Состав для пленочного фоторезиста

Состав для пленочного фоторезиста

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАН ИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

<т1> 52338

Союз Советскик

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт, свид-ву (22) Заявлено 23.05.72 (21) 1787861/04 с присоединением заявки Ке (23) Приоритет (51) М. Кл 6 ОЗС 1/68

Государственный комитет

Совета Министров СССР (53) УДК 771.53(088.8) по лелем изонретений Опубликовано 30.07.76. Бюллетень М 28 и открытий

Дата опубликования описания 04.08.76 (72) Авторы изобретения

В. П. Шерстюк, Г. Г. Хорт, Л. М. Карачунская и Л. Д. Гузь (71) Заявитель

Всесоюзный научно-исследовательский и проектный институт химической промышленности (54) СОСТАВ ДЛЯ ПЛЕНОЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА

1 — 30

5 — 20

Изобретение относится к области фоторезистов, использующихся в радио и микроэлектронике для получения печатного монтажа, печатных схем, микросхем.

Известен состав пленочного фоторезиста на основе олигомера, раствора светочувствительного полимера — полиамидной смолы в смеси с мономером в этиловом спирте, инициаторе фотополимеризации, ингибитора, сенсибилизатора. Однако известный фоторезист имеет нестабильные свойства и малые технологические возможности; токсичен.

С целью увеличения разрешающей способности фоторезиста и увеличения адгезии к подложке предлагают в состав для пленочного фоторезиста на основе олигомера, светочувствительного полимера, инициатора фотополимеризации, сенсибилизатора и ингибитора дополнительно вводить пластификатор— бутанол.

Предлагаемый состав содержит в качестве олигомера, например, этиленгликольдиметакрилат, светочувствительного полимера — полиамид, мономера — метакриловую кислоту.

В качестве инициатора фотополимеризации в предлагаемый состав вводят бензоин или его метиловый эфир, или бензоинформальдегидную смолу.

В состав вводят в качестве сенсибилизатора и ингибитора термической полимеризации краситель, например метиленовый синий.

Компоненты в предлагаемом составе ис5 пользуют в следующем соотношении, вес. ч.

Олигомер, например этиленгликольметакрилат 18 — 26

Светочувствительный полимер †полиамидн смола 100

Мономер, например метакриловая кислота 36 — 52

Фотоинициатор, например бензоин

Пластификатор — бутанол

15 Сенсибилизатор и ингибитор, например краситель метиленовый синий 0,01 — 2

Растворитель, например этиловый спирт 300 †4

20 Композицию такого состава наносят на полиэтилентерефталатную пленку, слой высушивают и к нему прикатывают защитную полиэтиленовую пленку. Адгезия слоя хорошая к обеим пленкам. Перед использованием пле25 ночного резиста полиэтиленовую пленку отделяют и резистный слой прикатывают вместе с полиэтилентерефталатной пленкой к подложке, фоторезист экспонируют через фото523380

Формула изобретения

Составитель Б. Сорокин

Корректор Н. Аук

Редактор Т. Никольская

Техред Е. Подурушина

Заказ 1698!12 Изд. И 1509 Тираж 575 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, K-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 графический негатив или позитив, необлученные участки вымывают спиртовым проявляющим раствором. Получают четкое изображение с оголением медных участков, которые вытравливают раствором хлорида железа или подвергают гальванической обработке.

Предлагаемый состав пригоден для изготовления пленочного фоторезиста, представляющего собой светочувствительную пленку, помещенную между двумя защитными полимерными пленками, одна из которых прозрачна для УФ-света.

Этот состав при применении в качестве пленочного фоторезиста в производстве радиоэлектронных плат печатного монтажа обеспечивает высокую разрешающую и выделяющую способность светочувствительного слоя, устойчив к травящим растворам и средам гальванических ванн, сохраняет светочувствительность при нанесении на медную подложку и имеет адгезию к ней.

Предлагаемый состав позволяет проводить фотополимеризaöèþ в фоторезистном слое на медненных платах, несмотря на ингибирующее действие подложки. Фоторезист, полученный пз предлагаемого состава, стоек к гальваничсской обработке и к травящим средствам.

5 Состав для пленочного фоторезиста на основе олигомера, например этиленгликольди метакрилата, раствора светочувствительного полимера — полиамидной смолы в смеси с мономером, например метакриловой кисло

10 той, в этиловом спирте, инициатора фотопо. лимеризации, например бензоина, сенсибилизатора и ингибитора, например метиленового синего, отличающийся тем, что, с целью увеличения разрешающей способности фото15 резиста и увеличения адгезии к подложке; в его состав дополнительно введен в качестве пластификатора бутанол при следующем соотношении компонентов, вес. о/ .

Олигомер 18 — 26

Полиамидная смола 100

Мономер 36 — 52

Инициатор 1 — 30

Бутанол 5 — 20

Сенсибилизатор и ингиби25 тор 0,01 — 2

Этиловый спирт 300 — 400