Патент ссср 413532

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

, ««

«а« "

4I3 532

ОП АНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ к.овз Соемсеа

Социалистическими

Республик

К АВТОРСИОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №

М. Кл. Н Olc 7. 02

Заявлено 23.VI.1972 (№ 1800523/26-9) с присоединением заявки ¹

Приоритет

Опубликовано 30.1.1974. Бюллетень № 4

Дата опубликования описания 4Х1.1971

Государственный комитет

Совета Министров СССЬ ао делим ивооретений и открытий

УДК 621 396 692(088 8) Авторы изобретения

Х. С. Валеев и В. Б. Квасков

Заявитель

РЕЗИСТИВНЫЙ МАТЕРИАЛ

Изобретение относится к области использования керамических полупроводниковых материалов для изготовления терморезистивных элементов с положительным температурным коэффициентом сопротивления (ТКС) — поз истор он.

Известны позисторы, изготовленные на основе полупроводникового титана бария с добавками различных редкоземельных элеменгов, применяемые в схемах температурного контроля, в роли ограничителей тока, для стабилизации характеристик транзисторов и для других целей. Они имеют низкие значения удельного сопротивления (при комнатной температуре о (104 ом см), высокие температуры синтеза и обжига (соответственно 1100—

1200 С и 1350 — 1400 С) и сложную технологию.

Цель изобретения — разработка материала с положительным ТКС, высоким удельным сопротивлением и низкой температурой обжига.

Цель изобретения достигается использованием легкоплавких окислов В12ОЗ („;, =817 С) и VqOq (t „., = 685 С) с противоположным типом проводимости.

Окись висмута обладает большим удельным объемным сопротивлением (при комнатной температуре о = 10" ом см) и примерно нулевым ТКС в интервале 25 — 85 С. В12ОЗ трудно поддается спеканию вследствие большой летучести, а также в связи с тем, что вблизи температур спекания происходит полиморфное превращение из моноклинной в кубическую структуру, сопровождающееся значительным

5 объемным эффектом.

Введение небольших количеств V Oq позволяет получить хорошо спеченньш материал с высоким положительным ТКС, величину которого можно регулировать режимом обжига.

10 Электронномикроскопические исследования показали, что появляющаяся с введением пятиокиси ванадия вторая фаза имеет тенденцию заполнять межзеренные промежутки и поры в структуре В1 0, способствуя более

15 полному спеканию.

Структурные исследования показали также, что положительньш ТКС в материалах Bi 0>—

VqO; не связан в отличие от BaTiO> с какимлибо кристаллогр афическим переходом.

Пример 1. Порошки В40в «V>Oq в соотношении 98 мол. % В40 и 2 мол. % 1 20; подвергают мокрому смешению и прессуют в таблетки диаметром 30 мм и высотой 4 мм.

25 После обжига при 780 С в течение 1,5 час полученные образцы шлифуют до толщины

1 мм. На поверхности дисков наносят электроды из серебряной пасты и вжигают при 600 С.

Полученные образцы имеют объемное элект30 росопротивление R 4,4.10 ом см при 20 С, 413532

Составитель В. Квасков

Техред 3. Тараненко

Редактор Е. Караулова

Корректор В. Жолудева

Заказ 1253/13 Изд. Ыю 1217 Тираж 760 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, 7К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

3,2 l108 ом см при 85 С и ТКС в интервале

20 — 85 С + 10%/град.

Пример. 2. Образцы состава 95 мол. %

В1гОз + 5 мол. /o ЧзОз проготовленные так же, как и в примере 1, имеют R 4,3 10 ом см при 18 С, 3 10в ом см при 24 С, 1,05.

° 10" ом см при 93 С и ТКС в интервале

24 — 93 С + 7 /о/град.

Пример 3. Образцы состава 95 мол. %

В40а + 5 мол. /о ЧвОв обжигают при 740 С в течение 1 час с последующим подъемом температуры до 780 С и дополнительным обжигом в течение 1 час, Полученные образцы имеют Я 4,5 10 ом см при 20 С, 3,2 10" ом см при 25 С 5,7 10" ом см при 102 С и ТКС в интервале 25 — 102 С + 22%/град, Предмет изобретения

Резистивный материал преимущественно для изготовления позисторов, содержащий окислы металлов, отличающийся тем, что, с целью получения высокого удельного объем10 ного сопротивления, снижения температуры обжига и упрощения технологии, он содержит

95 — 98 мол. /о окиси висмута и 2 — 5 мол. % пятиокиси ванадия.