Устройство для нанесения ферромагнитных пленок

Устройство для нанесения ферромагнитных пленок

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАНИЕ

И ЗОБРЕ ТЕ Н ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

За(ви(симое от авт. свидетельства ¹â€”

Заявлено 26.Х.1970 (М 1485935/22-1) с п(р(и(соединеиием ваяаки №вЂ”

Сск)а Саке)скит

Са((иалистииескиа

Респталик

365395 ;(< Ж> Я: .4- .,;

Кет()итет по делам нзавретений и ат((рытий при Совете Министров

СССР

N Кл. С 23с 13/08

Пр и о(ритет—

Опубликовано 08.1.1973. Бюллетень № 6

Дата опубликования описания 28.111.1973

УДК 621.793.14,002.51 (0SS.S) < > ((), ti;)tp, („„<<><<<><>

Авторы изобретет!ия

В. М. Галанский и Ю. В. Остапекко

Ордена Ленина институт кибсристики АН Укряипской ССР

3 аягитсль

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФЕРРОМАГHHTHbfX ПЛЕНОК

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме и может быть применено для получения ферромагнитных пленок, используемых при изготовлении запоминающих устройств вычислительной техники. 5

Известно устройство для нанесешгя ферромагнитных пленок иа немагиитные подложки, содержащее вакуумную камеру, испаритель, щелевую диафрагму, нагреватель подложек и механизм их перемещения. Однако фсррома. — 1() нитные пленки, полученные при помощи известного устройства, характеризуются разбросом магнитных свойств в результате пеизбежных изменений исходных технологи (еск!!х услов!)й в процессе напыления. 1<>

Целью изобретения является увел()пеппе проИЗЕ ОДIIТС. 1 >!!ОСТИ II БОСПРОИЗВОД11МОСТИ СБОЙСТВ пленок. )TO достигается тем, tTo механизм перемсщспия подложек выполнен в виде замкнутого транспортера, между движущимися лентамп которого дополнительно укреплен измерительный прибор, регистрирующий маги(! !.0упругость и толщину м а г11!!Тного слоя.

На черте>кс изображено предлагаемое устройство (стрелками показаны возможные иаправлевия Орие!(т)!рующего магнитного поля И).

Устройстьч> с(>стоит из вакуумной камеры 1, испарителя >. щелсвой диафрагмы 5, нагреватсля 4 подложск, а!сха!!!!за!а псрсмс!цсии51 5 0!

I.I. >:OPIITC,ibllO1 0 IIPIIt>OP3 (). PCI 11стр;!рующего магиптоупругость ll тол)цп!!(Мя(ЧШТИОГО СЛОЯ.

Мекая)!за! перемещения,) подложек Быш>лlicii Б Б)!Дс замкнутого транспортера, 113»el!3c

I ОТ ) РО 0 Заi 1>(. 11Л Сllbl КЯССЕТЫ .< Д 35! <>CT31IOBI>tt

110дложск. 1 л 1110 тря!!Спортсра и)сстс)! OnBcрст(лс > (I)0 размеру папылясмых подложс) 1. 1 13мср OTI>c(>стпя об>>> с 10влиБает llдсll т:I постi> вр Alclilt, 3 следовательно толпшпы к(;IIT(>oëbI!oé пленки Во всей партии IIBI oò3Bëè1>:1 С 1 bl Х П Л C 110 1:.. cтр0йс.п>0 работает следу(ощпм образом. !

1Ослс уст(!)к>!>кп подложек Б кассетах 7 мсХ 13 !1(Р(>1(lll(>1111!1 д ПОДЛОже К 1> 1!3К \ М.>1110)1 кямсрс / создястс51 гакуум. С помо!ць!О пягре1>;)т(, 151 << 00<. с()с<11(пясTc51 «собход!1»13 51 Tc .>I 11< p3Т< ()3 ПО,b10>I330! pCb ICTC 1 С,<11!Ток

М(TBЛ, 13 B ПСB3PIITCЛ(. (. ОДIIОБРСЪI(.П)IЫЫ ИЗМСр >1(1)л постояшюй хтаг!тито пругости конт(>05!1 !101! п,.lc ill(ll измерительным прибором 6.

110 <ОСТ11ж(>ll!111 ТРСО >са!О!1 BC, 111 1111ibl МЗГIIIIÒO пругостll, Обусловленной Определенным проке!;ТНЫМ СООТ!!О!ПС1:!1Л1 «ОМП011СНТОБ РЗСПЛявя,,1(I1T3 транспортера (закрепленными 113 ней

11<) 1, 10ii>!><1 >1 П П))Б0.11ITCЯ 1> Дl>11?КСI IIIC. Мя Г)111Т-!!I:I!i C;1O1I К01! !(. l .CIIP < СТГЯ 11;1 Кя>КДОЙ !10Д 10>l>i>C за п(сколь(;0 ("c проходов пял пспярптслсм >.

11pO!ICC ко!1:!СIIC3lill il !! (>(. I(p3 Ill3 \яilt!Al! !О, lillllilbi >13" 1111ТI!OI 0 С, 1()tl.

365395

1!pñдмст иloupcтепия

С .с!;<иите:!ь Л. Лннсн!!това! ед,«!<тор Н, Корченно Гехред Т, Миронова

1(1111ИП11 Коми <ета,ио нет!

Ми<к

<1 (<»ииит ) \ !ið i ", (си<и!< и

В результате равномерного мпогократиого прохода подложек иад испарителем магнитные свойства всей партии изготавливаемых пленок полу !аются идентичными. Из-за усрсднс.иия свойств слоев, скоидецсироваииых в последовательные проходы подложек пад пспарителсм, толщина и постояииая магиитоуируГOcTII Оказываlотся т!рак! и 1ссf

1 1,!И<:1 и !ескОС пе1)смещеIIII<. с многократио Й коидсисацисй слоев обеспечиьает пдситичиос технологические условия для всех пленок, 13 p< .. зультатс чего выравпива!отея температуриьш режим oTд<.лы!Ых ИОдложск, I, cTpBII Il0TcH перегрев подложек от радиационного излучеиия и<.парителя, с! также эффекты, связанные с угловой исодиородиостыо Орис!Игиру!ощего i10ля на значительных расстояниях 0Т центры иамагиичива 0 цей системы.

Устройство для нанесения феррома! нитиы илеио: иа иемапштш.1е подложки, содержащее ьакуумпую камеру, испаритель, щслеву:< !

О диафрагм, пагреватель подложек и л!Схаиизм псрсмлце!!!!1! подложек, отл1<чп!Ои<ееся те.il, что, с целью увеличения производ!Ителщюсти и воспроизводимости свойств пленок, мс аиизм перемсщс:!ия подложек BI.IIIo;III !I в IIII;<< замк-!

5 путого трапспортера, между;lьижу!цимися лептами которо о д<опос!Иительио укреплен изл!ер!!Тельны !! прибор, регистрирующий,Idl и!-! 0 II РУI < )СТЬ I i ТО I IIIHII .!! c! И!1ТИОI 0 СЛОЯ.