Способ сушки отделочных покрытий
Иллюстрации
Показать всеРеферат
ОПИСА
ИЗОБРЕТЕНИЯ
3015 ОО
Союз Советскнк
Социалистические
Республне
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Зависимое от авт. свидетельства №
Заявлено 01 Ill.1969 (№ 1315029/29-33) с присоединением заявки №
Приоритет
Опубликовано 21 IV.1971. Бюллетень № 14
Дата опубликования описания 16.VI,1971
МПК F 26Ь 1/00
Комитет по делам изобретений и открьпий при Совете Министров
СССР
УДК 667.645,32(088.8) Авторы изобретения
А. К. Белик, А. М. Бойцов, М. М. Ноткин, В. И. Терещенко и 3. А. Черняков
Заявитель
СПОСОБ СУШКИ ОТДЕЛОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ
Известен способ сушки отделочных покрытий из парафиносодержащих и беспарафиновых материалов, например полиэфирного лака, лампами инфракрасного излучения.
Однако известный способ имеет ряд недостатков, а именно: длительный цикл отвердения, повышенный расход электроэнергии, нагрев лакового слоя, трудность регулирования энергетической освещенности и спектрального состава лучевого потока.
Для сокращения технологического цикла предлагается способ, по которому сушку покрытий производят облучением ртутными люминесцентными лампами типа ЛЭ-1, максимум излучения которых лежит в области
310 — 320 нм. Лампу включают в электрическую сеть переменного тока напряжением
220 в частотой 50 ги.
Технологический процесс происходит в следующей последовательности. На подготовленную по 10-ому классу чистоты поверхности под ложку наносят рабочую смесь полиэфирного материала. После этого образец помещают под люминесцентные лампы. Время отверждения покрытия под лампами 3 — 10 мин, причем отверждение происходит при 18 — 23 С.
Сразу после отверждения покрытие подвергается облагораживанию.
Предложенный способ позволяет сократить технологический цикл с 2 час до 10 — 20 мин, значительно уменьшить расход электроэнергии (с 2,9 квт/лт2 до 250 — 300 втlлт2), исклю10 чить вредное влияние температурного нагрева, упростить технологический процесс I . улучшить условия труда в целом.
Предмет изобретения
Способ сушки отделочных покрытий из парафиносодержащих и беспарафиновых полиэфирных материалов путем облучения покрытий лампами, отличающийся тем, что, с целью
20 сокращения технологического цикла, покрытие облучают ртутными люминесцентными лампами, максимум излучения которых лежит в области 310 †3 нм.