Электролит для гальванического наращивания медного покрытия

Электролит для гальванического наращивания медного покрытия

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

1i 11 474572

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Соеетскик

Социалистических

Республик (61) Дополгп1тельное к авт. свнд-11, (22) Заявлено 05.03.73 (21) 1889515, 26-21 (51) М. Кл. С 23с 3, 02

|| 051 3/06 с присоединением заявки М

Совета Министров СССР ло делам изобретений и открытий (53) УДК 621.3.049.075 (088.8) Опубликовано 25.06.75. Бюллетень М 23

Дата опубликования описания 16.09.75 (72) Авторы изобретения

В. А. Хамаев и Н. Н. Нефедова (71) Заявитель (54) ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКОГО НАРАЩИВАНИЯ

МЕДНОГО ПОКРЪ|ТИЯ

Государственный комитет (23) Приоритет

Изобретение относится к технологии электроосаждения металлов, преимущественно для получения проводящих элементов микросхем.

Известен электролит для гальванического наращивания медного покрытия с использованием импульсного тока, содержащий соль меди, например сернокислую медь, и кислоту, например серну ю.

Однако полученные из него осадки меди обладают большой кристаллической шероховатостью, увеличивающейся с ростом средней за период плотности тока. Поэтому осадки в дальнейшем подвергают химическому полированию для повышения чистоты поверхности. Поднять плотность рабочего тока выше

2 А/дма не удается, так как резко увеличивается кристаллическая шероховатость покрытия.

Целью изобретения является увеличение скорости осаждения покрытия и улучшение качества покрытия.

Для этого в электролит введен окислитель, например бихромат калия, при следующем соотношении исходных компонентов, г/л:

Сернокислая медь 150 †2

Серная кислота (плотность 1,87) 50 — 70

Бихромат калия 10 — 20.

Процесс электроосаждения ведут при импульсном токе, в частности пульсируюн1ем, промышленной частоты с длительностью импульса и паузы 10 мсек.

5 Изобретение может быть проиллюстрировано примером.

Электрохпмическое осаждение меди проводится в электролите, содержащем, в г/л:

Сернокислую медь 200

10 Серную кислоту 50

Бпхромат калия 10.

Питание ванны осуществляют пульсирующим током промышленной частоты. Темпера15 тура электролита комнатная.

В качестве анодов используют свинцовые пластины. Катодом может служить металлизированная вакуумно-термическим способом диэлектрическая подложка. В диапазоне

20 плотностей тока 3 — 10 А/дм получаются блестящие осадки меди с чистотой металла, близкой к F12.

Снижение средней за период плотности то25 ка (до 0,5 — 1 А/дм ) приводит к стравливанию медного покрытия ha катоде в результате взаимодействия меди с К2Сг 07, имеющимся в электролите. Увеличение плотности тока более 10 А/дм приводит к образованию по

ЗО краям электрода подгаров.

474572

Предмет изобретения покрытия, в например бисоотношении

150 †2

50 — 70

10 — 20.

Составитель T. Богдалова

Техред Л. Казачкова

Редактор А. Зиньковский

Корректор О. Тюрина

Заказ 2308Ч4 Изд. Ке 823 Тираж 966 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, )К-35, Раушская наб., д, 4/5

Типография, пр Сапунова, 2

Электролит для гальванического наращивания медного покрытия с использованием импульсного тока, содержащий соль меди, например сернокислую медь, и кислоту, например серную, отличающийся тем, что, с целью увеличения скорости осаждения покрытия и улучшения качества электролит введен окислитель, хромат калия, при следующем исходных компонентов, г/л:

5 Сернокислая медь

Серная кислота (плотность 1,87)

Бихромат калия