Способ получения едких щелочей

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 27.V11.1970 (№ 1463637/23-26) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 21.XI.1972, Бюллетень № 35

Дата опубликования описания 11.1.1973

М. Кл. С Old 1/16

Комитет но делам изобретений и открытий лри Совете Министров

СССР

УДК, 661.418.2(088,8) Авторы изобретения В. П. Чвирук, Н. В. Конева, Р. В. Жирова, Ю. П. Гейд, М. И. Левинский, Г. А. Скороход, Б. А. Мовчан и В. С. Ковальчук

Заявитель,Е,С11 )ЗН "- г1

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЕДКИХ ЩЕЛОЧЕЙ

Изобретение относится к получению щелочей путем электролиза хлоридов на ртутном катоде.

Известен способ получения едких щелочей путем разложения амальгам на насадке из металла или сплава, устойчивого в условия. разлагателя, поверхность которой покрыта активным слоем карбида титана или другого сое динения.

С целью интенсификации процесса разложения амальгамы и снижения закладки ртути, по предлагаемому способу активный слой наносят только на боковую поверхность насадки, а электрический контакт между насадкой и амальгамой осуществляют нижним срезом амальгамирующейся основы насадки.

Участки насадки, не покрытые активным слоем, амальгамой натрия смачиваются и при соприкосновении насадки с амальгамой натрия обеспечивается надежный контакт.

Предлагаемый способ поясняется чертежом, на котором представлен в увеличенном виде элемент насадки горизонтального разлагателя.

Насадка горизонтального разлагателя выполнена в виде стальных пластин 1, собранных в пакет при помощи крепежных болтов 2 и дистанционных прокладок ).

Поверхность стальных пластин методом ва куумного электроннолучевого испарения активирована слоем карбида титана 4 толщиной

5 — 70 лIê. Нижняя часть пластин,) активным слоем не покрыта, вследствие чего она амальгамируется, чем обеспечивает надежность электрического контакта при любой глубине погружения насадки в амальгаму.

Реализация предлагаемого способа существенно увеличивает скорость разложения амальгамы натрия при одновременном умень шенин толщины слоя амальгамы в разлагателе, чем достигается снижение закладки ртути в электролизер.

Пример. На модели ртутного электролп зера с горизонтальным разлагателем IIcIIIITIIны образцы насадки из стали. Поверхность последней активирована слоем карбида титана толщиной 25 ик такой же насадки, с нижней части которой активный слой удален, и насадки из графита. При равенстве поверхностей насадок во всех случаях (см. таблицу) получе ны следующие габаритные плотности тока (скорости разложения амальгам) в разлагателе, 359234

Скорость разложения амальгамы, а/слР глубина погружения насадки в амальгаму

8 мм глубина погружения насадки в амальгаму

4 мм

Тип насадки

2 а/слР

5 а/слР

0,5 а/слР

2,0 а/слР

Графит

Сталь, активированная слоем карбида титана

Сталь, активированная слоем карбида титана (с нижней части насадки активный слой удален) 6 а/слР

5,5 а/слР

Составитель Н. Грехнева

Техред Л. Богданова

Редактор Н. Воликова

Корректоры: Е, Миронова и T. Медведева

Заказ 4250/!8 Изд. № 1760 Тираж 406 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий ири Совете Министров СССР

Москва,, К-35, Раугвская «ao., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Таким образом, при удалении актпвпого слоя с нижней части насадки, активированной слоем карбида титана, скорость разло>кения амальгамы натрия при толщине слоя амальгамы в разлагателе 8 и 4 мм практически одинакова и оказывается в 1,2 — 2,7 раза выше, чем в случае полного покрытия насадки актив ным слоем.

Предмет изобретения

Способ получения едких щелочей путем разложения амальгам на насадке из металла или сплава, устойчивого в условиях разлагателя, поверхность которой покрыта активным слоем карбида титана или другого соединения, отличающийся тем, что, с целью интенсификации процесса разложения амальгамы и снижения закладки ртути, активный слой наносят только на боковую поверхность насадвхи, а электрический контакт между насадкой и амальгамой осуществляют нижним срезом амальгамирующейся основы насадки.