Способ изготовления масштабных шкал беспаралаксного отсчета на экранах электроннолучевых трубок

Способ изготовления масштабных шкал беспаралаксного отсчета на экранах электроннолучевых трубок

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

О П И С А Н И Е (11 533998

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Севе Советских

Социалистических

Республик (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 03.07.74 (21) 2044332/25 с присоединением заявки № (23) Приоритет

Опубликовано 30.10.76. Бюллетень ¹ 40

Дата опубликования описания 3.11.76 (51) М. Кл.-" Н 01J 31/08//

Н 01J 29/18

Государственный комитет

Совета Министров СССР (53) УДК 621.3.032.757 (088.8) Ilo делам иаооретеиий

t и открытий (72) Авторы изобретения

Б. М. Иванына и Э. Г. Гутрайх (71) Заявитель (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАСШТАБНЫХ ШКАЛ

БЕСПАРАЛАКСНОГО ОТСЧЕТА НА ЭКРАНАХ

ЭЛЕКТРОННОЛУЧЕВЫХ ТРУБОК

Изобретение относится к области электронной промышленности, а именно к изготовлению масштабных шкал беспаралаксного отсчета на внутренней поверхности экранов электроннолучевых трубок, имеющей отклонение от плоскостности, кроме того, боковые стенки (борта), и может найти применение в тех областях техники, где требуется изготовление масштабных шкал, измерительных растров, визирных сеток, линейчатых рисунков, например, в приборостроении, геодезии, военном деле и для декорирования изделий из стекла, металла, пластмассы — в легкой промышленности.

Известно изготовление масштабных шкал методом фотографирования, по которому экспонирование производят через прозрачный материал (полиметилметакрилат), однако, этот способ не позволяет получать четкое изображение линий заданного размера (1).

Наиболее близким техническим решением к изобретению является способ изготовления масштабных шкал экранов электроннолучевых трубок (2), включающий фотоэкспонирование через пленочный негатив, проявление и отжиг.

Однако этот способ оказывается неприемлемым для нанесения штрихов и линий заданной ширины на внутреннюю поверхность экранов электроннолучевых трубок, имеющих борта и отклонение от плоскостности, из-за трудностей создания контакта неровностей подложки с фотошаблоном. При этом, например, масштабная шкала с определенными размерами линий (шириной порядка 0,20 — 0,25 мм), 5 расположенная на внутренней поверхности экрана и близко (на 1,0 — 2,0 мм) подступающая к его бортам, не выдерживается одинаковой и четкой по всему рабочему полю экрана, что не удовлетворяет предъявляемым к изде10 лию требованиям.

Целью изобретения является получение масштабных шкал беспаралаксного отсчета высокой четкости с заданными размерами линий по всей внутренней поверхности экранов элек15 троннолучевых трубок, например, ограниченной бортами. Поверхность может иметь отклонения от плоскостности, например, до 0,5 мм на рабочей площади порядка 100 120 (мм).

Цель достигается путем фотоэкспонирова20 ния через двухслойный полимерный вкладыш, состоящий из слоя полиметилметакрплата и слоя полиэфируретана, причем размещают вкладыш таким образом, чтобы слой полиэфпруретана прижимал пленочный негатив к

25 =-крану электроннолучевой трубки.

Достоинство способа состоит в том, что фотоэкспонирование ведут через полимерный вкладыш HH основе полиэфпруретана и полиметилметакрплата, обеспечивающий более на30 дежный контакт экспонируемой поверхности с

533998 "5% ф" х х";, С с ф Я

Составитель E. Пчелов

Техред 3. Тараненко

Редактор H. Коляда

Корректор Л. Котова

Заказ 2317/13 Изд. № 1736 Тираж 963 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, 7К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 негативом (позитивом) и имеющий оптимальное светопропускание в необходимом для фотопечати диапазоне спектра.

На чертеже представлена схема выполнения масштабных шкал беспаралаксного отсчета по предлагаемому способу, где 1 — полимерный. вкладыш (1 а слой полиметилметакрилата, 1 б — слой полиэфируретана), 2 пленочный негатив, 3 — светозащитная оправка, 4 — экран электроннолучевой трубки, 5 — суспендированный слой цветной эмали, 6 — 7— копировальная рама.

Предлагаемый способ изготовления масштабных шкал беспаралаксного отсчета на внутренней поверхности экранов ЭЛТ выполняется следующим образом. В экраны, предварительно обезжиренные хромовой смесью, 10%-ным раствором щелочи, затем промытые водопроводной и обессоленной водой, через капроновый фильтр заливается водно-силикатная суспензия цветной эмали. После выдержки в течение часа просветленнгяй раствор сливается и высушенное покрытие очувствляется раствором 6%-ного поливинилового спирта, хромированного в отношении 1: 5.

В экраны с высушенным очувствленным покрытием помещается пленочный негатив с полимерным вкладышем и производится экспонирование в копировальной раме при вакууме

1 10 — мм рт. ст. Полученное изображение проявляется и отжигается при температуре

560 †5 С.

Масштабные шкалы, полученные о зисанным способом, отличаются высоким качеством изображения — четким контуром линий и рисок заданной ширины (0,2 — 0,3 мм), равномерностью свечения по всему рабочему полю при подсветке в торец и необходимыми физико-химическими характеристиками (химо-, термостойкостью, диффузно-рассеивающими свойствами, мел кодисперсной структурой) .

Формула изобретения

Способ изготовления масштабных шкал беспаралаксного отсчета на экранах электроннолучевых трубок методом контактной свето15 печати, включающим фотоэкспонирование через пленочный негатив, проявление и отжиг, отл и ч а ю щи и ся тем, что, с целью получения четкого изображения линий заданных размеров по всей поверхности экрана, фотоэкспо20 нирование проводят через двухслойный полимерный вкладыш, состоящий из слоя полиметилметакрилата и слоя полиэфируретана, причем размещают вкладыш таким образом, чтобы слой полиэфируретана прижимал пленоч25 ный негатив к экрану электроннолучевой трубки.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:

30 1. Патент CLUA № 3.683.225, кл. 313 — 92, 1972.

2. Патент ФРГ № 1.217.507, кл. 21g 13/25, 1966 (прототип) .