Способ обработки слитка

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

1 3 I H T I4 o - t .ã ф ) 1,,-,н

ОП ИСАН ИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

И @МОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советскии

Социапмстическии

Республик (11) 1 ®з .3 (6ЦДоаолиятельное к авт. санд-ву— (22) ЗаивлЕио29.06.70 (21) 144539 1/22-02 е присоединением заявки № (23) Приоритет (43) Опубликоваяо05.12.77Зюллетень № 45 (45) Дата опубликовання описания 25.12.77 (51) М. Кл.

С 21 С 5/56

В 22 Р 19/00

Госудерстееииый иомитет

Сооете ееииистров СССР ио делом изобретений и открытиЯ (53) УДК621.791. .9.55 (088 8 ) Б. E. Патон, В. И. Лакомский, Г. Ф. Торхов, В,. Г. Капельиицкий и К. П. Баканов (721 Авторы изобретения

Ордена Ленина и ордена Трудового Красного Знамени институт электросварки им. E. О. Патона (T l) Заявитель (54) СПОСОБ ОБРАБОТКИ СЛИТКА

Известен способ обработки слитка путем оплавления поверхности . электронным лучом.

Цель изобретения — получение разнородного по химическому составу и структуре слитка.

Для этого в процессе оплавления образуют ванну жидкого металла между крнсталлизатором и сердцевиной слитка, установленного на затравке, имеющей возможность продольного и вращательного перемещения. Для получения одинаковой толщины слитка кристаллиэатору с затравкой и заготовкой сообщают вращательное или возвратно-вращательное движение вок- 19 руг продольной оси. Кроме того, для получения одинаковой толщины наплавленного металла по всему периметру плоского слитка плазматронам сообщают возвратно-поступательное дьижение, сохреияя неизменное расстояние между плаэматронами и слитком, С целью из- 5 менения химического состава или рафинирования периферийной части слитка, на зеркало ванны подают шлак и материал необходимого химсостава.

Способ осуществляют следующим образом, 20

В медном водоохлаждаемом кристаллизаторе, установленном в .плавильной камере, на специальной затравке крепится металлический слиток. Перед началом процесса верхний торец затравки совмещается с верхним торцом кристаллизатора. Поверхностный слой слитка оплавляется в контролируемой газовой среде прн помощи плазматронов, расположенных вокруг заготовки. При этом жидкий металл образует кольцевую ва нну, зеркало которой ограничено с одной стороны стенкой кристаллиэатора, а с другой — сердцевиной слитка.

Слиток в процессе оплавления непрерывно вытягивается из кристаллнзатора. Кольцевая ванна постоянно поддерживается в верхней частИ кристаллиэатора. Толщина переплавленного слоя регулируется мощностью плазматронов t скоростью вытягивания слитка.

Одинаковая толщина переплавленного слоя по всему периметру слитка достигается совместным вращением слитка, кристаллизатора и затравки, либо осуществлением их возвратновращательного движения вокруг продольной оси.

С целью получения разнородного по химическому составу слитка используют составную заготовку, состоящую из центральной, частично оплавляемой щтаЛ.и и периферийных полностью переплавляемых пластин илн прутков.

Эта же цель достигается подачей в зону планления заготовки прн помощи отдельного механиэееа их перемещения, либо равномерной подачей на зеркало кольцевой металлической ванны сыпучих легнрующих добавок при помощи дозатора. ф

124863

Формила изобретения

Состявнтеяь Т, Морозова

Техред О. Лугован Корректор С. Патрушева Редактор Н. Вояннова

Заказ 4708/5 Тнраж 693 Подннсное

ЙНИТ411И Госуяарственного коинтета Совета Мнннстров СССР по делам нзобретеннй н открьгтнй

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., а. 4/5

Фнлнал ППП яПатентв, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Э

Дополнительное рафинирование переплавл немого ме I алл,". осуп1ествляют и ри помощи шлака, непрерывно подаваемого на зеркало кольцевой, металлической ванны через дозатор.

Для получения азотнрованного слоя на слитке оплавление заготовки осуществляют в еаотсодержащей атмосфере при давлении газа в плавильной камере печи ю ниже 1 ата.

С целью раскислення металла периферийной части слитка оплавление заготовки ведут в водородсодержащей атмосфере.

В процессе оплавления плоских слитков, для получения одинаковой толщины переплавленного слоя, плазматрояы совершают возвратно-поступательное движение при неизменном расстояний между плазматронами и слитком.

1 Способ обработки слитка путем оплавления его поверхностиорб с_#_бя в вякуутне яли. контролируеаой атмосфере, отличающийся тем, что, с целью получения разнорсисяого по химФческому составу и структуре слитка, в процессе оплавления образунгг ванну жидкого металла между кристаллизатором и сердцевиной слитка, установленного на затравке, именнцей возможность продольного поступательного и вращательного перемещения.

М -2. Способ по п. 1, огличающийся тем, что, с целью получении одинаковой толщины наплавленного металла по всему периметру слитка, кристаллизатору с затравкой и заготовкой сообщак>т вращательное или возвратно-вращательное движение вокруг продольной оси.

3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что, с целью получения одинаковой толщины направленного мета.нне1 по всему периметру плоского слитка, плазматронам сообщают возвратно-поступательное движение, сохраняя . неизменное рассгояние между плазматронами и сл иткор4.

4. Способ по п. 1 отличающийся тем, что, целью изменения химического состава или рафинирования периферийной части слитка, на

® зеркало ванны подают материал необходимого химсостава и шлак,