Электрофотографический материал

Электрофотографический материал

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

3l2232

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 04.!.1970 (№ 1390639/23-4) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 19Х111.1971. Бюллетень № 25

Дата опубликования описания 12.Х.1971

МПК G 03g 5/06

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Мииистпов

СССР

УДК 772.93 96:771.531..37(088.8) Авторы изобретения

Л. И. Нюнько, И.-О. П. Вапшинскайте, Г, М. Дейч, А. И. Уидзеиас, И.-Д. Б. Сидаравичус и М. С. Бородкина

Заявитель

ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ

Изобретение касается электрофотографического материала для термопластической записи информации.

Известен электрофотографический материал, состоящий из подложки и фотополупро- 5 водникового слоя, включающего органический полупроводник — поли - N - винилкарбазол (ПВК) и полимерное связующее.

Известен также фототермопластический материал, состоящий из подложки и регистриру- 10 ющего слоя из термопластичного фотопроводящего полимера — сополимера фенилацетилена со стиролом и связующего — теломера дивинила со стиролом с ксантогенными концевыми группами. 15

Электрофотографический материал на основе поли-N-винилкарбазола имеет высокую фоточувствительность, но его нельзя использовать для фототермопластической записи, так как температура стеклования ПВК высока 20 (150 — 200 С) .

Большую роль в термопластических материалах играет термопластическая среда.

К слою, обладающему термопластичностью, предъявляются следующие требования: темпе- 25 ратура размягчения слоя должна находиться в пределах 60 †1 С, а вязкость при этой температуре не должна превышать 5.19—

5 10 спз, слой не должен быть хру пким, обладать хладотекучестью, но должен обла- з0 дать хорошей адгезией к токопроводящим подложкам и малой электропроводностью.

В качестве фоточувствительной добавки в термопластический слой вводят лейкооснования красителей (например, малахитового зеленого), которые впоследствии окисля ются в краситель. Фоточувствительность таких слоев, как правило, черезвычайно низка. Концентрация фотопроводящего вещества обычно бывает невысокой (-20",о ), чтобы не сильно изменились термопластические и электрические свойства. Кроме лейкооснований красителей известно применение других органических фотополупроводников, например фталоцианина меди, феназина и др.

Непрозрачные фототермопластические слои получают путем диспергирования нерастворимых фотополупроводников в термопластической среде. При этом фотополупроводник должен быть мелкодисперсным (например, сернистый кадмий, окись цинка и др.), Основной недостаток этих слоев — непрозрачность, негомогенность и более сложная технология изготовления.

Цель изобретения — получение высокочувствительного, прозрачного и однородного фотополупроводникового слоя.

Эта цель достигается тем, что в качестве полимерного связующего применен теломер

312232

Предмет изобретения

ЗО

-НС вЂ” СН2 СН2-СН = СН вЂ” CHg""

Составитель Э. Рамзова

Редактор 3. Н. Горбунова Техред Е. Борисова Корректор О. С. Зайцева

Заказ 2761/12 Изд. Мв 1141 Тираж 473 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр.

Сапунова, 2 стирола с дивинилом с ксантогенными концевыми группами.

В этом электрофотографическом материале, пригодном для фотопластической записи, применяется однородная смесь двух полимеров— одного с высокой фоточувствительностью, сопротивлением и хорошими пленкообразующими свойствами, но с высокой температурой размягчения, другого с низкой температурой размягчения и высоким сопротивлением.

Применение в качестве фотополупроводника органического полимера позволяет ввести значительно большее количество фотополупроводника в термопластический полимер без потери эластичности и прозрачности (при их совместимости). Тем самым повышается фоточувствительность.

Проведенные подробные исследования различных видов органических полимерных фотополупроводников и термопластических полимеров позволяют сделать вывод, что наилучшим для изготовления слоя является состав, состоящий из 7 вес. ч. поли-N-винилкарбазола (ПВК) с соответствующими добавками (фотополупроводник) и 3 вес. ч. теломера стирола и дивинила с ксантогенными концевыми группами (ТСД), также с соответствующими добавками. Удовлетворительными свойствами обладают также составы, содержащие 5, 6, 8, а иногда и 9 вес. ч. ПВК. Смесь ПВК с ТСД позволяет получить материал, удовлетворяющий всем требованиям, предъявляемым к фотопластическим материалам, Температура размятчения (стеклования) 60 — 70 С, удельное объемное сопротивление при температуре размягчения не ниже 10« — 101а ом см, светочувствительность не ниже чистого ПВК.

Теломер стирола с дивинилом с ксантогенными концевыми группами имеет следующую формулу:

С целью улучшения пленки образующих свойств с ТСД добавляют полидифенилсило5

4 ксан 5 — 20 g или любой другой пластификатор.

Для повышения фоточувствительности полученного таким образом фототермопластического слоя может быть использован или метод оптической сенсибилизации с помощью красителей, или введение электроноакцепторных добавок, приводящих к образованию комплексов с переносом заряда (КПЗ) и дающих дополнительную полосу поглощения.

Пример. Измерения показывают, что оптимальная толщина слоя 5 — 25 мк.

Фоточувствительность такой системы при оптимальных режимах составляет -500 лк сек при освещении от фотолампы мощностью

100 вт. Под фоточувствительностью понимается экспозиция, необходимая для уменьшения предельного потенциала на 50 /о ) . Предельный потенциал слоя при толщине 10 мк находится в пределах 1000 — 1500 в, Указанная величина фоточувствительности значительно превышает фоточувствительность известных органических слоев для фотопластической записи на основе сополимера фенилацетилена со стиролом.

1. Электрофотографический материал для термопластической записи, состоящий из подложки и фотополупроводникового слоя, включающего органический полупроводник — полиN-винилкарбазол и полимерное связующее, отличающийся тем, что, с целью получения высокочувствительного, прозрачного и однородното фотополупроводникового слоя, в качестве полимерного связующего применен теломер стирола с дивинилом с ксантогенными концевыми труппами.

2. Материал по п. 1, отличающийся тем, что, с целью улучшения пленкообразующих свойств, в фотополупроводниковый слой введен пластификатор, например полидифенилсилоксан, 3. Материал по п. 1, отличающийся тем, что, с целью повышения фоточувствительности материала, в фотополупроводниковый слой введен оптический сенсибилизатор или электроноакцепторная добавка.