Способ химической счистки изделий в парах кипящего растворителя

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

|||| 424922 опНСАННЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВМДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 30.10.72 (21) 1842365/26-9 (51) М. Кл, С 23д 5 00

Н 051< 3,"26 с присоединением заявки №

Государственный комитет

Совета Министров СССР оо делам ивооретеннй и открытий (32) Приоритет

Опубликовано 25.04.74. Бюллетень Ко 15

Дата опубликования описания 04.10.74 (53) УДК 621.396.6.002 (088.8) (72) Авторы изобретения

Б. В. Ионов и А. T. Мягков (71) Заявитель (54) СПОСОБ ХИМИЧЕСКОЙ ОЧИСТКИ ИЗДЕЛИЙ

В ПАРАХ КИПЯЩЕГО РАСТВОРИТЕЛЯ

Изобретение относится к радиоэлектронике, а именно к способам химической очистки поверхности изделий B парах растворителей, и может быль использовано для очистки полупроводни oULlx пластин, дпэлектрич скпх подложек и изделий микроэлектронной техники.

Известен способ химической очистки пверхпости изделий от органически. и неорганических загрязнений в парах растворителей.

Обработка в парах ведется при температу- 10 ре конденсации растворителя, которая определяется температурой кипения.

При выравнивании температуры изделия и температуры паров растворителя процесс конденсации паров на поверхности обрабаты- 15 ваемого изделия прекращается.

При обычных условиях процесс конденсации длится не более 0,5 — 1 м|ш, что не дает необходимого эффекта паровой очистки.

С целью увеличения эффекта о п|стки при- 20 бегают к многократному чередованию циклов очистки в парах и обработки холодным растворителем.

Однако известный способ химической обработки парами растворителей характеризуется 25 низкой температурой конденсации паров, кратковременностью цикла ко;. денсации из-за прогрева изделия парами растворителя до температуры кипения жидкости, необходимостью введения холодного растворителя для 30 охлаждения изделия, что приводит к загрязнен|по ||оверхностп и к дополнительному расходу реактива, а это сущес-твенно удорожает способ.

Целью пзоорстенпя является повышение ка .ества очистки п интенсификации процесса.

Для этого 3 рабочей камере над поверхностью кипящего растворителя создают избыточное давление, постепенно увеличивающееся в течение заданного цикла очистки.

Обрабатываемые в парах растворителя изделия завешпваются в аппарат паровой обработки над зеркалом растворителя.

При зак|шанпи растворителя образуются пары с температурой кипения „„„. Изделие в первоначальный момент имеет температуру окружа|ощей среды. ГIри нор|и альных условиях t"-„,-,(t,;„„, т. е. идет процесс конденсации.

Через некоторое время изделие нагревается до температуры паров и конденсация прекращается (i :.;; < ).

Если в ргбочсм объеме увеличить давление, то температура кипения жидкости t „.:m увеличится t"- „.„-|,:,и-„а температура изделия равна Г,:„;,, значит имеются усlohlIB конденсации. Увеличение давлеш|я производят в течение задаш|ого цикла. При снятии давления происходит высушивание п l3cl llllbl, так как 1;„||(1 „-„. Например, проводилась срав424922

11редмет изобретения

Составитель Б, Ионов

Редактор А. Зиньковсклй

Корректоры: А. Николаева и Л. Корогод

Техред Е. Борисова

Заказ 2670/10 Изд. № 785 Тираж 875 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, )К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 нительная очистка поверхности ситалловых подложек, на которые были нанесены равные капли глифталевой смолы, в парах над поверхностью нормально кипящего растворителя (при атмосферном давлении) и при плавном увеличении избыточного давления от 0 до

G атм в течение 15 мин.

Б качестве растворителя использовался раствор фреон F = 1 13: фреон Š— 30: изопропиловый спирт =40% V; 40% V: 20% V. Растворение смолы определялось визуально по исчезновению капли смолы. При очистке з парах над поверхностью нормально кипящего растворителя время конденсации составляло 40 сек, после чего пластину опускали в холодный растворитель (/=20 С) на 15 сек.

Цикл очистки в парах кипящего растворителя составил 40 мин, а при избыточном давлении — 2 мин.

Способ хи.", пиеской очистки изделий в парах кипящего растворителя, отличающийся тем, что, с целью повышения качества очистки и интенсификации процесса, в рабочеп камере над поверхностью кипящего растворителя создают избыточное давление, постепенно увеличивающееся в течение заданного цикла очистки.