительно большим анодным током и малым падением напряжения на участке катод — испаряемый материал. Напри мер, при испарении меди из вольфрамового тигля со скоростью 1,0 г/мин.

° см ток достигал 2 а, а напряжение 400 в.

Продолыное силовое поле, постоянного электромагнита 8 обжимает столб разряда и выталкивает ионизованный пар по на правлению к подложечке 10. В электрическо м поле электрода 11 поток дополнительно фокусируется и ускоренный в продолыно м поле магнита 12 осаждается на подложку 10.

Режим испарения устанавливается по току в датчикe 13 при за крытой заслонке 14. Установи в требуемую скорость испарения, заслонка открывается и производится осаждение покрытий.

Устройство для нанесения по крытий ia вакууме, содержащее высоковольтный источник

5 и вакуумную камеру с расположенными внутри нее кольцевым термоэлектрон ным катодом, системой электростатической фокусировки и испарителем, находящимся под потенциалом анода, о.тл и ч а ю щ ее с я тем, что, с целью

10 повышения производительности и стабил изации про цесса испарения, оно снабжено дополнительным источником питания, под ключенным через систему ко ммутаци и IK аноду, кольцевому термоэлектронному катоду и высоко15 вольтно му источнику, и установленны м между катодо м и иопарителем постоянHbllM электромапнитом, ось которого совмещена с оптической осью системы электростатической фокуси р овк и.