Способ оптической проекционной фотолитографии

Способ оптической проекционной фотолитографии

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

О П И C А Н И Е (1ц481871

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено23.05.73 (21}1920779/18-10 (51) М. Кл. Q 03 ь 2 7/32

В 41ттт3/О8 с присоединением заявки №

Государственный намитет

Совета Министров СССР по делам изооретений и открытий (23) Приоритет (43) Опубликовано25.08.75 Бюллетень № 31 (53) УДК 776. 4(088.8) (45) Дата опубликования описания 2О О1 7

Н. H. Беспутит.а и Г. Я. Шевченко (72) Авторы изобретения (71) Заявитель (54) СПОСОБ ОПТИЧЕСКОЙ ПРОЕКЦИОННОЙ

ФОТОЛИТОГРАФИИ

Изобретение относится к фотолитографии, применяемой в производстве полупроводниковых приборов.

Известны способы оптической проекционной фотолитографии путем проекцирования изображения одного фотошаблона на пластину, покрытую фоторезистом.

Для установления влияния случайных дефектов экранирующего покрытия фотошаблона из хрома при проекционной перепечатке его изображения на пластину по предлагаемому способу проецируют на пластину два одинаковых, точно совмещенных по рисунку и жестко закрепленных между собой фотошаблона.

Таким образом дефекты одного фотошаблона перекрываются сплошным полем друго.

ro.

Предмет изобретения

Способ оптической проекционной фотолитографии путем проекционной печати изображения фотошаблона с экранируюшим покрытием из хрома на пластину, о т л ич а ю ш и и с я тем, что, с целью устранения влияния случайных дефектов экрани рующего покрытия фотошаблона, проецируют на пласгину два одинаковых, точно совИ мешенных но рисунку и жестко закрепленных между собой фотошаблона.