Устройство для напыления прямоугольных интерференционных клиньев

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОП И Е <п> 4378l5

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союэ Советских

Социалистимеских

Реслублик (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 27.07.72 (21) 1815106/26-9 с присоединением заявки № (32) Приоритет

Опубликовано 30.07.74. Бюллетень № 28

Дата опубликования описания 09.01.75 (51) М. Кл. С 23с 15/00

Государственный комитет

Совета Министров СССР оо делам изобретений и открытий (53) УДК 539. 23.002.5 (088.8) (72) Авторы изобретения

К. А. Рамазанов, 3. А. Кузнецова, В. А. Гендин и В. С. Лавренов (71) Заявитель (54) УС1РОЙС1 ВО ДЛЯ НАПЫЛЕНИЯ ПРЯМОУГОЛЬНЫХ

ИНТЕРvEjr EНЦИОННЫХ КЛИНЬЕВ

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может применяться для нанесения покрытии ме одом термического испарения при изготовлении интерференционных фильтров.

Известно устройство для напыления прямоугольных интерференционных клиньев, содержащее вакуумную камеру, иснарители, подложкодержатели и поворогный механизм.

Недостаток известногo устройства состоит в том, что оно малопроизводительно и имеет сложную конструкцию. l rðè использовании устройства возможно нанесение слоев лишь переменной толщины, а следовательно, изготовление лишь диэлектрических клиновидных фильтров, и невозможно получение металлодиэлектрических фильтров, где требуется чередование слоев переменной и постоянной толщины.

14ель изобретения — упрогцение конструкции и повышение производительности устройства.

Эта цель достигается тем, что держатель подложек выполнен в виде снабженной регулировочным винтом онравы, которая установлена на подставку в виде усеченного под углом полОГО цилиндра, размещенноГО в Гнезде зуочатОГО колеса, взаимодейству ощего C зубчатым сектором механизма вращения.

На чертеже изображено предлагаемое устройство.

Устройство состоит из вакуумной камеры (на чертеже не показана), размещенных в неи испарителей и держателей напыляемых подложек. Держатель подложек выполнен в виде установленной, на подставку в форме усеченного под углом полого цилиндра 1 оггравы 2, представляющей собой круглый металлический диск с посадочным местом 3 для покрываемых подложек 4 и регулировочным винтом 5 для подрегулировки угла наклона подложек.

Устройство ставится в посадочное место 6 вращающегося держателя деталей подколпачной арматуры, Для нанесения слоев равномерной толщины устройство ставится в посадочное место обращенным высокой стороной цилиндра к центру вакуумной камеры, т. е. к оси 7 вращения арматуры.

Испаритель 8 размещается так, чтобы в среднем расстояние между испарителем и двумя концами покрываемой подложки за полный оборот деталей вокруг оси 7 вращения оставалось одинаковым. Для этого испаритель 8 ставится против удаленного конца подложки.

Для нанесения слоя переменной (клиновидной) толщины устройство при том же угловом положении подложек ставится обращенным низкой стороной цилиндра к оси 7 вращения, а испаритель 8 помещается против

437815

Предмет изобретения

Составитель К. Рамазанов

Техред T. Курилко

Корректоры: Л. Корогод и В. Петрова

Редактор М. Бычкова

Заказ 3577/5 Изд. № 1872 Тираж 875 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

3 опущенного конца подложки. В этом случае сохраняется постоянная разность между расстояниями испарителя и точками поверхности подложек.

Устройство поворачивается без нарушения вакуума с помощью механизма, состоящего из вращающегося шлифа 9 с секторной шестеренкой 10. При вращении шлифа с секторной шестеренкой поворачивается оправа 6 вместе с устройством.

Спектральный диапазон длин волн клиновых фильтров определяется количеством испаряемого вещества и материалом подложек, а ширина спектрального диапазона регулируется углом наклона подложек, устанавливаемым высотой цилиндра и регулировочным винтом, Устройство для напыления прямоугольных интерференционных клиньев, содержащее вакуумную камеру и размещенные в ней испарители и держатели напыляемых подложек, связанных с механизмами вращения, отлич -" ю щ е е с я тем, что, с целью упрощения конструкции и повышения производительности устройства, держатель подложек выполнеп в виде снабженной регулировочным винто л оправы, которая установлена на подставку .в виде усеченного под углом полого цили дра, размещенного в гнезде зубчатого ко..еса, взаимодействующего с зубчатым сектором механизма вращения.