Устройство для введения в корпус первичного элемента заполнителей
Иллюстрации
Показать всеРеферат
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ п1 5403 I I ьоюз ьоветских
Социалистических
Республик (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 13,06.73 (21) 1929758/07 с присоединением заявки № (23) Приоритет
Опубликовано 25.12.76. Бюллетень № 47
Дата опубликования описания 09.02.77 (51) М. Кл 2 Н 01М 6/68
Н 01М 4/00
Государственный коми-c:
Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 621.352.32 (088.8) (72) Авторы изобретения Ф. Х. Набиуллин, В. А. Рабинович, Е. М. Герцик и И. И. Коваль (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВВЕДЕНИЯ В КОРПУС ПЕРВИЧНОГО
ЭЛЕМЕНТА ЗАПОЛНИТЕЛЕЙ
Известно устройство для введения в корпус первичного элемента заполнителей, содержащее мундштук с концентрической полостью и центральным каналом для подачи материалов ионопроводящей диафрагмы и отрицательного электрода. Изобретение широко применяется в элементной промышленности, а именно при изготовлении первичных элементов А343 «Салют»-2 и А332 «Ореол»-2.
Однако при длительной эксплуатации этого устройства материал ионопроводящей диафрагмы истекает из мундштука не в виде трубки, а в виде гофрированной трубки.
В результате того, что внутри элемента гофры, в отдельных случаях, не расправляются, уменьшается контактная поверхность между положительным электродом и ионопроводящей диафрагмой, что приводит к снижению удельных электрических характеристик элемента.
Цель изобретения — повышение удельных электрических характеристик элемента.
Это достигается тем, что концентрическая полость выполнена с переменным сечением, причем со стороны выхода заполнителя из мундштука отношение величины зазора к толщине диафрагмы в элементе равно, примерно
1: 1, а отношение величины зазора на остальной цилиндрической части к зазору на выходе равно, например, 1: 2.
На чертеже приняты следующие обозначе. ния предлагаемого устройства.
1 — материал ионопроводящей диафрагмы;
2 — материал отрицательного электрода; 3 и
5 4 — напорные магистрали; 5 и 6 — штоки; 7 и
8 — поршни; 9 — мундштук с концентрической полостью «а» и центральным каналом «б»;
10 — корпус; 11 — толкатель; «в» — зазор на выходе заполнителей из мундштука; «г»вЂ”
1о толщина диафрагмы в элементе; «д» — зазор на цилиндрической части.
Устройство работает следующим образом, Заполнители — материал 1 ионопроводящей диафрагмы и материал 2 отрицательного эле15 ктрода из соответствующих напорных магистралей 3 и 4 поступают в замкнутый объем, образованный штоками 5 и 6 и поршнями 7 и 8, оттуда перепрессовываются через концентрическую полость «а» и центральный канал «б»
20 мундштука 9 внутрь корпуса 10 элемента, надетого на мундштук 9 толкателем 11.
Концентрическая полость «а» мундштука 9 выполнена с переменным сечением, причем со
25 стороны выхода заполнителя из мундштука отношение величины зазора «в» к толщине диафрагмы в элементе «г» вЂ” равно, примерно, 1: 1, отношение величины зазора на остальной цилиндрической части «д» к зазору на выходе
ЗО «в» равтто, примерно, 1: 2.
540311
Формула изобретения
Составитель В. Гордон
Редактор Л. Гребенникова Техред И. Карандашова Корректор Л. Денискина
Заказ 3019/11 Изд. № 375 Тираж 963 Подписное
ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий
113035, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2
При таком выполнении концентрической полости «а» мундштука 9 истечение материала ионопроводящей диафрагмы из него происходит равномерно, без образования гофров.
Отсутствие гофров обеспечивает полное контактирование между диафрагмой и положительным электродом, что улучшает и стабилизирует удельные электрические характеристики.
Устройство для введения в корпус первичного элемента заполнителей, содержащее мундштук с концентрической полостью и центральным каналом для подачи материала ионопроводящей диафрагмы и отрицательного электрода, отл ича ю щееся тем, что, с
5 целью повышения удельных электрических характеристик элемента,,концентрическая полость выполнена с переменным сечением, причем со стороны выхода заполнителя из мундштука отношение величины зазора к толщине
10 диафрагмы в элементе равно, примерно, 1: 1, а отношение величины зазора на остальной цилиндрической части к зазору на выходе равно, например, 1: 2.