Устройство для нанесения покрытий в вакууме на керамические основания резисторов

Устройство для нанесения покрытий в вакууме на керамические основания резисторов

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАНИЕ 1Ц 415338

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Союз Советских

Со@мвпмсткмескмх

Республнк

К ЛатОВОЮМ СВИДВтЕЛЬСте (61) Зависимое от авт. свидетечьства— (22) Заявлено 21.09.70 (21) 1476422122-1 с присоединением заявки №вЂ” (32) Приоритет—

Опубликовано 15.02.74. Бюллетень № 6

Дата опубликования описания 17.09.74 (51) М.Кл. С 23с 13/08

Государственный комитет

Соввта Министров СССР по деном изобретений и открытий (53) УД К 621.793.14.002. .51 (088.8) (72) Авторы изобретения

М. Б. Гвильман (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ

HA КЕРАМИЧЕСКИЕ ОСНОВАНИЯ РЕЗИСТОРОВ

Известно устройство для нанесения покрытии в вакууме на детали, содержащее вакуумную камеру с вращающимся барабаном, внутри которого расположен испаритель, загрузочное и разгрузочное приспособления.

Предложенное устройство отличается от известного тем, что барабан выполнен с выдвигающейся стенкой, а испаритель — в виде

«беличьего колеса», образованного рядом керамических стержнеи, служащих для размещения на них нихромовых спиралей испарителя.

Такое выполнение устройства обеспечивает автоматизацию процесса и надежность работы устройства.

На фиг. 1 представлена схема вакуумной системы предлагаемого устройства; на фиг.

2 — общий вид вакуумной камеры; на фиг.

3 — общи"; на фиг. 4 — общий вид барабана; на фиг. 5 — продольный разрез барабана.

Устройство состоит из вакуумной камеры 1 с вращающимся барабаном 2, внутри которого расположен испаритель 8, загрузочного приспособления 4 и разгрузочного приспособления 5. Барабан 2 выполнен с выдвигающейся стенкой, а испаритель 8 — в виде «беличьего колеса», образованного рядом керамических стержней б, служащих для размещения на них нихромовых спиралей 7.

Вакуумная система устройства подразде2 ляется на две подсистемы: первая обеспечивает вакуум 2 — 5 10 ал.» рт. ст. в камере 1, вторая работает попеременно: то на шлюз 8, то на шлюз 9, при этом вакуум в шлюзах

Б должен быть не хуже 10 " .ям рт. ст. К первой вакуумной подсистеме подключены форвакуумный насос 10 и паромасляный насос 11.

Посредсгвом вакуумных кранов 12 и 18 и вакуумного затвора 14 к форвакуумному насосу 10 подсоединяется только объем камеры 1 или объем наромасляного насоса 11. Ко второА вакуумной подсистеме подключен форвакуумный насос 15. Шлюзы 8 и 9 периодически подключаются к камере 1 посредством

15 вакуумных затворов lб и 17. Вакуумные краны 18 и 19 попеременно подключают к форвакуумному насосу 15 то шлюз 8, то шлюз 9.

Шлюзы 8 и 9 соединяются с форвакуумным насосом 15 посредством вакуумных кранов 18 и 19. Внутри шлюзов 8 и 9 расположены емкости 20 и 21, в которые подаются основания резисторов: перед загрузкой в барабан 2 из загрузочного приспособлсния 4 в емкость 20 при открытом затворе 22 н после металлизации из барабана 2 в емкость 21 прн открытом затворе 17.

Емкости 20 и 21 снабжены рычагами 28 и

24, служащими для поворачивания этих емкостей вокруг оси, проходящей вдоль емкоЗО сти. Такая конструкция шлюзов позволяет по415338 давать основания резисторов при открытых затворах 16 и 25 в барабан 2 и емкость разгрузочного приспособления 5. «Беличье колесо» испарителя закреплено на основании 26 испарителя. Основание испарителя после каждого цикла металли".àöèè (прогрев спирали и испарение сплава) поворачивается па угол

90--60 При этом к токоведущим контактам, установленным на держателе 27, подключается очередная спираль. Спирали 7 испарителя экранированы друг от друга посредством экранов 28. К кольцу 29 барабана прикреплены шестерня 80 для привода во вращение барабана, направляющие пластины 81, скрепляющие кольца 82 Il 88, гофры 84, способствующие равномерному перемешиванию оснований резисторов и скрепляющие боковые стенки 85 барабана. Цилиндрическая стенка Зб барабана перемещается между направляющими пластинами 81 и гофрами 84. Цилиндрическую стенку Зб барабана приводит в движение палец З7, которому после захода в сцепление с двумя кольцами сообщается прямолинейное возвратно-поступательное движение.

Г1ри открытом затворе 22 основания резисторов подают в емкость 20. Затвор 22 закрывается и производится откачка в шлюзе 8 до

10 — 3 лл рт. ст. По достижению указанной степени вакуума открывается затвор 16, емкость 20 поворачивается вокруг оси, и основания резисторов по лотку 88 попадают в барабан 2. Закрывается затвор 16 и производится

4 . в течение 1 лик откачка до 2 — 5 10 — лл рт. ст. Затем подается ток на токоведущие контакты, установленные на держателе 27, к которым подключена одна из спиралей 7. Начинается цикл металлизации. По окончанию . никла металлизации при условии, что в шлюзе 9 вакуум не хуже 10 лл рт. ст., открывается затвор 17. Приводится в движение па лец 87, который выдвигает цилиндрическую

10 стенку 86 барабана 2 вправо. При этом, оеноваши резисторов по лотку 88 подаются в емкость 21. Закрывается затвор 17. Открывается затвор 25. Емкость 21 поворачивается вокруг оси и основания резисторов просыпаются в ем15 кость разгрузочного приспособления 5. Затвор 25 закрывается. Затем процесс металлизации повторяется.

Г1редмет изобретен ия

Устройство для нанесения покрытий в вакууме на керамические основания резисторов, содержащее вакуумную камеру с вращающимся барабаном, внутри которого расположен испаритель, загрузочное и разгрузочное приспособления, отли люи1ееея тем, что„ с целью автоматизации процесса и повышения надежности рабвты, барабан выполнен с выдвигающейся стенкой, а испаритель — в виде

30 «беличьего колеса», образованного рядом к»рамических стержней, служащих для размещения на них нихромовых спиралей испарителя.

Составит«ль A. Смирпога

Редактор И. Шубина Текред А. Камыип|икопа Коррс,тор М, Л«йзермаи

3 ак 1 5 ООО8 Иад. М !ЗОО Тирагк 875 Г1одиисяое

IIIII IIIIIII Государственного копит«та Совета Мини« грои СССР

fIo делам изооретеиий и открытий

Москва, К-35, Распекая ll36., д. 4/5

Загорская типография