Антистатический слой для светочувствительных фотографических материалов

Антистатический слой для светочувствительных фотографических материалов

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСА

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

<п1 4460l7

Союз Советских

Социалистических

Республик (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 08.06.72 (21) 1795125. 23-4 с присоединением заявки № (32) Приоритет

Опубликовано 05.10.74. Бюллетень № 37

Дата опубликования описания 05.03.75 (51) М. Кл. G 03с 1/82

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 77.021.55 (088.8) (72) Авторы изобретения

Н. С. Спасокукоцкий, А. H. Евдокимов-Скопинский, T. В. Буяновская, А. Н. Перепелкин, Р. А. Сорокина, В. Н. Зайцева, А. С. Воронов, Я. Б. Ладыженский, Э. М. Коган и Г. Г. Кардаш

Всесоюзный государственный научно-исследовательский и проектный институт химико-фотографической промышленности, Научно-исследовательский институт органических полупродуктов и красителей и Научно-исследовательский кинофотоинститут (71) Заявители (54) АНТИСТАТИЧЕСКИЙ СЛОЙ ДЛЯ СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ ФОТОГРАФИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ

Изобретение относится к антистатическому слою для светочувствительных фотографических материалов, применяемых в кинопромышленности.

Светочувствительные фотографические материалы, в частности пленки, представляют собой сравнительно тонкий (10 — 30 мкм) слой дисперсии светочувствительного вещества в гидрофильном связующем (галогенид серебра в желатине или диазосоедипение в ацетдфталате целлюлозы), нанесенный обычно . а сравнительно толстые (100 — 250 мкм) основы гидрофобного характера (нитро- или ацетилцеллюлоза, лавсан).

Гидрофобные материалы, как правило, являются хорошими диэлектриками и легко заряжаются статическим электричеством в процессе изготовления или при трении. При накоплении статического электричества в больших количествах в подходящих условиях, например при высыхании в результате хранения в атмосфере с пониженной влажностью, возможно образование микроискр, засвечивающих отдельные участки светочувствительного слоя, что приводит к появлению брака при обработке таких материалов.

Для предупреждения этого явления покрывают основу со стороны, противоположной светочувствительному слою, специальным антистатическим лаковым слоем, сравнительно хорошо проводящим электрический ток.

Известны антистатические слои для светочувствительных фотографических материалов, включающие анионные, катионные или амфотерные поверхностно-активные вещества, а также различные анионные и катионные полимерные электролиты, например полимерные производные четвертичных азотистых солей, 10 ттааккииее, как поли-4-винилбензилтриэтиламмонийхлорид и его производные.

Однако при использовании указанных соединений в чистом виде антистатический слой приобретает липкость. При добавлении свя15 зующего они диффундируют в нем, и попадая на поверхность слоя, придают ему липкость и способность прочно прилипать к гидрофильному светочувствительному слою, что приводит к отслаиванию светочувствительного или ан20 тистатического слоя от подложки и соответственно к повреждению получаемого изображения.

Известен также антистатический слой, включающий сополимеры четвертичных аммо25 ниевых оснований с мономерами, содержащими активные группы, например с р-хлорацетоксиэтиловым эфиром акриловой кислоты, в который перед поливом вводят сшивающие агенты с двумя функциональными группами, 446017 сополимеры теряют способность к диффузии.

Однако сшивающие агснты, как правило, имеют низкий молекулярный вес и легко диффундируют. Поэтому их необходимо брать в избытке. Но при хранении фотоматериала в рулоне, когда антистатический слой оказывается в контакте со светочувствительным слоем, возможна диффузия сшивающих агентов в светочувствительный слой, что приводит к ухудшению его физико-механических и фотографических свойств.

Цель изобретения — предупреждение диффузии полимерных солей четвертичных аммониевых оснований в антистатическом слое и устранение его слипания со светочувствительным слоем — достигается тем, что в антистатический слой вводят смесь полимерной соли четвертичного аммониевого основания и полимерного связующего, содержащих взаимнореагирующие реакционноспособные группы, Полимерную соль четвертичного аммониевого основания и полимерное связующее предпочтительно берут в соотношении 5: 1 — 1: 5.

