Способ изготовления мультиплицированных фотошаблонов

Способ изготовления мультиплицированных фотошаблонов

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

О П И С А Н И Е 364920

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Реслублин

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 01.VI.1971 (№ 1663559/26-9) с присоединением заявки №

Приоритет

М. Кл. G 03(5/06

Комитет оо делам изобретений и открытий ори Совете Министров

СССР

Опубликовано 28.Х11.1972. Бюллетень № 5 за 1973

Дата опубликования описания 20.111.1973

УДК 655.229(088.8) Авторы изобретения

Г. П. Шадурский и В. А. Козлов

Заявитель

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МУЛЪТИПЛИЦИРОВАННЫХ

ФОТОШАБЛОНОВ

Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано для изготовления фотошаблонов пленочных микросхем.

Известен способ изготовления мультиплицировагеггых фотошаблонов посредством фотонабора повторяющегося рисунка с одновременной его мультипликацией с помощью растрового объектива.

Однако известный способ не позволяет изготавливать фотошаблон с различным шагом мультипликации с одним объективом.

llo предлагаемому способу с целью обеспечения возможности изготовления фотошаблонов с различным шагом мультипликации с одним объективом, перед растровым объективом размещают сменную маску из набора масок, каждая из которых обеспечивает необходимый шаг мультипликации.

На чертеже изображена функциональная схема, поясняющая предлагаемый способ изготовления мультиплицированных фотошаблонов.

Предлагаемый способ заключается в следующем. Совокупность структур 1 — 8 на фотошаблоне 4 создается фотонабором дискретных элементов 5 с использованием растрового объектива б.

Маскирование внутришаговых элементов растра достигается установкой пластины-маски 7, о или 9 перед или за растром на определенные механические базы (например, два цилиндрических штифта 10).

Работающими элементами растра будут те, против которых на пластине-маске имеются отверстия 11 диаметром не менее шага элемента растра.

Для использования таког о способа при большой номенклатуре изделий потребуются сменные пластины-маски, позволяющие оставить работающими в оптической схеме оптические элементы, расстояние между которыми равно предполагаемому шагу 12 мультипликации.

Таких пластин должно быть столько, сколько типоразмеров шагов на фотошаблонах.

Приступая к изготовлению комплекта фотошаблонов, необходимо изготавливать пластину-маску, т. е. в пластине, толщина которой (0,5 мм, просверлить отверстия диаметром не менее шага элементов растра с точностью

+ 0,1 мм, с такой же точностью на пластинемаске соблюдается шаг этих отверстий в требуемых координатах. I отовая пластина-маска устанавливается в узел, где сбазирован растр.

Затем производится генерация всех структур

30 фотошаблона методом фотонабора.

:364920

Составитель Е. Ковалева

Тскред Л. Грачева

Редактор В. Фельдл:.ан

Корректоры: Е. Денисова и T. Гревцова

Заказ 543/12 Изд. № 149 Тираж 523 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по дслам изобретений и открытий прп Совете Министров СССР

Москва, М(-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Предлагаемый способ изготовления фотошаблонов для пленочных микросхем свободен от недостатков, присущих известному способу, так как фотонабор через линзы растра позволяет создать структуру с размером, равным ходу стола, а узел растра, имеющего шаг оптических элементов, кратный ряду типоразмеров тонкопленочных схем, с помощью пластины-маски позволяет оставить работающими нужные элементы растра (в противном случае рисунки будут прерываться и портить друг друга).

Для реализации предлагаемого способа требуется фотонаборная установка, оснащенная растровым ооъективом с шагом расположения оптических элементов, кратным типоразмерам шагов на фотошаблонах пленочных схем и устройством смены пластин-масок.

Предмет изобретения

Способ изготовления мультиплицированных фотошаблоно в посредством фотонабора повторяющегося рисунка с одновременной его мультипликацией с помощью растрового объ10 ектива, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности изготовления фотошаблонов с различным шагом мультипликации с одним объективом, перед или за растровым объективом размещают сменную маску из на15 бора масок, каждая из которых обеспечивает необходимый шаг мультипликации.