Способ электрохимического осаждения иридия

Способ электрохимического осаждения иридия

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

О П И С А Н И Е »> 502979

И3ОБРЕТЕ Н ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (61) Дополнительное к авт. свпч-ву— (22) Заявлено 12.07.74 (21) 2045312/22-1 с присоединением заявки ¹â€” (23) Приоритет— (43) Опубликовано 15.02.76. Бюллетень № 6 (45) Дата опубликования описания 15.02.77 (51) М. Кл е С 25D 3j66

Государственный комитет

Саавта 1ииннотроа СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 621.357.7:669. .232.8 (088.8) (72) Авторы изобретения

А. Н. Барабошкин, Н. А. Салтыкова, А. А. Куранов, Е. В. Пальгуев, П. H. Сюткин и Н, И. Тимофеев

Институт электрохимии Уральского научного центра АН СССР (71) Заявитель (54) СПОСОБ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ

ИРИДИЯ

Изобретение относится к области электрохимического получения металлических покрытий, в частности, металлов платиновой группы из расплавленных сред.

Известен способ электрохимического осаждения иридия из расплава хлористых солей.

При проведении электролиза по известному спосооу протекает разложение электролита, концентрация иридия в расплавс через несколько часов падает до нуля, а иридий, осаждающийся на катоде, пе образует компактного покрытия и представляет собой порошок, осыпающийся с поверхности катода.

Предложенный способ отличается от известного тем, что над расплавом поддерживают атмосферу хлора при парциальном давлении

0,001 — 1 атм.

Указанное отличие обеспечивает повышение качества покрытий и стабильности процесса.

Согласно изобретению осаждение иридиевых покрытий осуществляют из расплава хлористых солей калия, натрия и цезия, содержащего 0,1 — 20 вес. % иридия, при температуре

400 †8 С, катодной плотности тока 0,001—

0,1 а/см и парциальном давлении хлора над расплавом 0,001 — 1 атм. Хлор подают из внсшнего источника. Стабильная концентрация иридия в расплаве обеспечивается за счет использования растворимого придиевого анода или при нерастворимом аноде за счет взаимодействия иридиевого скрапа, введенного в расплав, с растворенным хлором. В качестве материала ванны используют кварц, керамические оксидные материалы (алунд, фарфор, окись бериллия и т. п.) или углеродистые материалы (графит, стеклоуглсрод). Токоподводы к катоду и аноду и нерастворимый «вод делают пз углеродистых материалов.

Предложенный способ обеспечивает получение иридиевых покрытий толщиной до нескольких миллиметров. Выход по току в расчете на иридий составляет 60 — 70%. Микротвердость покрытий 250 — 270 tò/ìì .

Изобретение может быть использовано в электронной и космической технике, приборостроении, например, для защиты тугоплавких материалов от высокотемпературной коррозии в окислительной среде, П р и м ер 1. Электроосаждением из распл зва хлористых солей калия, натрия и цезия (24,5: 30,0: 45,5 мол. % соответственно), содержащего 2 вес. % иридия, при 590 С, плотности тока 0,04 а/см в атмосфере хлора на графите получен ровный, сплошной слой иридия толщиной 500 мкм.

Пример 2. Электроосаждением из расплава хлористым солей калия, натрия, и цезия, содержащего 1,5 вес. % иридия, при 550 Г и зо плотности тока 0,05 а/сме с ирндпевым анодом

502979

С оста внтслв А. Рычагов

Теvред Т. Курилко Корректор И. Позняковская

Редактор Э. Шибаева

Заказ 5195 Изд. № 1245 Тираж 1068 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, iK-35, Раушская наб., д. 4/5

МОТ, Загорский филиал

3 в атмосфере хлора в течение 5 час. получен сплошной, ровный слой иридия толщиной

200 мкм. Выход по току составляет 70 /о или

1,б7 г!а-час. Концентрация иридия в расплаве не изменяется и при последующем электролизе в течение двух недель.

Формула изобретения

Способ электрохимического осаждения иридия из расплава хлористых солей, от.lUчаюи1ийся тем, что, с целью повышения каче5 ства покрытий и стабильности процесса, над расплавом поддерживают атмосферу хлора при парциальном давлении 0,001 †атм.