Примерами полимерных солей четвертичных аммониевых оснований являются сополимер

4-винилбензилтриэтиламмонийхлорида с 4винилбензилхлоридом (А), поли-4-винилбензилдиэтил-2, 2 -диметоксиэтиламмонийхлорид (Б) и 4-винилбензилдиэтил-2,3 — эпоксипропиламмонийхлорид (В), причем вещество А следует применять со связующим, содержащим свободные амино- или амидогруппы, например с желатиной (I) или полигексаметиленадипамидом (II), вещество Б — со связующим, содержащим окси- или карбоксигруппы, например с сополимером (III) винилиденхлорида, акрилонитрила, метакриловой кислоты и ее метилового эфира или полиэфирной смолой (IV) из смеси о- и терефталевых кислот и этиленгликоля, а вещество  — со связующими, содержащими свободные окси-, амино-, амидо- или карбоксигруппы, например с I, 4

EI, Ш или EV.

Пример 1. 2 г полиэфирной смолы, содержащей 25 /< o-фталевой кисaiu i oi, i о / > Терефталевой кислоты и 100 / этиленгликоля (получена полиэтерификацией смеси указан- 5 ных веществ), растворяют на холоду в 4 мл тетрахлорэтана.

1 r соединения Б растворяют на холоду в

4 мл этилового спирта. Весовое отношение смола: антистатик равно 2 1.: 5

Оба раствора смешивают при периодическом перемешивании, вводят 92 мл метиленхлорида, фильтруют и наносят лаковый слой обычным способом на обратную сторону подслоированной лавсановой основы из расчета 6

0,2 — 0,5 r сухого слоя на 1 м . Удельное поверхностное электрическое сопротивление лаковых слоев определяют на приборе КЗТ по методике, разработанной ГосНИИхимфотопроектом, При относительной влажности 65 / для у

3 способными реагировать с активными группами сополимеров, такие, как диамины, диэпоксиды или дибромиды. В результате сшивки

4 лаковых слоев без антистатика и содержащих соединение Б (предлагаемый антистатик) и поли - 4 — винилбензилтриэтиламмонийхлорид (известный антистатик) оно составляет 1 ° 10", 5 5 10 и 5 10 ом соответственно.

Для определения теплостойкости по методике ГосНИИхимфотопроекта 1970 г. лаковый слой приводят в контакт со светочувствительным слоем, термостатируют 2 час в клима10 тической камере при 60 (; с предварительным кондиционированием при температуре 20 С и относительной влажности 65 /о. Чистоту поверхности светочувствительного слоя определяют визуально.

15 В отсутствии антистатика и при использовании предлагаемого антистатика на поверхности светочувствительного слоя выявлены лишь незначительные дефекты.

Вследствие диффузии известного антиста20 тика на поверхности светочувствительного слоя заметно большое количество дефектов, связанных с сильной адгезией лакового слоя к желатиновому.

Качество проявленного изображения опре2 деляют путем равномерной засветки и последующего проявления светочувствительной галогенсеребряной пленки, на обратную сторону которой нанесен антистатический лаковый слой. В присутствии предлагаемого антиста30 тика и в отсутствие антистатика на проявленном изображении обнаружены лишь незначительные дефекты.

В присутствии известного антистатика вследствие диффузии последнего на проявлен35 ном изображении наблюдается большое количество дефектов в виде темных пятен, полос и точек, Таким образом, при введении в лаковый слой поли-4-винилбензилдиэтил - 2, 2 — ди40 метоксиэтиламмонийхлорида удельное поверхностное электрическое сопротивление снижается так же, как и при введении известного антистатика. Однако слои, содержащие предложенный антистатик, не обладают лип5 костью и не влияют на качество проявленного изображения. Кром того, поли-4-винилбензил/ / диэтил - 2, 2 - див .етоксиэтиламмонийхлорид значительйо лучше совмещается с пленкообразующей полиэфирной смолой, в результате

0 чего на пленке получается прозрачное лаковое покрытие без малейших следов высаживания.

Пример 2. 0 5 г соединения Б растворяют в 3 мл метилового спирта, при периодическом перемешивании вводят в раствор 0,1 г тройного сополимера винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата (65: 18: 16) в 5 мл диметилформамида, добавляют 70 мл метиленхлорида, фильтруют., наносят на лав11 сановую основу из расчета 0,2 — 0,5 г сухого слоя на 1 м и сушат. Пленки испытывают, как в примере 1.

