Комплексообразователь для электролитического осаждения металлов

Комплексообразователь для электролитического осаждения металлов

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОП И ЙЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ i 46I976 сОюз СОнетских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Зависимое от авт. свидетельства— (22) Заявлено 22.06.71 (21) 1672182/22-1 с присоединением заявки №вЂ” (32) Приоритет—

Опубликовано 28.02.75, Бюллетень № 8

Дата опубликования описания 12.12.75 (51) М. Кл. С 23Ь 5/00

С 23b 5/10

С 23Ь 5/14

С 23Ь 5/18

С 23b 5/26

С 23Ь 5/30 (53) УДК 621.357.7:

:621.3.035.444 (088.8) Государственный комитет

Совета Министров СССР оа делам изобретений н открытий (72) Лвтор изобретения

E. Е. Кравцов (71) Заявитель (54) КОМПЛЕКСООБРАЗОВАТЕЛЬ ДЛЯ

ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ОСА)КДЕНИЯ МЕТАЛЛОВ

30 — 55

0,5 — 1

Н.1" С вЂ” 1. 1, Й и пС Л 3H

Изобретение относится к области гальвапостегии, в частности к электролитическому осаждению цинка, кадмия, олова, меди, серебра и индия.

Известны комплексные электролиты для электрохимического осаждения металлов, например цианистые, пирофосфатные и др.

Предлагается применять в качестве комплексообразователя З-метилпиразол.

Это позволяет расширить инпервалы рабочих плотностей тока.

Комплексообразователь, согласно изобретению, представляет собой 3-метилпиразол структурной формулы: который получают из отхода ацетиленового производства диацетилена путем взаимодействия последнего с гидразином.

Изобретение может бып ь проиллюстрировано следующими примерами.

Пример 1. Для осаждения цинка применяют электролит, который имеет следующий состав, г/л:

Сернокислый цинк, водный 25 — 30

3-метилпиразол

Серная кислота (уд, вес 1,84)

Едкий натр (20%-ный раствор) До рН 45 — 5

Электролит готовят следующим образом. Раствор сернокислого цинка добавляют к расчетному копичеству 3-метилпиразола при перемешивании, а затем вводят серную кислоту. Последним добавляют раствор едкого

)0 патра и доводят раствор водой до необходимого объема.

Из данного электролита при плотности тока 4 — 8 а/дм и температуре 25 — 40 С осаждаются светлые, мелкокристаллические, плот15 ные осадки цинка, хорошо сцепленные со сталью.

Пример 2. Кадмирование проводят из электролита, содержащего, г/л:

Сернокислый кадмий, водный 35 — 45

20 3-метилпиразол 30 — 40

Серная кислота (уд. вес 1,84) 8 — 11 при плотности тока 1 — 3 а/дм и комнатной температуре.

При этом получаются светлые, мелкокрн25 сталлические, прочно спепленные с основой осадки кадмия.

При нагревании электролита до 50 С и поремешивании катодную плотность тока можно поднять до 4 — 6 а/дм2, зс Пример 3. Для нанесения оловянных по461976

Предмет изобретения

Составитель В. Лебедева

Техред Т. Курилко Корректор T. Добровольская

Редактор Е. Шепелева

Заказ 5053 Изд. № 1333 Тираж 966 Подписное

ЦНИИПИ Государственного. комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Я-35, Раушская наб., д. 4/5

МОТ, Загорский филиал

3 крытий приготавливают электролит, г/л:

Сернокислое олово 35 — 45

3-метилпиразол 15 — 25

Серная кислота (уд. вес. 1,84) 30 — 40

Едкий натр (20%-ный раствор) 25 — 35 (мл/л)

Осаждение олова ведется при плотности тока 1 — 2 а/дм и комнатной температуре.

Пример 4. Осаждение меди ведут из электролита, содержащего, г/л:

Медь сернокислая, водная 60 — 80

3-метилпиразол 53 — 73

Серная кислота (уд. вес 1,84) 140 — 175

Из данного электролита на сталь осаждаются блестящие осадки меди при комнатной температуре и плотности тока 1 — 3 а/дм, а при перемешивании — до 8 а/дм .

Для улучшения сцепления со сталью проводят предварительную обработку стали, за. ключающуюся в анодной поляризации в течение 5 мин в растворе следующего состава, г/л:

Ортофосфорная кислота 200

Серная кислота (уд. вес 1,84) 50

Хромовый ангидрид 10 при плотности тока 10 а/дм- и температуре 18 — 25 С.

Нанесенное затем медное покрытие прочно сцеплено со сталью.

Пример 5. Серебрение проводится в электролите, содержащем, r/ë:

Азотнокислое серебро 30 — 65

3-метилпиразол 180 †4

Азотная кислота 80 — 205 при плотности тока 2 — 4 а/дм и температуре 50 — 60 С.

10 При этом получаются плотные мелкокристаллические осадки, прочно сцепленные с основой, Пример 6. Для индирования готовится электролит следующего состава, г/л:

Кислый сернокислый индий 200 — 250

3-метилпиразол 150 †2

Серная кислота дорН3 — 5

Электролиз ведется при плотности тока

2 — 7 а/дм и комнатной температуре.

25 Применение 3-метилпиразола в качестве комплексообразователя для электролитического осаждения металлов.