Фотоэлектрическое следящее устройство

Фотоэлектрическое следящее устройство

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

О П И С А Н И Е 306446

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Са(аз Сааетсииа

Са((иалиатичваяиа

Реапубляе

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Завис; мос от авт. сви стсльсTBa ¹вЂ”

Заявлено 09.1.1970 (№ 1393728/18-24) Ч11 х 6 0511 11,50 с пр((сосдш(сш см заявки ¹ ——

Нетаятет ла аелеа яааеретеиий и открытий аря ревете Миияетеее

МОР

Приоритет—

ОпчбликoBBIIO 11.V1.1971. Ьюллетеиь ¹ 1! ДК 621.383-526 (088.8) Дата опуоликования с писания 311 11!.1971

Лвторы изобретения

E. А. чумаков и Ю. Г. Кокорин

Заявитель

ФОТОЗЛЕКТРИЧЕСКОЕ СЛЕДЯЩЕЕ УСТРОЙСТВО

11зобрстсние предназначено для прецизионной ориентации микродета Icl(при производстве полупроводниковых приборов в электронной технике.

l1çãåñòíà электрооптическая следящая система для установки деталей при производстве полупроводниковых приборов, содержащая опт((ческую систему с осветителем, четырех— щслсвую диафрагму, четыре (ротоприемника, электронно-логическое устройство, трехк;iнальпый электронный усилитель, трехкоординатный электропривод и микроманипулягор для движения по осям Х и Y.

Злектрооптическая фотоследящая система, использующая для определения координа";— ного рассогласования дифференциальное фотомстрирование разделенных щелевой диафрагмой частей оптического изображен (я, и(ест пон. (жениую при делении оптической информации точность наведения по линейным и угловым координатам, ограниченную размером щелей зону фотосле?кения, и чувствительна к неравномерности освещенности ориентируемого объекта и прилегающего фона, Цель изобретения — повышение точности и скорости автоматического ориентирова((ия относительно двух базовых масок микроэл"ментов, например кристаллов интегральных схем.

Сущность изобретения заключается в том, 1 то B 3 R k хл ". с 10ч (I)QTooIITI(чсском 1 01зрел?1торе в: оде одного из двух оптических лучей

::еред двумя фотопр(:cìíiiêàìè установле.(о светодел(:тельное зеркало, расположенное под углом, напримср, 15, разделительная грань свстоделитсльного зеркала установлена параллельно ос:i развертки оптического изображ -HHH Свето (слитсльное зеркало обеспечи1;ает разделен(:c icB ëó двумя фотоприсмни1i) ками светового пу (ка, модулированного в cooTBcTcTBlIll с координатным рассогласованием и взаимной корреляцией между оптическим изображением и рельефом негативной маски.

Перед зеркальным вибратором установлены

)5 шарнирно закрепленная плоскопараллельная

1(л?lстин?l 11 призм(1 Доне, которая располо?(е на в ходе второго луча и ооеспсчиваст поворот светового пучка и оптического изооражепия в плоскости базовой маски на 90 .

20 На чертеже показана общая схем(1 фотоэлектрическогоо следящего устройства.

Фотоэлектр:(чсское устройство содержит оптическую систему, включающую осветите,il

/, с конденсагором. ооъектив 2, бинокуляр25 ную приставку 8, оптико-механический ск:1пирующий узсл. ькл(о 1ающий зеркальный;;;lбратор 4; двухлучевой фотоопти Icc:(IIé коррелятор, включающий маски 5. 6, конденсаторы

7, 8 и фотоприсмник;1 9 — ll; окуляры /2 и /3;

3() схс i i IIP ?IB. Icll(1,1, в(, l к) 11110 и(м lo элскт1тои306446

ВО

° ):!

IÎ иые усилители 14 — 16, исполнительное устройство, Включающее электродвигатели 17 — 19 и яикроманипулятор 20, на котором установлен

<ристалл 21.

Для одновременной ориентации кристаллов !..oëóïðonoäíèêonû приборов по двум линейки!м и одной угловой координате и повыше1ия точности устройства в двухлучевом фотзОптичсском корреляторе в ходе одного из лу:!п! перед двумя фотоприем<никами устаиовлс. о свстоделптельHoc зеркало 22, расположеи-! ое под углом 45 к оптической оси, проходицей через центр маски 5. Раздслитсл >;i:III грянь зеркала параллельíH оси развср !<11 . итичсского изобра жснпя.

Кроз!с ТОГО, В двухкана Ibl!Oй Оптической системс перед вибратором 4 в ходе лу 111, Гроходящего через маску 5, установлена ш:.!р;.!pilo-закрепленная илоскопараллсльиая пл,1.:";и!а 23, а в ходе луча, проходящего !срез .: !ску 6, расположена поворотная пр;!зма

,Овс 24, сВетоотража!Оща11 ГpHIII> ко l opo!I !IHваллельна оптической оси.

Световые лучи, сформированные осветигс:=и 1, оба>сктивом 2 и бинокуляр ой пристав.;и, 1, проходят через плоскопараллельную

-3",астнну 23 .I призму Дове 24, отра>ка!Отся

n!6ðHòîðH 4 и формируются в плоскости оК 5 п 6 i3 дв Взаимно rloncpliv TI>10 IIB 90

3 C il 1 Cil llhi (ОПТ И 1еС 1<ИС T1306p B il !1.!,ËËH 2!. ! Ipll скаиироваи;!и вибраторов 4 оптических ,ображсипй кристалла относительно соот::.: С! !3ЕИ!1О О Р ИЕIITIIPO!3HIII! I>1X В ПЛОСКОСТИ i!С-- !из!1ых базовых масок 5 и 6, световые пучпроходящис через их рельефы, прострз 30:!!!о фп,.1ьтруются В соответствии с их оп-. c!

Предложенное фотоэлектрическое слсд;.— щсс устройство, являющееся трехмерной экстремальной самонастраивающейся с!Icòåмой корреляционного типа с гармоническим модулирующпм воздействием, может быть использовано для автоматизированной прецизионной ориентации микродсталей, пластин и кристаллов по контурному или нанесенному методом фотолитографии рисунку при сб 3рочных и электрокоитрольных опера11иях В

=лскгронной технике.

IIp ед м c T:i 3oáp ет c ii и я

Фотоэлектрическое следящее устройство, содержащее в двухканальной оптической системс зеркальный вибратор, двухлучевой фотооптический коррелятор, включающий окуляры маски, конденсаторы и фотопр;!емни!

306446

"Ы

Состазитсль И. Н. Горе.зова

Рсдак ор Л. К. Утехина T, i 1i и Т. П, Курилко Кор:; к.nð Т. А. Китаева

3акаа 4547 1 13 i. 4 815 1иоагк 473 Подина:! ii

ПНИИПИ комитета по деъам изобретений и открытий при Совете Мигнистров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Областная типография Костромского управления по печати