При введении соединения Б удельное поверхностное электрическое сопротивление снижается (2 10 ом, без антистатика 2,4 ° 10"ом), 446017

Предмет изобретения

Составитель Э. Рамзова

Редактор Т. Шарганова Техред В. Рыбакова Корректор Т. Хворова

Заказ 395/3 Изд, № 297 Тираж 529 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Я-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Теплостойкость лакового слоя при 60 С практически одинакова с теплосгойкостью лака без антистатика (слипания не обнаружено).

Пример 3. К раствору 150 г ацетальдегида в 150 мл хлороформа при (— 10)— — (— 15) С в течение 3 час добавляют 540 г брома, размешивают 2 час при температуре не выше — 5 С, в течение 5 час добавляют

1 л метанола, выдерживают двое суток при комнатной температуре, разбавляют 500 мл воды, отделяют нижний слой, сушат над прокаленным сульфатом натрия и отгоняют в вакууме 286 г бромацетальдегиддиметилацеталя, т. кип, 43 — 45 С/16 мм, содержание брома 47,5 /о.

68 г бромацетальдегиддиметилацеталя, 35 г диэтиламина и 62 r безводного поташа нагревают при энергичном размешивании и кипятят

50 — 60 час с обратным холодильником до полного замещения брома на диэтиламин. После охлаждения фильтруют и отгоняют в вакууме 60 г диэтиламиноацетальдегиддиметилацеталя, т. кип. 38 — 42 С/5 мм, содержание азота 8,6%.

100 г полистирола (средний мол. вес 5000—

35000) при 15 — 20 С растворяют в 100 мл мо:нохлордиметилового эфира, при энергичном размешивании добавляют 35 — 40 г измельченного плавленого хлористого цинка, перемешивают 5 час при 20 — 30 С, при размешивании и охлаждении выливают тонкой струей в

15 мл метанола или 50 /о-ного водного раствора метанола, отфильтровывают осадок, промывают его водой до нейтральной реакции по конго и затем метанолом. Отжатый осадок поливинилбензилхлорида сушат в вакууме при

25 — 30 С до постоянного веса. Выход 125 г.

Содержание хлора 19 — 23%.

Раствор 10 г поливинилбензилхлорида в

80 мл ацетона нагревают до 40 — 50 С, добавляют при размешивании 30 г диэтиламиноацетальдегиддиметилацеталя и 20 мл этилового спирта, перемешивают 15 час при 40 — 45 С, охлаждают до 10 — 15 С и выливают в 500 мл серного эфира, Вязкий светло-желтый осадок отделяют, промывают 100 мл эфира, растворяют в 150 мл метанола или в 100 мл воды и фильтруют через картонный фильтр. Выход поли-4-винилбензилдиэтил - 2, 2 - диметокси5 этиламмонийхлорида 11,5 — 15,9 г.

При длительном хранении раствора качество антистатика ухудшается. В этом случае рекомендуется высушивать водный раствор антистатика в сублимационной сушилке при низ1О ких температуре и давлении. Для этого 10—

20%-ный раствор поли-4-винилбензилдиэтил2, 2 - диметоксиэтиламмонийхлорида наливают в эмалированные кюветы (толщина слоя не более 6 мм), охлаждают до 0 — (— 3) С, по15 мещают кюветы с раствором в сублимационную камеру, охлажденную до (— 5)— — (— 10) С, и создают вакуум (1 — 3 мм).

В первые 4 час сушки в камере поддерживают температуру — 10 С, затем постепенно повы20 шают ее до 20 С. Общая продолжительность сушки 15 час. Высушенный продукт имеет пористую структуру, достаточно хрупок и содержит 4 — 6/ влаги, 3,2 — 3,7/о азота и 10,5—

12,3 /р хлора.

1. Антистатический слой для светочувствительных фотографических материалов, вклю30 чающий полимерную соль четвертичного аммониевого основания, содержащего реакционноспособные группы, отличающийся тем, что, с целью устранения слипания антистатического слоя со светочувствительным

35 слоем и предупреждения диффузии полимер:ных солей четвертичных аммониевых оснований, в антистатический слой введена смесь полимерной соли четвертичного аммониевого основания и полимерного связующего, содержа40 щих взаимнореагирующие реакционноспособные группы.

2. Слой по п. 1, о тл и ч а ю шийся тем, что полимерная соль четвертичного аммониевого основания и полимерное связующее взя45 ты в соотношении 5: 1 — 1: 5.