Установка для химической обработки пластин

Установка для химической обработки пластин

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

И .", с

ОПИС А-НИЕ

ИЗОЬЕЕтЕНИЯ оп 479830

Союз Советских

Соцналнстнческнх

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 22.01.73 (21) 1874164/22-1 с присоединением заявки ¹ (23) Приоритет

Опубликовано 05.08.75. Бюллетень № 29

Дата опубликования описания 26.12.75 (51) M. Кл. С 231 1/08

Государственный комитет

Совета Министров СССР ло делам изобретений (53) УДК 621 794 41 (088.8) и аткрытнй (72) Авторы изобретения

И. А. Троицкий, Н. П. Замбровский, Л. М. Элиосов, Г. И. Мамаев и Б. К. Афанасьев (71) Заявитель (54) УСТАНОВКА ДЛЯ ХИМИЧЕСКОИ ОБРАБОТКИ

ПЛАСТИН

Изобретение относится к устройствам для обработки поверхностных слоев пластин в жидких реактивах.

Известна установка для химической обработки пластин в жидких реактивах, содержащая пооточную ванну с прозрачной крышкой и корпусом, столик для обрабатываемых пластин и систему подачи раствора. Однако известная установка не пригодна для обработки плоских пластин сравнительно большого размера (48)(60 мм) с высокими требованиями по равномерности обработки, так как более интенсивной обработке подвергается зона изделия,:непосредственно прилегающая к подающему реактив каналу.

Цель изобретения — повышение качества обработки пластин путем обеспечения .постоянного по глубине и равномерно распределенного по всей поверх ности пластины потока реактива. Это достигается тем, что столик выполнен съемным с двумя треугольными пазами, образующими со стенками корпуса два

BepTlHKBJIbHbIx щелевых канала, сообщающихся основанием треугольного паза с полостью ванны, а вершиной — с цилиндрическими каналами,корпуса.

На фиг, 1 представлена принципиальная схема установки; на,фиг. 2 —,вертикальное сечение ванны; на фиг. 3 — разрез по А — А на фиг. 2; на фиг. 4 — расположение симметричных треугольных пазов.

Установка включает ванну 1 химической обработки пластин, насос 2 для подачи химических реактивов, бак 3 для деионизованной воды и арматуру, состоящую из блоков пневмоуправляемых запорных вентилей 4 — 11 и системы трубопровода 12. Все элементы установки, контактирующие с реактивами, выпол10 иены из фторопласта.

Ванна 1 содержит корпус 13, представляющий собой плату, в которой, выполнены цилиндрические каналы 14 и 15 для подачи 1в

15 ванну, реагентов с кранами 16 и 17 для регулирования интенсивности потока, крышку

18,с прозрачным сводом 19, через который осуществляется визуальный контроль за ходом процесса, и вмонтированный в плату 13

20 съемный столик 20 с двумя треугольными пазами 21, образующими со стенками корпуса

13 два вертикальных щелевых канала 22, сообщающихся основанием паза 21 с полостью ванны, а вершиной — с цилиндрическими ка25 налами 14 и 15 корпуса 13. Такое, выполнение обеспечивает плавное расширение потока:реактива и его равномерное распределение по поверхности обрабатываемых изделий, Герметичное прижатие крышки 18 к корпусу 13

80 производится с помощью замка 23. В про479830 ипнизЯанная

Ф л ииии

Ю кпнплазпцаю

3 цессе обработки изделие (пластина) 24 укладывается на съемный столик 20.

Ручкой замка 23 герметично прижимается крышка 18 к корпусу 13. При включении насоса 2, вентилей 6, 8 и 11 реактив подается в ванну через цилиндрический канал 15, образуется поток, направленный слева — направо.

Использованный реактивов сливается в бак насоса, При,включении вентилей 4, 6 и 8 реактив в ванну подается через цилиндр ический канал 14, образуется поток, направленный справа — налево. Оператор наблюдает за ходом процесса через прозрачный свод крышки, периодически изменяя направление потока, обеспечивая равномерность обработки и изменяя его интенсивность регулируемыми кранами 16 и 17, После окончания химической обработки включением вентилей 4, 6 и 10 ванна и трубопроводы продуваются чистым воздухом или азотом. Включением вентилей 5 и 9 производится подача в,ванну из бака 3 деионизованной воды, промывающей обработанное издел ие 24, а также внутреннюю полость ванны и всех магистралей.

Предмет изобрегения

k?

Установка для химической обработки,пластин в жидких реактивах, содержащая проточную ванну с прозрачной крышкой и корпусом с цилиндрическими каналами, столик

ip для обрабатываемых пластин и систему подачи раствора, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества обработки пластин путем обеспечения постоянного по глубине и равномерно распределенного по всей поверхности пластины потока реактива, столик выполнен съемным с двумя треугольными пазами, образующими со стенками корпуса два вертикальных щелевых .канала, сообщающ ихся основанием треугольного паза с поло2о стью ванны, а вершиной — с цилиндрическими каналами корпуса.

479830

Редактор О. Филиппова

Типография, пр. Сапунова, 2

//цИ репкт

Составитель И. Саакова

Техред Т. Курилко Корректор А. Степанова

Заказ 3110/4 Изд. № 996 Тираж 966 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5