Электролит вольфрамирования

Электролит вольфрамирования

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

(:) n И Г.. А Н И Е» 478889

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 18.05.73 (21) 1922409/22-1 с присоединением заявки №вЂ” (23) Приоритет—

Опубликовано 30.07.75. Бюллетень № 28

Дата опубликования описания 24.02.76 (51) М. Кл. С 23Ь 5/30

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 621.357.7:669. .278 (088.8) (72) Авторы изобретения

В. А. Павловский, В. С. Балихин, В. А. Резниченко и

Е. Д. Доронькин

Институт металлургии им. А. А. Байкова (71) Заявитель (54) ЭЛЕКТРОЛИТ ВОЛЬФРАМИРОВАНИЯ

Хаз%0зРз 40

30 Na CI 60.

Изобретение относится к области электролитического осаждения металлических покрытий, в частности к области осаждения вольфрамовых покрытий из расплавленных сред.

Известен электролит вольфрамирования, содержащий расплав соединения вольфрама, например вольфрамата щелочного металла, и хлорида щелочного металла.

Предлагаемый состав электролита отличается от известного тем, что в качестве соединения вольфрама он содержит оксифторвольфрамат щелочного металла.

Это позволяет повысить пластичность и чистоту вольфрамовых покрытий.

Согласно изобретению, электролит имеет следующий аостав, вес. %:

Оксифторвольфрамат щелочного металла 20 — 50

Хлорид щелочного металла 50 — 80

Оксифторвольфрамат щелочного металла

МезЮОзРз получают сплавлением стехиометрических количеств фторида щелочного металла и вольфрамового ангидрида.

Процесс осуществляют в инертной атмосфере при температуре 850 — 950 С и катодной плотности тока 0,01 — 0,05 а/см . Анодная плотность тока составляет 0,001 — 0,05 а/см2.

Для получения прочного сцепления покрытия с основой покрываемое изделие перед осаж2 дением покрытия оорабатывают анодно при плотности тока 0,01 — 0,05 а/см в течение

0,5 — 1 час.

После окончания процесса полученное по5 крытие обрабатывают 1 — 3%-ным раствором щелочи, затем нейтрализуют 1%-ным раствором соляной кислоты и промывают дистиллированной водой.

Полученные вольфрамовые покрытия обладают плотностью литого вольфрама н отличаются высокой чистотой (пр11меси кислорода и углерода менее 0,002%, водорода и азота менее 0,001 %), что обеспечивает низкую твердость и высокую пластичность покрытий. При этом можно получать покрытия различной толщины вплоть до нескольких миллиметров при сохранении их качества.

Предлагаемый состав электролита позволяет осаждать вольфрамовые покрытия на медные подложки без образования на ннх

Ю-бронз и может быть использован для получения вольфрамовых изделий методом гальванопластики.

Пример. Для осаждения вольфрама на

25 поверхность молибденовой проволоки диаметром 0,5 мм использова 111 электролит 0става, вес. %.

478889

4 материалов с никелевой композиционных матрицей.

Составитель Л, Казакова

Техред 3. Тараненко

Редактор Е. Шепелева

Корректор Л. Денискина

Заказ 7686 Изд. ЛЪ 1664 Тираж 966 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР ио делам изобретений и открытий

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

NOT, Загорский филиал

Процесс осуществляли при температуре

930 С, катодной плотности тока 0,2 а/см2 и анодной 0,05 à/см . Перед осаждением Iloкрытия проводили анодную обработку при плотности тока 0,01 а/см2 в течение 1 час. В результате было получено плотное вольфрамовое покрытие, прочно сцепленное с ос»овой, толщиной от 10 до 50 мкм в зависимости от количества пропущенного электричества.

Покрытия, полученные из предлагаемого состава электролита отличаются высокой коррозионной стойкостью в различных агрессивных средах, в том числе в расплаве никеля, что дает возможность использовать такие покрытия в производстве жаропрочных

Предмет изобретения

Электролит вольфрамирования, содержащий расплав соединения вольфрама и хлорида щелочного металла, отличающийся тем, что, с целью повышения пластичности и чистоты покрытий, в качестве соединения воль1и фрама в электролит введен оксифторвольфрамат щелочного металла при следующем содержании компонентов, вес. /о:

Оксифторвольфрамат щелочного металла 20 — 50

)5 Хлорид щелочного металла 50 — 80.