Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Е о е о о р ) э;: g y

Яйтентно

3 - i <,ФФ (11) 44483

ОП АНИЕ

ИЗОЬЕЕТЕНИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 09.07,71 (21) 1681407/22-1 (51) М. Кл. С 23с 13/08 с присоединением заявки №

Государственный комитет (32) Приоритет

Опубликовано 30.09.74. Бюллетень № 36

Дата опубликования описания 26.09.75

Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 621.793.14. .002.51 (088.8) (72) Авторы изобретения

Б. А. Шапочкин, В. H. Сергеев, Г. И. Голубева, И. E. Павлов, А. М. Клочков, Б. В. Кириенко, В. С, Григорьев и К. А. Левинских (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для получения слоев веществ неравномерной толщины на поверхности заготовок.

Известно устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее камеру, внутри которой расположены источник материала-покрытия, маска, нагреватель и диск, выполненный с возможностью поворота и снабженный гнездами для крепления заготовок. 10

В таком устройстве технологический процесс изготовления асферических оптических деталей осуществляется в два этапа, за два цикла откачки вакуумной установки. При первом цикле откачки на поверхность нагре- 15 тых заготовок наносится подслой вещества равномерной толщины для достижения прочного сцепления его с подложкой. После окончания этой операции вакуумную установку приходится разгерметизировать, чтобы уста- 20 новить маску, необходумую для нанесения неравномерного по толщине слоя. Затем вновь осуществляют цикл откачки и наносят слои вещества неравномерной толщины.

Цель изобретения — повышение производи- 25 тельности процесса нанесения слоев переменной толщины путем разделения зон нагрева и асферизации заготовок.

Для этого диск в предлагаемом устройстве снабжен нечетным количеством гнезд, а пово- зо рот диска выполнен с угловым шагом 0 =

4 —, где и — число гнезд для крепления и заготовок.

На чертеже изображено предлагаемое устройство для нанесения покрытий в вакууме.

Устройство состоит из камеры 1, внутри которой расположены источники 2 и 3 материала-покрытия, предназначенные один для нанесения подслоя, другой — для слоев переменной толщины, маска 4, нагреватель 5, диск 6, снабженный гнездами для крепления заготовок 7 и выполненный с возможностью

4;. поворота с угловым шагом 0 =, где и— и число гнезд для крепления заготовок, вспомогательный поворотный диск 8 для установки плоскопараллельных пластинок 9, используемых в качестве контрольных образцов толщины слоев, фотометров, включающих проекционные линзы 10, приемники 11, фильтры 12 и лампы накаливания 13. Маска 4 приводится во вращение приводом 14 и устанавливается на неподвижном плато 15.

Описываемое устройство работает следующим образом.

Заготовки 7, подлежащие асферизации, помещают в установочные позиции поворотного диска 6 и центрируют относительно оси маски 4. В отверстия вспомогательного диска 8

444833 закладывают контрольные плоскопараллельные пластинки 9. Источники испарения 2 и 3 заряжают испаряемыми веществами и начинают очистку вакуумной установки. При достижении необходимой степени разрежения начинают цикл асферизации всех заготовок 7.

Диск снабжен нечетным количеством позиций, например семью, для установления асферизу емых заготовок.

Полный цикл асферизации имеет следующую последовательность операций: нагрев заготовки на позиции 1 до заданной температуры и поворот диска 6 против часовой стрелки на

4к угол 0 = через одну установочную пози7 цию основного диска 6 (в результате этого нагретая заготовка попадает на позицию Ш, а на позицию 1 вводится следующая заготовка); нанесение подслоя на заготовку на позиции Ш, нагрев заготовки на позиции 1 и поворот диска 6 на очередной угол О (очередная заготовка попадает на позицию I, нагретая заготовка — на позицию Ш, а заготовка с нанесенным подслоем на позицию V); нанесение асферизующего слоя на заготовку с подслоем на позиции Ч; нанесение подслоя на заготовку на позиции Ш, нагрев заготовки на позиции 1 и очередной поворот основного диска на угол О.

Таким образом, готовое изделие попадает на позицию П, где не подвергается повторному нагреву. Далее операции повторяются до тех пор, пока не будут асферизованы все детали.

Контроль толщины наносимого подслоя и асферизующего слоя осуществляется с помощью фотометров по толщине испаряемого вещества, оседающего на плоскопараллельных пластинках 9. Когда на пластинке 9 толщина слоя возрастает до определенного значения и амплитуда сигнала на регистрирующем устройстве (например, УФ-206) сильно уменьшается, что делает затруднительным дальнейший контроль толщины наносимого на заготовку 7 слоя или подслоя, пластинку 9 заменяют на следующую вращением вспомогательного диска 8.

Предмет изобретения

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее камеру, внутри которой расположены источники материала-покрытия, маска, нагреватель и диск, выполненный с возможностью поворота и снабженный гнездами для крепления заготовок, о т л и ч а ющ е е с я тем, что, с целью повышения произ водительности процесса нанесения слоев пе ременной толщины путем разделения зон на грева и асферизации заготовок, диск снабжен нечетным количеством гнезд, а поворот диска

30 4z выполнен с угловым шагом 0 =, где ив и число гнезд для крепления заготовок.

444833

А- A

-1O

Составитель А. Анисимов»

Техред Н. Куклина

Редактор Е. Шепелева

Корректор E. Рогайлина

Типография, пр. Сапунова, 2

Заказ 2310/1 Изд. № 1556

ЦНИИПИ Государственного комитета по делам изобретений и

Москва, Ж-35, Раушская

Тираж 875 Подписное

Совета Министров СССР открытий наб., д. 4/5