Электрохимический способ осаждения ванадиевыхпокрытий
Иллюстрации
Показать всеРеферат
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
3I390I
Союз Советских
Социалистических
Республик
Зависимое от авт. свидетельства ¹
Заявлено 28Л 11.1969 (№ 1352606!22-1) с присоединением заявки №
Приоритет
Опубликовано 07.1Х.1971. Бюллетень ¹ 27
Дата опубликования описания 10.XI.1971
МПК С 23b 5/30
Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров
СССР
УДК 621.357.13:669.292 (088.8) Авторы изобретения
Л. Е. Ивановский, В. А. Котелевский, Б. Я. Раскин и Ю. У. Самсон
Заявитель
ЗЛЕКТРОХИМИЧЕСКИЙ СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ ВАНАДИЕВЫХ
ПОКРЫТИЙ
Так, например, из расплава, Bec. %:
Хлористый литий
Хлористый магний
Хлористый натрий
Бромистый калий
Дибромид ванадия содержащего, 12 — 16
17 — 21
25 — 30
30 — 35
6 — 8
Предмет изобретения
Изобретение относится к области получения электрохимических покрытий, в частности к области осаждения ванадия из расплава.
Известен способ электрохимического осаждения ванадия из расплава, содержащего хлористые соли щелочных металлов и ванадия.
Однако расплав для получения ванадиевых покрытий имеет высокую температуру, что оказывает влияние на качество получаемого покрытия.
Предложенный способ отличается от известного тем, что с целью улучшения качества покрытия и снижения температуры расплава в электролит вводят галогениды щелочноземельных металлов, а в качестве соли ванадия 5 — 9 вес. % дибромида ванадия. Процесс ведут при температуре 360 — 600 С, катодной плотности тока 0,001 — 0,5 а/слт . Процесс нанесения ванадиевых покрытий осуществляют в герметическом электролизере в среде очищенного аргона. В качестве катодов используют отшлифованные металлические стержни диаметром 3 — 10 мм, анодов — ванадий чистотой 96 †99% . Исходные соли предварительно переплавляют, тщательно обезвоживают и смешивают в пропорциях, необходимых для получения соответствующего электролита. при температуре 410 †6 С, катодной плот10 ности тока 0,001 — 0,5 а/см получают ванадиевое покрытие, толщиной 2 — 3 мли
По предложенному способу получают беспористые плотные осадки ванадия, толщиной
0,5 — 3 лш в течение 30 лтин.
Электрохимический способ осаждения ванадиевых покрытий из расплава, содержащего
20 галогениды щелочных металлов и соль ванадия, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества покрытия и снижения температуры расплава, в электролит вводят галогениды щелочноземельных металлов, а в качестве
25 соли ванадия вводят 5 — 9 вес. % дибромида ванадия, и процесс ведут при 360 — 600 С, катодной плотности тока 0,001 — 0,5 а, слР.