Устройство для нанесения фоторезистивных пленок

Устройство для нанесения фоторезистивных пленок

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Союз Советских

Социалистических

Республик

О П И С А Н И Е <»I480040

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (б1) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 04.04.73 (21) 1905640/26-21 с присоединением заявки №вЂ” (23) Приоритет—

Опубликовано 05.08.75. Бюллетень № 29

Дата опубликования описания 2б.11.75 (51) М. Кл. Ст 03с 1/74

Н 05k 3/28

5осударствеииый комитет

Совета Министров СССР оо делам изобретений и открытий

{53) УДК 621.396.6. .002.5 (088.8) (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ

ФОТОРЕЗИСТИВНЫХ ПЛЕНОК

Предмет изобретения

Изобретение относится к устройствам для нанесения тонких, пленок из жидких материалов,,преимущественно фоторезистивных пленок, на плоские лодложки при изготовлении полупроводниковых и гибридных интегральных схем, фотошаолонов, масок и друппх изделий микроэлектроники.

Известны устройства для нанесения фоторезистивных пленок, содержащие установленный на шпинделе .патрон для .подложек, ва- 10 куумную систему для отсоса воз духа и приводной механизм .вращения шпинделя.

Цель изобретения — повышение произ водительности устройства и качества пленок— достигается тем, что патрон предлагаемого устройства выполнен в,виде установленных одна над другой полок, скрепленных вертикальными штангами, причем н штангах H полках выполнены ка налы, соединенные вакуумной системой.

На фиг. 1 изображено описываемое устройство, вид .опереди;;на фиг, 2 — сечен te Ito

А — А.

Патрон для подложек 1 представляет собой установленные одна над другой полки 2, на которых закреплены столики 8. Полки скреплены через кольца 4;вертикальными штангами 5 с помощью гаек 6 с нижней полкой 7 и верхней полкой 8. Для фиксации подложек 1 в штангах 5 и лолках 2 имеются каналы, соединенные через центральный канал ,шпинделя 9 c,âàêóóìíoé системой, Верхняя лолка содержит зонт 10 и гнездо для установки .свооодно вращающегося, центра 11 lllptt .водного механизма шпинделя 9.

Устройство работает следующим образом.

Подложки 1 укладывают на столики 8 фиксируют на ннх с помощью вакуумного присоса. После одновременной выдачи дозы раствора фоторезпста на верхние поверхности всех обрабатываемых подложек шшпндель

9 атриводится,во вращение с помощью приводного механизма, и фоторезистивная пленка наносится на подложки, После остановки шпинделя вакуумный присос отключают, и обработанные подложки снимают со столиков ,патрона.

Устройство для нанесения фото резистнвных,пленок, содержащее установленный .на шпинделе патрон, служащий для размещения тюдложек, вакуумную систему,для отсоса воздуха н приводной механизм вращения шпинделя, от,гичающееся тем, что, с целью повышения его производительности II качества пленок, патрон выполнен в виде установлен480040

Составитель Н. Блинкова

Техред Т. Курилко

Редактор Б. Федотов

Корректор В. Гутман

Заказ !081/1539 Изд. № 916 Тираж 529 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, )К-35, Раушская наб., д. 4/5

Тип. Харьк. фил. пред. «Патент»

Яык Одна над дрУГОЙ полок, СЯепленных между собой, вертикальными штангами, причем в IIITBHTBx и полках выполнены каналы, соади ненные с вакуумной системой.