Способ легирования халькогенидного стекла
Иллюстрации
Показать всеРеферат
Союз Советских
Социалистических
Республик Н И Е < 475094
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
ВАТЬ фощ 3:ИЫП
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свил-ву
2 (5 I ) M. Кл. (22) Заявлено 12.12.72 (2l ) 1 85554Я/26-2 л
В О) Z (7/00 с присоединением заявки .%—
Государственный момнтет
СССР оо делам мзобретвммй
w открытей (23) Приоритет
Опубликовано 1 з.10.79. Бюллетень М Зй
Яата опубликования описания "0.10. 70 (53) УДК 621.382 (0HR.R) (72) Авторы изобретения
Б, Т, Копоглиеп,, Г, A, A ндрее ва, Э. А. Л ебеде в, И. А. Такс амь и В. Х. Шпунт
О)здена Ленина физико-технический институт им. A. ф. Иоффе (7l ) Заявитель (54) СПОСОБ ЛЕГИРОВАНИЯ ХАЛЬКОГЕНИДНОГО СТЕКЛА
Способ пегирования халькогенидного стекла путем осуществления контакта с
Изобретение относится к полупроводниковой технологии.
Известные методы пегирования, напри мер диффузии, обеспечивают равномерное и постепенное изменение состава и
5 свойств пегируемого материала. При резком локальном изменении состава легируемого вещества можно получить новые свойства в легируемой области.
Бель изобретения — создание локальных новообразований, состоящих из исходного и легирующего материалов, обладающих новыми свойствами.
Это достигается тем, что осуществляют контакт пегируемого материала с легирующим металлом. После чего прикладываются импульсы электрического напряжения, амплитуда которых равна или больше напряжения переключения исходного халькогенидного стекла, при этом длитель- ность импульсов напряжения устанавливают меньше времени образования проводящих кристаллических каналов в исходном халькогенидном стекле. В качестве пеги зуемого материала берут диэлектрик ипи халькогенидное стекло, а в качестве легирующего материала — серебро, платину, индий.
Пример. На графитовую подложку наносят слой хапькогенидного стекла.
Легируюшим электродом выбирают серебро. Между пегирующим электродом и халькогенидным стеклом прикладывают импульсы электрического напряжения, амплитуда которых равна или больше напряжения переключения исходного халькогенидного стекла. При этом легирование должно происходить быстрее, чем образование проводящих каналов. В местах контактов образуются локальные новообразования.
Они имеют большую прочность и отличаются от исходного материала. формула изобретения
»»егируюкчим материалом и приложения импульсов электрического напряжения, амплитуда которых равна или больше напряжения переключения исходного хялькогенипного стекла, о т л и ч я ю щ и й- s с я тем, что,с целью получения локяльо4 4 ных новообразований, сo(.òîÿ»»»»»õ из хял»,— когенидного стекля и легиру»о»»»его материала, длительность импульсов пяпряжения устанавливают ме»п,ше време»п» образования проводяп»их кристаллических каналов в исходном хялькогенидном стекле.
Составитель A. Адонин
Редактор Е. Месроповя Техред М. Петко Корректор М. немчик
Заказ 6286/57 Тираж 877 Подписное
ПНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
11Э035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Филиал ППП "Патент, r. Ужгорода ул. Проектная, 4